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| 講演者 | 講演タイトル | |
|---|---|---|
| 99 2006.9 | 三井化学(株) 水田 康司 | UVカチオン重合における速硬化性の追求 |
| 99 2006.9 | ダイセル化学工業(株) 高井 英行 | 脂環式エポキシのUVカチオン硬化物性 |
| 99 2006.9 | (独)理化学研究所 和田 達夫 | ソフト・オプトエレクトロニクス材料：波長多重通信に向けたポリマー広帯域波長セレクター |
| 99 2006.9 | (独)産業技術総合研究所 斉藤 和裕 | 高効率有機薄膜太陽電池 |
| 99 2006.9 | フュージョンUVシステムズ・ジャパン(株) 足利 一男 | ラドテックN.A. ジャパンセッション報告 |
| 98 2006.6 | チッソ石油化学(株) 春藤 龍士 | UV硬化液晶材料とその応用 |
| 98 2006.6 | 京都大学 大学院 工学研究科 田畑 修 | マイクロシステムを構築するための3次元微細加工技術 |
| 98 2006.6 | リンテック(株) 前田 淳 | ICチップの製造および実装工程への粘・接着テープの応用 |
| 98 2006.6 | オムロン(株) 北村 恭司 | 2P法によるマイクロレンズの作製及びそれらに用いる紫外線硬化樹脂 |
| 98 2006.6 | ハリマ化成(株) 松葉 頼重 | 微細配線への金属ナノ粒子利用技術：IJ＆UV |
| 97 2006.4 | 東京理科大学 山下 俊 | 「光反応プローブを用いた高分子の自由体積の異方性」 |
| 97 2006.4 | 東京大学 立間 徹 | 「光触媒リソグラフィー法による浸水／撥水パターニング |
| 97 2006.4 | 昭和電工㈱ 室伏 克己 | 「新規イソシアネートモノマーの構造と硬化物特性」 |
| 97 2006.4 | ㈱康井精機 康井 義成 | 「最新の薄膜コーティング技術とコーティングラインについて」 |
| 96 2006.2 | 防衛大学校 大越 昌幸 | 「真空紫外レーザー照射によるシリコーン樹脂からの光導波路直接形成加工」 |
| 96 2006.2 | 松下電工㈱ 磯崎 雅史 | 「高出力LED方式UV硬化装置」 |
| 96 2006.2 | ㈱カネカ 中川 佳樹 | 「（メタ」アクリロイル末端テレケリックポリアクリレート |
| 96 2006.2 | 林テレンプ㈱ 酒井 丈也 | 「光配合技術とその応用」 |
| 96 2006.2 | 綜研化学㈱ 小林 晃司 | 「UV照射を使った高性能両面テープ」 |
| 95 2005.11 | 大阪府立大学大学院 平井 義彦 | 「ナノインプリントの基礎と応用」 |
| 95 2005.11 | 富士写真フイルム㈱ 渡部 淳 | 「UV硬化技術のLCD用光学フィルムへの応用－視野角拡大フィルム『WVフィルム』の開発－」 |
| 95 2005.11 | ㈱ブリジストン 研究開発本部 田沼 逸夫 | 電子粉流体Ⓡを用いたフレキシブルディスプレイ【QR-LPD電子Ⓡ】 |
| 95 2005.11 | 千葉大学 工学部 斎藤 恭一 | 「放射線グラフト重合法によるバイオの開発（仮題）」 |
| 94 2005.9 | 千葉大学 小関 健一 | 「紫外線硬化型インクジェットの基礎とトピックス」 |
| 94 2005.9 | チバ・スペシャルティ・ケミカルズ㈱ 平川 静 | 「アメリカ、ヨーロッパ、中国及び日本における新規化学物質届出制度の初歩」 |
| 94 2005.9 | 積水化学工業㈱ 東 賢一 | 「感光性絶縁膜」 |
| 94 2005.9 | JSR㈱ 宇加地 孝志 | 「RadTech Asia 2005 上海」に見る中国のラドテックの動向 |
| 93 2005.6 | 大阪市立大学大学院 小畠 誠也 | 「光機能性フォトクロミック有機結晶材料の開発」 |
| 93 2005.6 | 京都工芸繊維大学 宮田 貴章 | 「光反応性高分子に誘起された弾性ひずみと生成モルフォロジー」 |
| 93 2005.6 | ㈱ＫＲＩ 花畑 誠 | 「光パターンニング用材料の設計」 |
| 93 2005.6 | 中国塗料㈱ 河添 正雄 | 「木工用UV塗料の最近の動向（仮題）」 |
| 93 2005.6 | 堺化学工業㈱ 川崎 徳明 | 「エンチオール系光硬化システム」 |
| 92 2005.4 | 神奈川大学工学部 亀山 敦 | 「高屈折率材料としての含硫黄高分子の精密合成」 |
| 92 2005.4 | 東京工業大学 上田 充 | 「感光性ポリベンズオキサゾール（PBO)の新展開（仮題）」 |
| 92 2005.4 | 関西ペイント㈱ 富田 真司 | 「自動車補修用UV硬化塗料の現状（仮題）」 |
| 92 2005.4 | JSR㈱ 大高 亨 | 「ディスプレイ用機能性フィルムの開発（仮題）」 |
| 92 2005.4 | 岩崎電気㈱ 木下 忍 | 光殺菌技術の基礎と動向 |
| 91 2005.2 | 産業技術総合研究所 玉置 信之 | 光異性化反応による分子間相互作用の制御と記録材料への応用 |
| 91 2005.2 | 日本原子力研究所 東海研究所 浅井 志保 | 環境放射能モニタリングに役立つ放射線グラフト重合法 |
| 91 2005.2 | 日本油脂(株) 木村 育弘 | ウェットコート反射防止フィルム |
| 91 2005.2 | 日本放送協会 放送技術研究所 時任 静士 | 有機EL素子へのUV硬化技術の応用 |
| 91 2005.2 | ペンタックス インダストリアル インスツルメンツ(株) 須藤 賢一 | h線露光装置（データ・ダイレクト・イメージャー）について |
| 90 2004.11 | 神奈川大学 工学部 工藤 宏人 | オキセタン化合物を基盤とした機能性多分岐ポリマーの合成と性質および光反応 |
| 90 2004.11 | 日本原子力研究所 高崎研究所 吉田 勝 | 放射線を利用した燃料電池用電解質膜 |
| 90 2004.11 | 昭和電工(株) 森中 克利 | カレンズAOI（2-アクリロイルオキシエチルイソシアネート）の特徴について |
| 90 2004.11 | 東京応化工業(株) 信太 勝 | カラーフィルター用レジンブラックマトリックスの最近の開発動向について |
| 90 2004.11 | 岩崎電気(株) 武井 太郎 | 新型EB装置の開発 EV-V、ビームサット、アイリングビーム |
| 89 2004.9 | シーアイ化成(株) 桝田 義勝 | EBキュアリングによる高機能フィルムの製造 |
| 89 2004.9 | BASFジャパン(株) 太田 宏史 | 二酸化炭素雰囲気下の3次元UV硬化システム |
| 89 2004.9 | 大日本インキ化学工業(株) 米原 祥友 | ビスマレイミド系紫外線硬化型オリゴマーの開発と応用 |
| 89 2004.9 | 関西ペイント(株) 竹添 浩司 | レーザーダイレクトイメージング用レジスト材料の技術動向 |
| 88 2004.6 | 旭化成エレクトロニクス(株) 池田 章彦 | 半導体・実装技術の進歩におけるフォトポリマーの貢献 |
| 88 2004.6 | 大阪市立工業研究所 玉井 聡行 | 有機・無機ハイブリッドによるポジ型電子線アナログレジストの開発 |
| 88 2004.6 | 兵庫県立大学 服部 正 | SR加工の現状とその展開 |
| 88 2004.6 | 旭電化工業(株) 近岡 里行 | 光造形用樹脂の動向 |
| 88 2004.6 | 大阪大学 大学院 横山 正明 | ポリシランの光加工によるデバイス作製 |
| 87 2004.4 | 東京工業大学 大学院 理工学研究科 芝崎 祐二 | 耐熱性感光性ポリマーの開発 |
| 87 2004.4 | 旭化成ケミカルズ(株) 機能膜営業部 小泉 洋介 | 超超純水への挑戦－イオン吸着膜－ |
| 87 2004.4 | 産業技術総合研究所 光反応制御研究センター 佐藤 正健 | レーザー反応による環状高歪化合物の合成と量子化学計算を利用した赤外振動解析 |
| 87 2004.4 | 三菱レイヨン(株) 商品開発研究所 千田 敦美 | 反応性アクリルポリマーのUV/EBへの応用 |
