＜第３４回フォトポリマー講習会＞
日時：2024 年 8 月 29 日（木）・30 日（金） 9 時 15.分～17 時 20 分
会場：オンライン開催（Zoom）
協賛：（社）日本化学会
[参加費]
会員：18,000 円（4 名以上参加の場合は一律 65,000 円/会員企業）
日本化学会会員：18,000 円
非会員：28,000 円、学生 8,000 円
[参加申込]
当ホームページ(http://www.tapj.jp)のメールフォームからお申し込み下さい。
受付後、事務局より参加方法についてご連絡いたします。
※テキストはメールフォームによる申し込み者にのみ PDF 配信いたします。
[締め切り]
2024 年 8 月 15 日(木)
［基礎編］（８月２９日（木）第１日目）
０９：１５～０９：２０ 会長挨拶 大阪公立大学 堀邊 英夫
０９：２０～１０：３０ 「光化学の基礎と分子デザイン」
成蹊大学 稲垣 昭子 氏
１０：４０～１１：５０ 「光開始剤によるラジカル生成とその反応素過程に対する高速 ESR 分光観測」
神奈川大学 河合 明雄 氏
１３：００～１４：１０ 「ポリマーの光化学と特性」
大阪公立大学 岡村 晴之 氏
１４：２０～１５：３０ 「リソグラフィ技術の基礎とフォトレジストの材料設計」
大阪大学 遠藤 政孝 氏
１５：４０～１６：５０ 「フォトポリマーの特性評価」
リソテックジャパン(株) 関口 淳 氏
１６：５０～１７：２０ 第１日目の総括討議 / 講師ごとのブレイクアウトルーム
［応用編］（８月３０日（金）第２日目）
９：２０～１０：３０ 「光開始剤の基礎と反応」
BASF ジャパン(株) 鮫島 かおり 氏
１０：４０～１１：５０ 「光酸発生剤と先端フォトポリマー材料への応用」
富士フイルム（株） 土村 智孝 氏
１３：００～１４：１０ 「感光性耐熱材料の開発と事業化」
三井化学(株） 表 利彦 氏
１４：２０～１５：３０ 「微細加工用レジスト」
兵庫県立大学 渡邊 健夫 氏
１５：４０～１６：５０ 「トピックス 光オンデマンド法の展開」
神戸大学 津田 明彦 氏
１６：５０～１７：２０ 第２日目の総括討議 / 講師ごとのブレイクアウトルーム