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Japanese Research Association for Surface Finishing by UV, EB, Laser, and Ion BeamsPartners of RadTech North America and RadTech Europe


一般社団法人 ラドテック研究会

講演会Lecture Cource

2017年8月~プログラム<会員の皆様>  ※会員外の方はこちらをクリック

「第156回ラドテック研究会講演会」2018年4月26日(木)13:00~17:00 
会場:東京理科大学神楽坂キャンパス1号館17階/記念講堂

第156回講演会は下記のプログラムに決定しました。この講演会が、皆さんの研究開発にお役に立てれば幸いです。

<講師と演題>
1)13:00~13:50
 「反応現像を鍵とするエンプラ等の汎用的画像形成法の開発」  横浜国立大学    大山 俊幸 氏
  現像時におけるポリマーと現像液との反応を鍵とする微細パターン形成法である反応現像画像形成法(RDP)に
 ついて紹介する。RDPの利用により、市販エンプラを含む広範なポリマーについてフォトリソグラフィープロセスに
 よるポジ型およびネガ型微細パターン形成が実現される。

2)13:50~14:40
 「光反応を利用した機能性高分子合成」            神戸大学大学院  北山 雄己哉 氏
  本講演では、我々が最近見出した光反応性高分子微粒子に対する界面選択的光架橋現象および本現象を応用した
 様々な構造・機能を有する高分子微粒子創出について発表する。

  14:40~15:00 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪

3) 15:00~15:50
 「半導体用フォトレジスト開発の現状と今後」       東京応化工業株式会社   平野 智之 氏
  半導体製造に用いられるフォトレジスト材料は露光光源の短波長化に伴って大きく変遷してきた。本講では
 フォトレジストに求められる特性と材料設計を中心に解説するとともに、最先端のフォトレジスト用材料に関しても
 紹介する。

4) 15:50~16:40
 「自己剥離テープ「セルファ」の開発」          積水化学工業株式会社   畠井 宗宏 氏

  半導体工程用材料として、非常にユニークな自己剥離技術を使った「セルファ」を開発した。テープにUVを照射
 するとガスを発生することにより、自ら剥離する応力を発生し、剥離が困難とされる剛体同士の剥離を可能にした。

◆17:00~18:30 交流会・ミニ展示会(参加費無料)  大会議室にて

「第155回ラドテック研究会講演会」2018年1月25日(木)13:00~17:00 
会場:東京理科大学神楽坂キャンパス1号館17階/記念講堂

第155回講演会は下記のプログラムに決定しました。この講演会が、皆さんの研究開発にお役に立てれば幸いです。

<講師と演題>
1) 13:00~13:50
「安全で衛生的な床面の管理〜UVフロアコートの有用性と効果の検証」
                            東京都健康長寿医療センター 野田 義博 氏

 UV フロアコートは表面を長期間平滑に保ち、滑りにくい性質を有する。そして、日々の歩行や清掃作業での摩耗、
消毒液等の薬品による変質から床材を保護することができる理想的な床面を実現する。我々はその効果を検証した。

2) 13:50~14:40
「分子の気持ちで考える自己組織化 高分子材料における構造と特性相関」
                                   熊本大学   國武 雅司 氏

 “分子の気持ちで考える“をキーワードに、高分子材料化学における自己組織化を紹介する。
超分子などボトムアップ志向のナノテクだけでなく、リソグラフィに代表されるトップダウン型のナノテクにおいても「意図せず生じる構造」「見えていない構造」を生む駆動力として自己組織化は重要である。

  14:40 ~ 15:00    ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪

3) 15:00~15:50
「高充填ナノ粒子コーティング」            スリーエムジャパン株式会社  杉山 直大 氏
  SiO2ナノ粒子をコーティング層に充填すると耐擦傷性が向上するものの、70wt% 以上で白化し耐擦傷性が低下する課題があった。本発表では70-85wt%のSiO2を含有し高透明性を実現した高充填ナノ粒子コーティングの耐擦傷性および光学特性について報告する。