| 86 2004.2 | 大阪府立大学 角岡 正弘 | RadTech Europe ’03に見る欧州におけるラドテックの最近動向 |
| 86 2004.2 | JSR(株) 宇加地 孝志 | 日本における放射線硬化技術の進歩とその工業利用 |
| 86 2004.2 | チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株) 倉 久稔 | カラーフィルター用新規光重合開始剤 |
| 86 2004.2 | 東京工業大学 中村 一隆 | 強レーザー光子場による量子放出とその応用 |
| 86 2004.2 | 日本原子力研究所 植本 洋 | 金属・C60混合物における組織形成～新しい薄膜自己組織化の観察～ |
| 85 2003.11 | 大日本印刷(株) 植田 健治 | ホログラム記録材料 |
| 85 2003.11 | ダイプラ・ウィンテス(株) 西山 逸雄 | SAICAS装置による塗膜の物性評価 |
| 85 2003.11 | 岩崎電気(株) 森 一郎 | 促進耐候性試験の現状 |
| 85 2003.11 | ダイセル・ユーシービー(株) 山本 健一 | UVパウダー用ポリエステル樹脂 |
| 84 2003.9 | 東京インキ(株) 高尾 道生 | UV硬化インクジェットインク |
| 84 2003.9 | 日本ペイント(株) 津島 宏 | ポリシラン系ポリマー導波路材料 |
| 84 2003.9 | 名古屋大学 大学院 関 隆広 | 光応答高分子膜を利用した動的な物質制御 |
| 84 2003.9 | クラリアントジャパン(株) 木下 義章 | 微細加工用塗材料の伸展 |
| 83 2003.7 | 大阪市立大学大学院 松本 章一 | トポケミカル重合による高分子構造制御と材料設計 |
| 83 2003.7 | (株)日本触媒 万木 啓嗣 | 異種重合性モノマーの特徴と応用－ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル－ |
| 82 2003.4 | 日亜化学工業(株) 蛍化物半導体研究所 森田 大介 | 波長365nm紫外LEDの開発 |
| 82 2003.4 | 東京理科大学 理工学部 工業化学科 有光 晃二 | 塩基増殖反応を利用した光反応性材料 |
| 82 2003.4 | 早稲田大学 理工学部 応用化学科 常田 聡 | 放射線グラフト重合法で作製した材料の水環境保全への応用 |
| 82 2003.4 | 日本原子力研究所 高崎研究所 前川 康成 | イオン・電子ビームを用いた有機薄膜の微細加工 |
| 81 2003.2 | 東亜合成(株) 高分子材料研究所 岡崎 栄一 | オキセタンあるいはマレイミドを利用した「UV硬化型粘着剤」 |
| 81 2003.2 | 東北大学 多元物質科学研究所 宮下 徳治 | 高分子ナノシートを用いた分子系ナノデバイス |
| 81 2003.2 | 東京理科大学 理工学部 山下 俊 | 光反応・電子線反応による高分子の屈折率制御 |
| 81 2003.2 | 凸版印刷(株) 糸井 健 | カラーフィルタ用レジストについて |
| 81 2003.2 | 住友重機械工業(株) 技術開発センター 工藤 利雄 | ダブルパルス制御方式による全固体レーザアニーリング |
| 80 2002.11 | 東洋インキ製造(株) 筑波研究所 上杉 隆彦 | スルホニウム塩系光酸発生剤の開発 |
| 80 2002.11 | 神奈川大学 工学部 化学教室 亀山 敦 | 高性能カチオン重合性モノマーーポリマー |
| 80 2002.11 | チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株) コーティング機能材セグメント 古演 亮 | 新規カチオン重合開始剤 |
| 80 2002.11 | 関西ペイント(株) AT研究所 今井 玄児 | 化学増幅型新規ポジ型ドライフィルム |
| 79 2002.9 | (株)オーク製作所 布川 洋 | TORC–UV固体レーザシリーズと応用 |
| 79 2002.9 | 日本原子力研究所 高崎研究所 箱田 照幸 | 300keVの電子ビームの線量計測 |
| 79 2002.9 | カシュー(株) 阿久津 幹夫 | EB硬化塗料の特徴とEUでの塗装事例 |
| 79 2002.9 | 大日本インキ化学工業(株) 藤井 耕一 | 光ディスク用UV材料 |
| 78 2002.7 | 立命館大学 杉山 進 | シンクロトロン放射光リソグラフィを用いたマイクロファブリケーション技術 |
| 78 2002.7 | 関西ペイント(株) 竹添 浩司 | ダイレクトイメージング技術の動向 |
| 78 2002.7 | 荒川化学工業(株) 大山 洋司 | UVカチオン重合の剥離紙用シリコーンへの応用 |
| 78 2002.7 | 大阪有機化学工業(株) 川上 直彦 | 低皮膚刺激性アクリルモノマーの動向 |
| 77 2002.4 | 三菱重工業(株) 名古屋研究所 秋田 靖浩 | 連鎖反応型UVカチオン硬化システム |
| 77 2002.4 | 三菱レイヨン(株) 化成品開発研究所 藤原 匡之 | ArFレジスト用モノマー及びポリマーの開発 |
| 77 2002.4 | 理化学研究所 ナノ物質工学研究室 田島 右副 | フラーレンを触媒とするアニールフリー耐熱性感光性樹脂の開発 |
| 77 2002.4 | 住友重機械工業(株) 技術開発センター 加藤 隆典 | 放射光誘起反応による微細加工とその応用 |
| 76 2002.2 | 三菱化学(株) 横浜総合研究所 高崎 龍一郎 | 明室操作可能な赤外線フォトポリマー |
| 76 2002.2 | 東亜合成(株) 高分子材料研究所 岡崎 栄一 | マレイミド基含有アクリルポリマーを利用した光開始剤フリー水系UVコーティング剤 |
| 76 2002.2 | チバ・スペシャルティ・ケミカルズ 研究開発センター 倉久 稔 | エレクトロニクス材料向け新規光重合開始剤 |
| 76 2002.2 | (株)関西新技術研究所 アドバンスドマテリアル研究部 山木 繁 | スチリルピリジン高分子薄膜の光機能材料への応用 |
| 76 2002.2 | 熊本大学 工学部 物質生命化学科 栗原 清二 | コレステリック液晶ネットワークの光応答挙動 |
| 75 2001.11 | （社）日本電球工業会 河本 康太郎 | 光エネルギー応用の現状と光安全性の評価（国際基準） |
| 75 2001.11 | 九州大学大学院 農学研究院 原 敏夫 | 放射線を利用した納豆樹脂の開発とその応用展開 |
| 75 2001.11 | 福井県工業技術センター 創造研究部 宮崎 孝司 | ポリエステル繊維へのグラフト重合と機能化 |
| 75 2001.11 | JSR(株) 筑波研究所 高瀬 英明 | アゾベンゼン含有ポリマーの光架橋と光学的応用 |
| 75 2001.11 | 東海大学 工学部 応用化学科 長瀬 裕 | 芳香族ポリアミドからなる新しい液晶光配向膜 |
| 74 2001.9 | 東洋インキ製造(株) 技術・研究・開発本部 開発研究所 尾崎 邦彦 | 超低加速電子線照射装置とその応用 |
| 74 2001.9 | 日立化成工業(株) 総合研究所 上野 巧 | LSI用レジストの開発動向 |
| 74 2001.9 | 日本原子力研究所 高崎研究所 廣田 耕一 | 電子ビームを用いた揮発性有機化合物(VOC)の分解技術の開発 |
| 74 2001.9 | 東京理科大学 総合研究所 市村 國宏 | ラドテックアジア国際会議2001報告 |
| 74 2001.9 | UCB Chemicals BU-Radcure Asia Jean-Pierre Ravijst | Overview of the Radiation Curing Technology in Asia |
| 73 2001.7 | 京都大学大学院 工学研究科 伊藤 紳三郎 | 走査型近接場光学顕微鏡（SNOM）で見るナノスケールの高分子構造 |
| 73 2001.7 | トキUVインクス研究所 桐山 義行 | UV硬化材料の設計コンセプト |
| 73 2001.7 | 共栄社化学(株) 情報・電子材料化学品研究部 内木場 尊信 | ウォームメルト型紫外線硬化樹脂 |
