2023年12月12日（火）13：00～16：15（オンライン開催）

第54回UV/EB技術入門講座実践編

期　　日：2023年12月12日（火）13：00～16：15
開催形式：オンライン（ZOOMシステム）による講演

＜プログラム＞※プログラムは変更になる場合がございます。　　　　　　　　　　　　（敬称略）
１）13：00～13：55（質疑応答含む）
　　「誘導自己組織化（DSA）による半導体微細加工に向けたブロック共重合体の基礎と材料開発」
　　　　東京工業大学　　　早川　晃鏡
次世代半導体微細加工技術の一つであるブロック共重合体による誘導自己組織化（Directed Self-Assembly, DSA）の基礎と新規材料開発を含む先端研究までを紹介する。
　　13：55～14：10　休憩　

２）14：10～15：05（質疑応答含む）
　　「i線用化学増幅型3成分レジストの開発」
　　　　大阪公立大学　　　堀邊 英夫
半導体デバイスの高密度化は著しい速度で進んでおり、より微細なパターンを短時間で加工するには、高解像度・高感度のレジストが必須である。ここでは、i線用化学増幅型3成分レジストについて紹介したい。大学に異動する前には電機メーカで64MDRAM用の化学増幅型レジストの材料・プロセス開発に携わり、大学と企業での研究そのものの比較についても触れたい。
　　15：05～15：20　休憩　

３）15：20～16：15（質疑応答含む）　
　　「液晶物質の光配向プロセスと新たな展開」
　　　　名古屋大学　 　　　関　隆広
現在、液晶ディスプレイの生産には光配向技術が多く使われている。液晶配向技術はアゾベンゼン分子膜による表面光配向制御の学術的な発見に端を発している。こうした研究背景と、最近の光配向の展開について解説する。

終了いたしました。

＜講演資料＞
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