4) 15:50~16:40
「UV-LEDに対応した光硬化材料」                東亞合成株式会社  大房 一樹 氏
  UV硬化時の光源として、コンパクトで低ランニングコストなUV-LEDが注目されているが、硬化性が従来の高圧水銀ランプ等よりも劣る問題がある。UV-LEDに対応するため、従来品よりも硬化性に優れた光硬化材料を新たに開発したので紹介する。

◆17:00~18:30 賀詞交歓会・ミニ展示会 PORTA神楽坂 第三会議室



「第154回講演会~30周年記念講演会~」2017年10月31日(火)13:00~17:00 
会場:東京理科大学神楽坂キャンパス1号館17階

第154回講演会~30周年記念講演会~は下記のプログラムに決定しました。この講演会が、皆さんの研究開発にお役に立てれば幸いです。プログラム変更となりました。(10/27更新)

<講師と演題>
1) 13:00~13:50
「下学上達-産官学共同研究でのキーワード」 創案ラボ   市村 國宏 氏
官学の立場で実施した企業との数多く共同研究の中で、企業が設定した製品開発で知恵を絞ることが新たな学術研究の原点となることを体験してきた。その具体例を示すことにより、下学上達と表現される産官学共同研究のあり方を述べる。

2) 13:50~14:40
「ラドテック国際会議:出会と期待」 大阪府立大学   角岡 正弘 氏
これまでのラドテック国際会議(ヨーロッパ、アメリカ、アジア)で出会った人々と研究成果が私の仕事に与えた影響、2016年ラドテックアジアで感じた現在の動向と企業で期待されていることなど、過去、現在および今後について話題を紹介する。

14:40 ~ 15:10 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪

3) 15:10~16:00
「30周年記念講演に際して」 一般社団法人ラドテック研究会  折笠 輝雄 氏
少子超高齢化社会の到来に際し、人口も100年後には1/3の4,200万人台に減少すると公的機関から発表されている。一般に一人当たりの所得を上げるにはイノベーションが必要と言われているが、UV/EB技術と当会の可能性について考察する。


◆16:10~16:50 第3回定時社員総会
◇17:00~19:00 ラドテック研究会30周年記念パーティー

「第153回講演会」2017年8月29日(火)13:00~17:00 
会場:東京理科大学神楽坂キャンパス1号館17階

第153回講演会は下記のプログラムに決定しました。この講演会が、皆さんの研究開発にお役に立てれば幸いです。

<講師と演題>
1) 13:00~13:50
「光チオールエン反応による自己修復性有機無機ハイブリッド材料の開発」京都工芸繊維大学 松川 公洋 氏
柔軟な特性を示す光チオールエン架橋体を組み込んだ有機無機ハイブリッドは、フレキシブル機能材料として注目されている。本講では、フレキシブルハードコートや自己修復性ハイブリッド膜への応用展開について紹介する。

2) 13:50~14:40
「深紫外LED を用いた光硬化樹脂の作製」大阪府立大学大学院 岡村 晴之 氏
深紫外LED を用いたアクリルおよびエポキシ光硬化系を検討した。光開始剤の構造、照射波長、膜厚の影響を検討した。深紫外LED 照射は100 μm 以下の膜厚のフィルムを作製するのに有効であった。

14:40 ~ 15:00 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪

3) 15:00~15:50
「平板状銀/セルロースナノファイバー複合体の開発と応用」凸版印刷株式会社 磯貝 拓也 氏
木材繊維のナノ分散体であるセルロースナノファイバー(CNF)を反応足場として利用することにより、平板状銀ナノ粒子/CNFの複合体の開発に成功した。本複合体は、可視~近赤外光を選択的に吸収・散乱可能な新規光学材料として応用展開が期待される。

4) 15:50~16:40
「機能性ナノ微粒子を用いたUV硬化型高硬度ハードコート膜の設計」日揮触媒化成株式会社 村口 良 氏
UV硬化型のハードコート膜の更なる高硬度化への対応でSiO2等のナノ粒子を適用した有機無機ハイブリッド型のハードコート材料設計について報告する。鉛筆硬度9Hを有する高硬度ハードコート膜の設計も可能。

◆17:00~18:30 交流会・ミニ展示会 大会議室にて(会費 1,000円)



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