| 73 2001.7 | (株)クラレ つくば研究所 鹿島駐在兼イソプレン研究開発部 社地 賢治 | 光硬化性液状ポリイソプレンの特性とその応用 |
| 73 2001.7 | ナガセケムテックス(株) 研究開発部門 飯田 隆文 | 光カチオン重合技術のエレクトロニクス用接着剤への応用 |
| 72 2001.4 | 東京工科大学 工学部 浅間 邦彦 | UV硬化型ポリマ光導波路を用いた光回路素子 |
| 72 2001.4 | (財)川村理化学研究所 深澤 憲正 | 近赤外レーザーを用いた高分子材料加工 |
| 72 2001.4 | 三菱レイヨン(株) 商品開発研究所 藤本 寿一 | 光反応性微粒子の開発と今後の展開 |
| 72 2001.4 | 松下電子工業(株) 半導体社 プロセス開発センター 遠藤 政孝 | ポストArFリソグラフィー超微細加工レジストを中心として－ |
| 71 2001.2 | 千葉大学 工学部 斎藤 恭一 | 放射線グラフト重合だからできる高機能材料の作成 |
| 71 2001.2 | 東京理科大学 理工学部 山下 俊 | ポリマーの構造制御と光機能 |
| 71 2001.2 | 姫路工業大学 工学部 川月 喜弘 | 光反応性材料の選択的な光架橋で作成された複屈折フィルム |
| 71 2001.2 | 大阪府立大学大学院 工学研究科 白井 正充 | 光酸発生剤・光塩基発生剤を用いる表面修飾レジスト |
| 70 2000.9 | キヤノン(株) 後藤 顕 | KrFエキシマレーザーによる、BJヘッドのノズル加工 |
| 70 2000.9 | 日本原子力研究所 高崎研究所 前川 康成 | イオン・電子ビームを用いた有機薄膜の微細加工 |
| 70 2000.9 | セイコーエプソン(株) 井領 毅明 / 三菱レイヨン(株）牧野 伸治 | 光硬化型素材による眼鏡レンズの製造 |
| 70 2000.9 | JSR(株) 山口 佳一 | UV硬化型有機／無機ハイブリッドハードコート材料 |
| 69 2000.7 | 理化学研究所 田島 右副 | 光酸化誘起重縮合樹脂 |
| 69 2000.7 | (財)川村理化学研究所 穴澤 孝典 | 光重合誘発型相分離の構造形成機構 |
| 69 2000.7 | 宇部興産(株) 化学・樹脂事業本部 安野 弘 | 低弾性、低温硬化型ポリイミドインキとその感光化 |
| 69 2000.7 | 大阪市立工業研究所 松川 公洋 | アルコキシシラン誘導体の光硬化 |
| 69 2000.7 | 日本ペイント(株) 研究開発センター 岩田 顕範 | 常圧プラズマによる固体表面の改質 |
| 68 2000.4 | 大阪大学 産業科学研究所 田川 精一 | EBおよびX線化学増幅型レジストの反応機構と高感度化 －エキシマ化学増幅型レジストとの比較－ |
| 68 2000.4 | 千葉大学 工学部 山岡 亜夫 | 高感度フォトポリマー材料の設計とレーザー走査記録特性 |
| 68 2000.4 | 日本レック(株) 奥野 敦史 | UV硬化樹脂の電子部品、電子機器への応用 |
| 68 2000.4 | JSR(株) 知的財産部 鴨志田 洋一 | ArFエキシマレーザー用レジスト |
| 67 2000.2 | 千葉大学 工学部 中平 隆幸 | クレイ層間を利用した高効率光反応系－ポリアニリン光重合を中心に－ |
| 67 2000.2 | 大日本インキ化学工業(株) UV樹脂技術グループ 一ノ瀬 榮寿 | エネルギー線硬化型コーティング材料 最近の技術動向 |
| 67 2000.2 | 岩崎電気(株) 産業開発部 木下 忍 | 低エネルギー電子線照射装置の最近の動向について |
| 67 2000.2 | チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株) 添加剤事業部 古濱 亮 | 光重合開始剤の動向－低昇華性開始剤を中心に－ |
| 66 1999.12 | 岐阜大学 工学部 長谷川 功 | 有機・無機ハイブリッド材料 |
| 66 1999.12 | (株)日立製作所 ディスプレイグループ 林 伸明 | 液晶ディスプレイ用レジストのレーザーアブレーションによる直接描画 |
| 66 1999.12 | ウシオ電気(株) E-106プロジェクト 山口 真典 | 超小型・超低エネルギー電子加速器 Min-EB® の現状 |
| 66 1999.12 | 千葉大学 工学部 杉田 和之 | RadTech Europe ’99にみるUV/EB硬化技術の最新動向 |
| 66 1999.12 | 大阪府立大学大学院 工学研究科 角岡 正弘 | ラドテックヨーロッパ’99（ベルリン）にみるUVキュアリングの動向 |
| 66 1999.12 | 大日本インキ化学工業(株) 総合研究所 米原 祥友 | The Status of Radiation Curing Markets and Technology in Japan |
| 65 1999.9 | 東亜合成(株) 名古屋総合研究所 児島 史郎 | UV硬化型シリコーングラフトポリマーの応用 |
| 65 1999.9 | ダイソー(株) 研究所 清水 保美 | ジアリルフタレート架橋微粒子とその用途 |
| 65 1999.9 | 三重大学 工学部 分子素材工学科 富岡 秀雄 | ジアゾ化合物の光分解による有機分子磁性体の発生と制御 |
| 65 1999.9 | チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株) カラー事業部 小坂 憲司 | 最新の有機材料の応用 |
| 65 1999.9 | 佐々木 隆 | RadTech Asia ’99報告 |
| 64 1999.7 | 京都大学 化学研究所 福田 猛 | リビングラジカル重合の基礎と応用 |
| 64 1999.7 | 大阪ガス(株) 研究開発部 山田 光昭 | フラーレン誘導体の合成とその材料開発における応用展開 |
| 64 1999.7 | (財)ファインセラミックセンター 試験研究所 池末 明生 | YAGレーザー材料の開発とその応用 |
| 64 1999.7 | 日新ハイボルテージ(株) 加速器技術部 谷口 周一 | 最近のEB照射装置 |
| 64 1999.7 | 日新ハイボルテージ(株) EB加工センター 中井 康二 | EB照射における線量測定 |
| 64 1999.7 | 大阪府立大学 先端技術研究所 古田 雅一 | 放射線滅菌に関する最近の話題 |
| 63 1999.4 | 静岡大学 工学部 川田 善正 | 有機材料を用いた高密度光メモリー |
| 63 1999.4 | (株)ヤマトヤ商会 沼倉 孝 | 画像階調特性の高効率高精度変換処理技術 |
| 63 1999.4 | ソニーケミカル(株) 化成品事業部 小南 啓 | 光ディスクにおける紫外線硬化技術 |
| 63 1999.4 | 荒川化学工業(株) 研究部 谷奥 勝三 | 脱溶剤化を中心とした剥離紙用シリコーンの最新技術動向 |
| 63 1999.4 | 東京工業大学 資源化学研究所 市村 國宏 | 【記念講演会】酸増殖反応と応用 |
| 63 1999.4 | ラドテック研究会 名誉会長 田畑 米穂 | 【受賞記念講演】放射線利用技術の新しい展開 |
| 62 1999.2 | 東京理科大学 基礎工学部 材料工学科 長崎 幸夫 | 新しい電子線リソグラフィー用材料 |
| 62 1999.2 | 早稲田大学 理工学総合研究センター 鷲尾 方一 | 高性能加速器の現状と将来展望 |
| 62 1999.2 | デュポン(株) 中央技術研究所 電子材料部 武藤 勉 | PDP用感光性厚膜ペースト |
| 62 1999.2 | 東亜合成(株) 名古屋総合研究所 岡崎 栄一 | イミドアクリレート化合物の紫外線硬化特性 |
| 62 1999.2 | 大蔵省印刷局 印刷研究部 丸山 誠二 | UV・EBを用いた諸証券印刷について |
| 61 1998.12 | 千葉大学 工学部 情報画像工学科 小関 健一 | 光重合硬化膜の力学物性 |
| 61 1998.12 | 早稲田大学 理工学総合研究センター 浜 義昌 | ポリオレフィンのイオン照射効果の解析 |
| 61 1998.12 | 旭化成工業(株) 機能膜技術開発部 久保田 昇 | 放射線グラフト重合法による濾過膜の高機能化：超純水中の微量金属除去膜の開発 －放射線グラフト重合法×多孔性濾過膜＝吸着機能膜の創製－ |
| 61 1998.12 | 日立化成工業(株) 茨城研究所 鍋治 誠 | 感光性ポリイミドの技術動向 |
| 61 1998.12 | フェムト秒テクノロジー研究機構 遠藤 彰 | レーザー応用技術の新展開－電子線との複合利用－ |
| 60 1998.9 | 神奈川大学 工学部 西久保 忠臣 | 光エネルギー変換・蓄積機能を有する高分子材料の開発 |
| 60 1998.9 | 昭和電工(株) 東長原工場 三須 直明 | カレンズMOI®（2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネート）の性質と応用 |
| 60 1998.9 | (株)ディーメック 田上 英二郎 | 光造形の最近の研究開発 |
| 60 1998.9 | (株)半導体先端テクノロジーズ 遠藤 政孝 | 半導体リソグラフィとレジスト、レジストプロセス |
| 59 1998.7 | 京都大学大学院 工学研究科 山本 雅英 | 無定形高分子における励起三重項エネルギー移動 |
| 59 1998.7 | 大阪大学大学院 理学研究科 森島 洋太郎 | ユニマーミセルを用いた高効率光誘起電子移動 |
| 59 1998.7 | 松下電子工業(株) 半導体事業本部 松尾 隆弘 | 表面イメージングレジストの現状と展望 |
| 59 1998.7 | 日本ペイント(株) 光化学研究所 津島 宏 | ポリシランを使った新規LCDカラーフィルターの製造方法の開発 |
| 58 1998.4 | 東京工業大学 資源化学研究所 堂免 一成 | 層状金属酸化物による水の光分解 |
| 58 1998.4 | 物質工学工業技術研究所 松田 宏雄 | 高速光制御を可能にする非線形光学材料 |
| 58 1998.4 | (株)日立製作所 基礎研究所 岩柳 隆夫 | フォトリソグラフィLSI・プリント板への応用 |
| 58 1998.4 | (株)ユアサコーポレーション 研究開発センター 野田 智彦 | EB硬化の固体電解質リチウム電池での応用 |
| 57 1998.2 | 東京工業大学 工学部 柿本 雅明 | デンドリティック高分子の合成と性質 |
| 57 1998.2 | 日東電工(株) 基幹技術センター 望月 周 | 最近の感光性ポリイミドの動向 |
| 57 1998.2 | 大日本インキ化学工業(株) 総合研究所 穴澤 孝典 | 光重合誘発相分離に関する最近の動向 |
| 57 1998.2 | 東洋製罐グループ総合研究所 後藤 弘明 | 缶用塗料の現状とUV硬化技術の適用性 |
| 56 1997.11 | Korea Institute of Science and Technology（KIST） Dr. Kwang-duk Ahn | Photoacid Generating Polymers Based on Sulfonyloxymaleimides and Applications as Single-Component Resists |
| 56 1997.11 | Université de Haute Alsace（France） Dr. Christian Decker | Recent advances in the UV-Curing of Acrylate Systems |
| 56 1997.11 | Fusion UV Systems, Inc.（U.S.A.） Dr. Sonny Jonsson | High Powered Microwave Excimer Irradiators |
| 56 1997.11 | Energy Sciences Inc.（U.S.A.） Dr. John M. Chrusciel | The Changing US Electron Beam Market |
| 55(10周年） 1997.9 | 東洋インキ製造(株) 今井 敬義 | インキ工業界からのRadTechへの期待 |
| 55(10周年） 1997.9 | 日本ペイント(株) 高橋 敦 | 塗料工業からのRadTechへの期待 |
| 55(10周年） 1997.9 | 日本アイビーエム(株) 塚田 裕 | 感光性樹脂を使用したビルドアップ・プリント配線板ベアチップ実装 |
| 55(10周年） 1997.9 | ウシオ電機(株) 平本 立躬 | 産業界でのUV光源とプロセッシングの開発状況と将来展望 |
| 55(10周年） 1997.9 | 京都大学 山岡 仁史 | この10年の放射線高分子化学の歩みとプロセッシングへの展望 |
| 55(10周年） 1997.9 | 筑波大学 名誉教授 徳丸 克己 | この10年の光化学の進歩と将来の夢 |
| 54 1997.6 | 京都大学 大学院 経済学研究科 存間 敬子 | LCA、ISO14001ってなに？－環境経済学の立場から－ |
| 54 1997.6 | 京都工芸繊維大学 工芸学部 久保田 敏弘 | ホログラフィー－記録材料と応用動向－ |
| 54 1997.6 | 永大産業(株) 総合研究所 片山 吉久 | 建材塗装における環境対策 |
| 54 1997.6 | (株)関西新技術研究所 表面科学研究センター 森川 茂 | レーザーCVD（MOCVD）法による高機能薄膜の形成 |
| 54 1997.6 | フュージョンUVシステムズ・ジャパン(株) 折笠 輝雄 | 新規UV硬化システムに関して |
| 53 1997.4 | 東洋インキ製造(株) 筑波研究所 鳥羽 泰正 | ボレート系光重合開始剤 |
| 53 1997.4 | 大阪大学 工学部 井上 佳久 | 光でキラルな分子をつくる－新しい不斉光化学の可能性－ |
| 53 1997.4 | 関西ペイント(株) 塗装技術研究所 菊田 真人 | 光硬化性樹脂を用いた粒状担体の生産と高度下水処理への適用 |
| 53 1997.4 | 日本原子力研究所 高崎研究所 須永 博美 | 低エネルギー電子線の線量測定 |
| 53 1997.4 | 住友重機械工業(株) 量子技術研究所 鷲尾 方一 | パルスEBと連続EBによる硬化反応の動力学的比較 |
| 52 1997.2 | 東京都立大学 工学部 彌田 智一 | 分子磁性材料の光制御 |
| 52 1997.2 | 電子技術総合研究所 量子放射部 小貫 英雄 | 極超短波長による表面処理 |
| 52 1997.2 | 沖電気工業(株) 半導体技術研究所 伊東 敏雄 | 新規感光性湿布ガラスと応用プロセス |
| 52 1997.2 | 東京大学大学院 工学系研究科 藤嶋 昭 | 酸化チタン光触媒を利用した抗菌・防汚・防臭 |
| 51 1996.11 | 千葉大学 工学部 小関 健一 | 感光性高分子の記録特性と材料物性 |
| 51 1996.11 | 大阪府立大学 工学部 高田 十志和 | 潜在性重合開始剤による重合反応の制御 |
| 51 1996.11 | デュポンMRCドライフィルム(株) 生産部 内田 廣幸 | レーザー直接描画用ドライフィルムレジストのパターン形成 |
| 51 1996.11 | 大日本インキ化学工業(株) 記録材料事業部 高津 晴義 | UVキュアラブル液晶とその応用 |
| 50 1996.9 | 千葉大学 工学部 杉田 和之 | RadTech North America ’96参加報告 |
| 50 1996.9 | 東亜合成(株) つくば研究所 佐々木 裕 | オキセタニル基を有する光カチオン硬化型樹脂 |
| 50 1996.9 | Lawrence Livermore National Laboratory Dr. Booth R. Meyers | Performance Measurements of Sealed-Tube Electron Beam Windows |
| 50 1996.9 | American International Technologies, Inc. Dr. Jim I. Davis | Innovation-Beam Technology for Ultra Low Voltage Radiation Curing |
| 50 1996.9 | Ciba-Geigy Japan, International Research Laboratories Dr. J.-L. Birbaum | Recent Developments in Ciba-Geigy’s Radical Photoinitiators: a Journey through the Light |
| 49 1996.7 | 大阪大学 理学部 蒲池 幹治 | 電子移動反応を利用した新たな高分子合成 |
| 49 1996.7 | 国立循環器病センター研究所 生体工学部 松田 武久 | |
| 49 1996.7 | 大日本塗料(株) 開発本部 桐山 義行 | 紫外線硬化厚膜エナメルの開発 |
| 49 1996.7 | 昭和電工(株) 化学品研究所 松比良 伸也 | 不飽和基をもつイソシアナト化合物の現状と利用方法 |
| 48 1996.4 | 千葉大学 工学部 唐津 孝 | 有機ポリシランの光化学反応 |
| 48 1996.4 | 都立アイソトープ総合研究所 榎本 一郎 | EB硬化型粘着剤 |
| 48 1996.4 | (株)アイ・エレクトロンビーム 吉田 安雄 | EB大型生産ラインの紹介と応用 |
| 48 1996.4 | 大塚化学(株) 徳島研究所 赤田 充生 | 反応性紫外線吸収剤について |
| 47 1996.2 | 東京大学 工学部 勝村 庸介 | モデル化合物を用いた高分子の耐放射線性向上の検討 |
| 47 1996.2 | NTT LSI研究所 中村 二朗 | 化学増幅型レジストの最新動向 |
| 47 1996.2 | 宇部興産(株) 宇部研究所 佐藤 光彦 | 電子線を利用した高耐熱性セラミック繊維の開発 |
| 47 1996.2 | 住友重機械工業(株) 量子機器事業センター 熊田 幸生 | 新型低エネルギー電子線プロセス装置の現状 |
| 47 1996.2 | 東京都立アイソトープ研究所 今井 正彦 | RadTech Asia ’95報告 |
| 46 1995.11 | 千葉大学 工学部 山岡 亜夫 | フォトケミカル材料 |
| 46 1995.11 | 物質工学研究所 矢部 明 | エキシマレーザープロセッシングによるフッ素樹脂表面の改質 |
| 46 1995.11 | 三菱レイヨン(株) 商品開発研究所 古川 琢也 | UV硬化型ホットメルト粘着剤について |
| 46 1995.11 | 大日本インキ化学工業(株) 記録材料事業部 村上 和夫 | 光ディスク用UVコート剤 |
| 45 1995.9 | 千葉大学 工学部 原田 紀枝子 | ジアゾニウム塩の新しい画像形成への応用 |
| 45 1995.9 | 京都大学 工学部 澤本 光男 | ビニルエーテルのリビングカチオン重合－開始剤系の設計と精密高分子合成－ |
| 45 1995.9 | 日本化薬(株) 化学品研究所 横島 実 | 液状レジスト用材料の最近の動向 |
| 45 1995.9 | リンテック(株) 研究開発部 峯浦 芳久 | UV硬化型ダイシングテープの開発 |
| 44 1995.6 | 奈良女子大学 理学部 岩井 薫 | ケイ光プローブを用いた高分子ミクロ環境の評価 |
| 44 1995.6 | 京都大学 工学部 伊藤 紳三郎 | 表面波による光反応解析 |
| 44 1995.6 | 神東塗料(株) 第2製造部 太田 敏秋 | 電着法カラーフィルターの開発と工業化 |
| 44 1995.6 | 住友化学工業(株) 精密化学品研究所 花畑 誠 | ポジ型i線用フォトレジストの開発と工業化 |
| 43 1995.4 | 千葉大学 工学部 斎藤 恭一 | 放射線グラフト重合法による分離機能材料の開発 |
| 43 1995.4 | 信越化学工業(株) シリコーン電子材料技術研究所 入船 真治 | 電子線硬化性シリコーンの開発 |
| 43 1995.4 | 千葉大学 工学部 杉山 和之 | 光崩壊性ポリマーの情報記録への応用 |
| 43 1995.4 | 東海大学 村原 正隆 | エキシマレーザーを用いたテフロン表面への官能基の置換と接着性向上 |
| 43 1995.4 | ウシオ電機(株) 技術研究所 五十嵐 龍志 | 誘電体バリア放電エキシマランプ |
| 42 1995.2 | 電気興業(株) 高周波事業部 藤沢 高志 | 高周波電子線照射装置の開発 |
| 42 1995.2 | (株)サムコインターナショナル研究所 辻 理 | プラズマ重合による表面処理技術 |
| 42 1995.2 | 日本原子力研究所 高崎研究所 工藤 久明 | 高分子材料の低温及びイオン照射効果 |
| 42 1995.2 | (株)吉野工業所 松戸工場 大和田 豊一 | 低エネルギーEBによる耐熱性PEチューブ容器の開発 |
| 42 1995.2 | 住友スリーエム(株) 川手 恒一郎 | 放射線硬化による形状記憶樹脂 |
| 41 1994.11 | 東京大学 工学部 山本 俊 | 最近の感光性ポリイミドの研究開発動向 |
| 41 1994.11 | 関西ペイント(株) 新規事業本部 古沢 智 | フォトレジストの水溶化について |
| 41 1994.11 | 新日本製鐵(株) 表面処理研究部 上野 長治 | EBC法を用いた塗装トンネル金属内装板の開発－印刷製品の開発－ |
| 41 1994.11 | 十條化工(株) 羽生技術センター 加藤 正廣 | スクリーン印刷におけるUVインキ |
| 41 1994.11 | 日本合成ゴム(株) 光・電子材料事業部 大高 亨 | ビニルエーテル／マレイン酸系光硬化技術材料 |
| 40 1994.9 | 神奈川大学 工学部 亀山 敦 | 新しい多官能性ビニルエーテルモノマーおよびオリゴマーの合成と光硬化反応 |
| 40 1994.9 | 東亜合成化学工業(株) つくば研究所 佐々木 裕 | 環状エーテルモノマーの光カチオン重合 －四員環エーテルであるオキセタン化合物の反応性－ |
| 40 1994.9 | 東洋インキ製造(株) 筑波研究所 安池 円 | 可視光重合開始剤 |
| 40 1994.9 | 東芝シリコーン(株) 第三製品技術部 小林 敬司 | UV光カチオン硬化型剥離紙シリコーンの開発 |
| 39 1994.7 | 日本曹達（㈱ 機能製品研究所 高橋 栄治 | 新しいカチオン重合開始剤 |
| 39 1994.7 | 日本化薬(株) 化学品研究所 横島 実 | 水溶性UV・EB硬化型樹脂 |
| 39 1994.7 | 東京大学 工学部 高木 太郎 | 光造形法によるマイクロマシンの制作－現状と展望－ |
| 39 1994.7 | 日新ハイボルテージ(株) EB技術部 柏木 正之 | 低エネルギーEB利用分野における装置と利用の現状 |
| 39 1994.7 | 日本原子力研究所 高崎研究所 佐々木 隆 | RadTech North America ’94報告－各国の動向と応用－ |
| 39 1994.7 | 日本合成ゴム(株) 光・電子材料事業部 吉田 輝男 | RadTech North America ’94報告－材料の最近の動向－ |
| 38 1994.5 | 京都工芸繊維大学 繊維学部 Qui Tran-Cong | 光架橋反応を利用した二成分高分子混合系のモルフォロジー制御 |
| 38 1994.5 | 京都大学 工学部 西本 清一 | 高分子材料のモルホロジーと放射線劣化 |
| 38 1994.5 | 日本化薬(株) 化学品事業本部 磯部 孝治 | 光重合開始剤 |
| 38 1994.5 | 日本合成ゴム(株) 東京研究所 渡辺 毅 | 立体成型用樹脂の成形精度向上について |
| 37 1994.2 | 東京工業大学 資源化学研究所 遠藤 剛 | “潜在性触媒”の分子設計と応用 |
| 37 1994.2 | 三重大学 工学部 富岡 秀雄 | 最近の光開始剤の進歩 |
| 37 1994.2 | 日本ゴム合成(株) 宮下 聡 | LSIレジストの現状と将来の動向 |
| 37 1994.2 | セイコーエプソン(株) 中島 幹人・ 三菱レイヨン(株) 福島 洋 | 光硬化型眼鏡レンズの開発 |
| 36 1993.11 | Philips Research Laboratories J. G. H. Kloosterboer | Network formation by chain crosslinking photopolymerization （主鎖架橋型の光重合による網目構造形成） |
| 36 1993.11 | Univ. Southern Mississippi C. E. Hoyle | Liquid crystalline polymers produced by photoinitiated polymerization （光重合により生成する液晶性高分子） |
| 36 1993.11 | Univ. Montpellier II M. J. M. Abadie | Recent advances on photosensitive thin film formulations （感光性薄膜の調整法に関する最近の進歩） |
| 36 1993.11 | RPC Industries A. F. Klein | Electron beam processors and processes （電子ビーム処理装置と処理過程） |
| 35 1993.9 | 大日本インキ化学工業(株) 竹内 清文 | 高分子分散液晶の利用と展望 |
| 35 1993.9 | 物質工学工業技術研究所 長沢 順一 | ピリジニウムイリド基を持つ感光性ポリビニルアルコール |
| 35 1993.9 | 日本コンタクトレンズ(株) 栗秋 政光 | 高分子材料のプラズマ処理の医療材料への応用 －シリコーンラバーコンタクトレンズ表面の親水化処理－ |
| 35 1993.9 | (株)アーデル 澤本 健之 | 光（可視光を含む）硬化型光学接着剤 |
| 34 1993.7 | 京都大学 工学部 伊藤 紳三郎・山本 雅英 | 励起三重項増感機構 |
| 34 1993.7 | 神崎製紙(株) 研究所 向吉 俊一郎 | 高品質ビデオプリンター用感熱記録体 |
| 34 1993.7 | 日本チバガイギー(株) 添加剤事業部 古濱 亮 | 光重合開始剤 |
| 34 1993.7 | 大阪工業試験所 市橋 太一 | UV硬化樹脂のホログラムへの応用 |
| 34 1993.7 | 日新ハイボルテージ(株) EB加工技術センター 中井 康二 | EB照射における照射条件の影響 |
| 33 1993.4 | 日本合成ゴム(株) 開発センター 宇加地 孝志 | 最近の光ファイバーコーティング剤の動向 |
| 33 1993.4 | 三菱レイヨン(株) 中央研究所 徳原 千穂 | プリント配線板直接描画用ドライフィルムレジスト |
| 33 1993.4 | (株)きもと 研究開発課 杉山 靖典 | 非銀塩リスフィルムの現状 |
| 33 1993.4 | 大蔵省 印刷局 研究所 河村 英司 | 電子線の印刷への応用 |
| 33 1993.4 | 近畿大学 理工学部 嘉悦 毅 | 放射線を利用したバイオマテリアルの研究 |
| 32 1993.2 | 東京工業大学 資源化学研究所 池田 富樹 | 高分子液晶を用いた光記録材料 |
| 32 1993.2 | 新日本製鐵(株) 先端技術研究所 渡部 和弘 | フラレレン骨格を有するアクリレート樹脂の物性と応用 |
| 32 1993.2 | 大阪有機化学工業(株) 開発部 上林 泰二 | 低皮膚刺激性UV・EBモノマー |
| 32 1993.2 | 静岡大学 理学部 化学教室 橋爪 裕司 | 光合成膜の構造と機能 |
| 32 1993.2 | ユニオンカーバイド(株) 塗料樹脂部門 ブライアン・ハンラハン | カチオンキュア高速硬化システム |
| 31 1992.12 | 静岡大学 農学部 上埜 武夫 | 紙・板紙の諸特性に及ぼす放射線の影響 |
| 31 1992.12 | 三和化学工業 研究開発課 白石 勝敏 | EB硬化型粘着剤用樹脂の開発 |
| 31 1992.12 | 日新ハイボルテージ(株) 技術部 上原 昇平 | EB装置の工業利用について |
| 31 1992.12 | 昭和電工(株) 化学品研究所 細田 喜一 | 消色性記録材料 |
| 30 1992.9 | 東京大学 原子力研究総合センター 柴田 裕美 | イオンビームによる高分子レジスト膜への照射効果 |
| 30 1992.9 | 神奈川大学 工学部 西久保 忠臣 | 光カチオン重合触媒を用いたビニルエーテルモノマーおよびオリゴマーの架橋、硬化反応 |
| 30 1992.9 | アイエスピー・ジャパン(株) 福田 勝 | ビニルエーテル類のカチオン重合技術とその応用 |
| 30 1992.9 | 凸版印刷(株) 総合研究所 坂川 誠 | 液晶ディスプレイ用カラーフィルターの現状と課題 |
| 29 1992.7 | 大阪府立大学 工学部 白井 正充 | 光酸発生剤を利用する高分子表面加工 |
| 29 1992.7 | 富士写真フィルム(株) 研究部 梅原 明 | 画像形成用フォトポリマーの現状と動向 |
| 29 1992.7 | 日本化薬(株) 化学品事業本部 下宮 敬三 | ラドテック・アメリカ参加報告 －１「材料」 |
| 29 1992.7 | 日新ハイボルテージ(株) EB加工技術センター 水沢 健一 | ラドテック・アメリカ参加報告 －２「装置」 |
| 29 1992.7 | 東洋インキ製造(株) 開発研究所 飯田 保春 | ラドテック・アメリカ参加報告 －３「応用」 |
| 28 1992.4 | 東京大学 生産技術研究所 瓜生 敏之 | EB照射による重合および高分子架橋反応 |
| 28 1992.4 | 岩崎電気(株) EB事業部 松本 雅光 | EB装置における新技術 |
| 28 1992.4 | Russian Academy of Sciences Dr. G. V. Shiryaeva | Application of UV/EB Coating to Different Substrates （UV/EB硬化塗料のいろいろな材料への応用） |
| 28 1992.4 | Russian Academy of Sciences Dr. V. Ya. Kabanov | Surface Modification by Radiation-induced Graft-polymerization （放射線グラフト重合による表面改質） |
| 27 1992.2 | 山形大学 工学部 上田 充 | 化学増幅型フォトレジスト材料の現状 |
| 27 1992.2 | (株)スリーボンド 研究所 松山 隆夫 | 紫外線硬化性接着剤 |
| 27 1992.2 | 大阪有機化学工業(株) 研究部 森 吉弘 | 紫外線硬化型粘着剤 |
| 27 1992.2 | 大日本インキ化学工業(株) 製罐塗装剤技術G 高橋 誠 | UV硬化型金属印刷用インキ |
| 27 1992.2 | 三菱レイヨン(株) 商品開発研究所 福島 洋 | レンズ表面処理のためのUVハードコート技術 |
| 26 1991.11 | ソルテック筑波研究所 阿刀田 伸史 | 放射光によるリソグラフィの現状と将来 |
| 26 1991.11 | 信越化学(株) シリコーン電子材料技術研究所 大庭 敏夫 | EB硬化型シリコーンの開発と剥離紙への応用 |
| 26 1991.11 | 日新製鋼(株) 新材料研究所 森 浩治 | 低エネルギー電子線によるフィルムの表面改質 |
| 26 1991.11 | 都立アイソトープ総合研究所 沢井 健 | ラドテック・ヨーロッパ参加報告 －１「全般・装置」 |
| 26 1991.11 | 日立化成(株) 下館研究所 上原寿茂 | ラドテック・ヨーロッパ参加報告 －２「材料」 |
| 26 1991.11 | 凸版印刷(株) 総合研究所基礎研究センター 岡野滋 | ラドテック・ヨーロッパ参加報告 －３「応用」 |
| 25 1991.10 | 静岡大学 教育学部 板垣 秀幸 | 蛍光プローブ法による高分子フィルム中の物性評価 |
| 25 1991.10 | 東京工業大学 資源化学研究所 市村 國宏 | 液晶配向の光制御と分子界面 |
| 25 1991.10 | 出光石油化学(株) 開発部 倉橋 明彦 | 高硬度UVコーティング剤「出光PPZ」 |
| 24 1991.7 | 松下電器産業(株) 半導体研究センター 遠藤 政孝 | クォータミクロン時代の露光技術 |
| 24 1991.7 | 日本油脂(株) 化薬研究所 須山 修治 | ペルオキシ基含有フォトイニシエーターについて |
| 24 1991.7 | 名古屋市工業研究所 高分子部 吉田 弘 | 紫外線硬化型粘着剤の製造と利用技術 |
| 24 1991.7 | 広栄化学工業(株) 神野 卓彦 | 帯電防止性UV硬化樹脂 |
| 24 1991.7 | 東洋紡績(株) 総合研究所 小寺 宣一 | EB硬化型ポリエステル系樹脂の展開 |
| 23 1991.4 | Loctite Corp. Dr. S. P. Pappas | 紫外線硬化型接着剤 UV‑cure adhesives |
| 23 1991.4 | CNRS Laboratoire de Photochimie Generale Prof. C. Decker | 紫外線硬化塗料による材料の表面処理 Surface treatment of materials by UV‑curable coatings |
| 23 1991.4 | Comtech GmbH Dr. A. Hussain | 表面加工における複合材料の界面解析 Characterization of interface and composite materials in surface finishing |
| 23 1991.4 | Energy Sciences, Inc. Mr. M. Fletcher | 電子線照射による技術革新はさらに進展する；新しい表面バリヤー高分子 The EB Revolution Continues: New Barrier Polymers |
| 22 1991.2 | 東京工業大学 工学部 柿本 雅明 | 光分解（ポジ）型耐熱性縮合系高分子の合成 |
| 22 1991.2 | 千葉大学 工学部 杉田 和之 | 微細加工用レジストの最近の研究動向 |
| 22 1991.2 | 三菱レイヨン(株) 新本 雅樹 | 光ディスク用紫外線コーティング剤 |
| 22 1991.2 | 太陽インキ製造(株) 日高 勇 | 液状フォトソルダーレジストの現状と今後の展開 |
| 22 1991.2 | 住友重機械工業(株) 田中 裕実 | 工業用低エネルギー電子加速器ブロードビームRについて |
| 21 1990.11 | 昭和高分子(株) 開発企画部 滝山 栄一郎 | 高分子量ラジカル硬化型樹脂“ビオレックス”について |
| 21 1990.11 | 大阪府立大学 工学部 角岡 正弘 | UV硬化塗膜の耐候（光）性 |
| 21 1990.11 | 上智大学 理工学部 杉森 彰 | 有機金属錯体の光化学 |
| 21 1990.11 | 武田薬品工業(株) 化学品事業部 久保田 勉 | UV硬化型プリントラミネート用水系接着剤 |
| 21 1990.11 | 日本石油化学(株) 研究部 大美賀 広芳 | 電着レジスト |
| 20 1990.9 | 東京都立アイソトープ総合研究所 今井 正彦 | ポリエチレン・ポリプロピレンの放射線照射の影響 |
| 20 1990.9 | 大日本印刷(株) 中央研究所 滝口 良平 | 低エネルギー型電子線によるポリマー・モノマー共存系における高分子化反応 |
| 20 1990.9 | 北海道大学 工学部 精密工学科 楢原 弘之 | 光造形用樹脂に関する基礎研究 |
| 20 1990.9 | メルク・ジャパン(株) 並木 康吉 | 光開始剤の分子吸光係数から見た塗膜厚と光開始剤添加量の論理的な組み合わせ |
| 20 1990.9 | 三菱レイヨン(株) 商品開発研究所 新本 雅樹 | 光ディスク用紫外線コーティング剤 |
| 19 1990.7 | 東京大学 原子力総合研究センター 田川 精一 | 高分子に対する照射線効果の最近の話題 |
| 19 1990.7 | 日本曹達(株) 機能製品研究所 森川 隆男 | 光カチオン硬化型エポキシ樹脂の応用 |
| 19 1990.7 | 日新製鋼(株) 新材料研究所 増原 憲一 | 鋼板へのEB照射技術 |
| 19 1990.7 | 新中村化学工業(株) 開発技術研究所 横山 功 | RadTech North America ’90の報告（UVC及びEBC材料の現状） |
| 19 1990.7 | 大日本印刷(株) 建材研究所 塚田 正樹 | RadTech North America ’90の報告（装置と応用分野における最近の話題） |
| 18 1990.4 | 大阪大学院 プロセス工学専攻 朴 鐘震 | 電子移動による光増感反応 |
| 18 1990.4 | 京都大学 原子炉実験所 山岡 仁史 | 高分子の放射線照射効果 |
| 18 1990.4 | 凸版印刷(株) 精密電子研究所 星 久夫 | 液晶ディスプレイ用カラーフィルター |
| 18 1990.4 | 東亜合成化学工業(株) 研究所 実松 徹司 | 塗料・インキビヒクル用UV・EB硬化樹脂 |
| 18 1990.4 | (株)生産開発科学研究所 赤松 清 | 光成形シートの開発と応用 |
| 17 1990.2 | 日本原子力研究所 高崎研究所 町 末男 | 放射線プロセスの動向と将来展望 |
| 17 1990.2 | （株）東レリサーチセンター 石谷 炯 | 高分子材料の表面構造解析 |
| 17 1990.2 | （株）豊田中央研究所 日置 辰視 | イオン注入による高分子改質 |
| 17 1990.2 | 東洋インキ製造(株) 沢村 正志 | ラドテックヨーロッパ参加報告（応用） |
| 17 1990.2 | 日本曹達(株) 津田 秀雄 | ラドテックヨーロッパ参加報告（材料・その他） |
| 16 1989.11 | CNRS（France） Dr. C. Decker | Real Time Monitoring of Ultra Fast Curing by UV radiation and Laser Beam |
| 16 1989.11 | 松下電器産業(株) 小川 一文 | 放射線による単分子膜の重合とリソグラフィーへの応用 |
| 16 1989.11 | 日本大学 生産工学部 大谷 利勝 | 感光性樹脂模型による金型製作 |
| 16 1989.11 | 岩崎電気(株) 特機開発部 伊藤 孝志 | 瞬点形UVメタルハライドランプ |
| 15 1989.9 | 千葉大学 工学部 中平 隆幸 | 高分子における増感とエネルギー移動 |
| 15 1989.9 | 化学技術研究所 矢部 明 | エキシマレーザーと高分子 |
| 15 1989.9 | 新日鉄(株) 表面処理センター 上野 長治 | EBC法による高硬度耐汚染性鋼板 |
| 15 1989.9 | 大日本印刷(株) 建材研究所 塚田 正樹 | UV・EB硬化技術を用いた機能性コーティングフィルム |
| 14 1989.5 | 神奈川大学 工学部 西久保 忠臣 | 光機能性高分子 |
| 14 1989.5 | （株）東レ 平本 淑 | エレクトロニクス材料としての感光性ポリイミド |
| 14 1989.5 | 大分大学 工学部 岡田 紀夫 | 電子線照射による重合と硬化 |
| 14 1989.5 | 大成建設（株） 鶴田 裕・杉本 賢司 関西ペイント（株）丸山 攻・小川 正男 | 電子線硬化塗料の大理石塗装への適用 |
| 14 1989.5 | 日新ハイボルテージ（株） 坂本 勇 | EB照射装置の現状と将来動向 |
| 13 1989.2 | 京都工芸繊維大学 繊維学部 増原 宏 | レーザーアブレーションの分子論 |
| 13 1989.2 | 大阪府立大学 工学部 北尾 悌次郎・中澤 博行 | 機能性色素の情報記録材料への応用 |
| 13 1989.2 | アイ・シー・アイ・ジャパン(株) 道端 孝久 | 可視光硬化樹脂 |
| 13 1989.2 | 大日本塗料(株) 桐山 義行 | 厚膜型紫外線硬化エナメル |
| 12 1988.12 | 大蔵省印刷局 草木 里一朗 | 凹板インキの放射線硬化 |
| 12 1988.12 | 大阪府立産業技術総合研究所 丸谷 洋二 | 3次元造形用UV硬化樹脂の要求特性 |
| 12 1988.12 | 伯東(株) 応用化学事業部 浦上 憲雄 | DPCによる感光性樹脂の光反応性の評価 |
| 12 1988.12 | 東洋インキ製造(株) 開発研究所 土子 進 | 鋼板用EB転写システム |
| 11 1988.10 | RadTech Europe. President, Dr. Juerg R. Seidel | ヨーロッパにおける紫外線と電子線硬化技術の最近の進歩 “Recent Progress of UV and EB Curing in Europe” |
| 11 1988.10 | Res. Inst. for Plast Industry, Dr. Tibor Czvikovszky | 東欧諸国における電子線硬化の現状 “Present Status of EB Curing in Eastern Countries” |
| 11 1988.10 | Univ. of New South wales, Prof. John L. Garnett | 相補う硬化法としての紫外線と電子線硬化の技術 “UV and EB as Complementary Radiation Curing Techniques” |
| 11 1988.10 | North Dakota State Univ. Prof. S.Peter Papas | 光重合とその画像形成への応用 “Photoimaging Applications” |
| 11 1988.10 | CIBA-GEIGY Dr. Hermann Angerer | 光カチオン重合の化学とフェロセン系光開始剤の応用 “Cationic Curing Chemistry and Applications for Ferrocene Photointitators” |
| 10 1988.7 | 三菱レイヨン(株) 中本 英夫 | RadTech ’88報告 I：米国におけるEBCの現状 |
| 10 1988.7 | 加商(株) 大村 貞明 | RadTech ’88報告 II：RadTech Internationalにおける最近の話題 |
| 10 1988.7 | 日本ペイント(株) 中研 石原 直 | UV硬化塗料の紙加工への応用 |
| 10 1988.7 | 日本油脂㈱ 筑波研 松本 竹男 | 感光樹脂の歯科分野への応用 |
| 9 1988.5 | 日本原子力研究所 高崎研究所 細井 文雄 | 放射線によるカチオン重合硬化 |
| 9 1988.5 | クラレ(株) メディカル研究開発室 山内 淳一 | 歯科用光硬化型修復材料 |
| 9 1988.5 | 東洋インキ製造(株) 開発研究室 小林 敬 | EB照射による印刷抵抗体の硬化 |
| 9 1988.5 | 東京都立アイソトープ総合研究所 銘谷 和夫 | 放射線による繊維の難燃化 |
| 8 1988.3 | 京都大学医用高分子研究センター 筧 義人 | UVおよびEBによる表面グラフト処理 |
| 8 1988.3 | 東芝(株) 総合研究所 早瀬 修二 | 高解像度フォトレジスト |
| 8 1988.3 | 住友金属工業(株) 総合技術研究所 新井 哲三 | 紫外線硬化技術の鋼管防食への応用について |
| 8 1988.3 | 大阪大学理学部 蒲池 幹治 | 光開始剤－アシルホスフィンオキシドの光分解と生じたラジカルの反応性 |
| 8 1988.3 | オリンパス光学工業(株) 管野 敏之 | UV・EBの光記録への応用 |
| 7 1988.1 | 千葉大学工学部 小関 健一 | レーザー記録用フォトポリマー |
| 7 1988.1 | TDK(株) 久保田 悠一 | EB硬化によるフロッピィディスクの開発 |
| 7 1988.1 | 日本チバガイギー(株) 増田 彰宏 | プリント基盤向けエポキシフォトポリマー |
| 7 1988.1 | アイグラフィクス(株) 神部 彰 | UV照射の応用としての超促進性耐候試験材について |
| 6 1987.11 | 東京大学 工学部 田畑 米穂 | UV・EBによる表面加工－両プロセスの特徴、比較および将来の展望－ |
| 6 1987.11 | 住友電気工業（株） 増田 重雄 | 光ファイバー用UVコーティング材 |
| 6 1987.11 | トヨタ中央研究所 野田 正治 | イオンビームによる表面加工 |
| 6 1987.11 | 大阪大学 工学部 稲木 良昭 | 核酸の光化学と超解像度フォトレジスト |
| 6 1987.11 | 日本チバガイギー（株） Dr. G. Schlosser | New Development in Radiation and Cationic Polymerization |
| 5 1987.9 | 京都大学 工学部 山本 雅英 | 高分子固体中における光二重化反応 |
| 5 1987.9 | 東海大学 工学部 中村 賢市郎 | 電子線リソグラフィー |
| 5 1987.9 | 松下電器（株） 遠藤 政孝 | 半導体リソグラフィーにおける紫外線感光性樹脂 |
| 5 1987.9 | ウシオ電機（株） 大沢 理 | 紫外線硬化接着用スポット照射装置 |
| 5 1987.9 | 東京大学 工学部 勝村 肇介 | 低エネルギー電子線照射装置の最近の進歩 |
| 4 1987.7 | 東亜合成（株） 富永 幸澄 | Radcure Europe ’87報告（1）新製品・新材料のトピックス |
| 4 1987.7 | 三菱レイヨン（株） 宮川 紘雄 | Radcure Europe ’87報告（2）応用面でのトピックス |
| 4 1987.7 | 千葉大学 工学部 杉田 和之 | Radcure Europe ’87報告（3）各セッションの紹介と特色 |
| 4 1987.7 | 日本チバガイギー（株） 堀江 邦彦 | Radcure Europe ’87報告（4）光重合開始剤の動向 |
| 4 1987.7 | 日本原子力研究所 高崎研究所 佐々木 隆 | 電子線の散乱とその化学的効果－低エネルギー電子線の照射技術－ |
| 4 1987.7 | 大日本印刷（株） 能代 篤三 | UV・EBを利用した機能性コーティング製品 |
| 3 1987.4 | 三重大学 工学部 富岡 秀雄 | UV硬化性樹脂の光重合開始剤について |
| 3 1987.4 | 日本写真印刷（株） 辻 良治 | ハードコートの転写箔への展開 |
| 3 1987.4 | 日新製鋼（株） 増原 憲一 | EB硬化塗膜と鋼板との接着性向上へのアプローチ |
| 3 1987.4 | 大阪府立大学 工学部 角岡 正弘 | 光開始によって生成する活性種とその高分子系での利用 |
| 2 1987.2 | Lambda Physik Dr. Reiner Vehrenkamp | Excimer Laser Technology Today and Tomorrow（エキシマレーザー技術の現状と将来） |
| 2 1987.2 | 関西ペイント（株） 飯田 高三 | 光硬化性樹脂による酵素・菌体の固定化 |
| 2 1987.2 | 新日本製鉄（株） 平 武敏 | UV硬化型固体潤滑鋼板の開発 |
| 2 1987.2 | 東京工業大学 資源研 +C87 遠藤 剛 | 非収縮性モノマー |
| 2 1987.2 | 東京工業大学 境界研 堀江 一之 | 発光プローブ法による高分子固相反応の解析 |
| 1 1986.10 | 技術コンサルタント 谷畑 直 | 「Radcure (UV/EB硬化技術）国際会議の経緯と89年9月ボルチモアでの国際会議のトピックス」 |
| 1 1986.10 | Cray Valley Products Dr. Kelvin J.O’Hara | 「Prepolymers and Monomers for U.V. Curing 紫外線硬化型プレポリマーとモノマー」 |
| 1 1986.10 | RPC Industries Antino M. Rodrigues | 「Application of Low Energy EB for Surface Finishing低エネルギー電子線の表而加工への応用」 |
| 1 1986.10 | Energy Sciences Intern’! Dr. Jurg R.Seidel | 「EB Curing of Adhesive and Release Coatings 粘着層と剥離層の電子線硬化」 |