第195回ラドテック研究会講演会(2026/6/19)


第195回ラドテック研究会講演会

期  日:2026年6月19日(金)13:00~16:00

会  場:早稲田大学内コマツ100周年記念ホール(地下1階)
(東京メトロ東西線「早稲田」駅 3a出口 出たら左へ 徒歩3分 1階タリーズコーヒー)

会場案内はこちらをご参照ください。
〒162-0041 東京都新宿区早稲田鶴巻町513 
早稲田大学リサーチ・イノベーション・センター(121号館)

主  催:一般社団法人ラドテック研究会

協  賛:一般社団法人近畿化学協会・一般社団法人色材協会・合成樹脂工業協会・一般社団法人日本接着学会・フォトポリマー懇話会・一般社団法人有機エレクトロニクス材料研究会 (予定/順不同)

<プログラム>     

                        敬称略

①13:00~13:55(質疑応答含む)

「フォトレドックス触媒作用:その原理と発展の経緯」

東京科学大学 穐田 宗隆

太陽光を含む可視光照射により有機反応を促進するフォトレドックス触媒作用は、過去十数年にわたって爆発的に発展し、今や温和な条件下で有機ラジカルを発生させるグリーンケミストリーの基本技術の一つに成長した。

②13:55~14:50(質疑応答含む)

「半導体の三次元実装に向けたファインピッチ再配線材料の開発」

太陽ホールディングス株式会社 石川 信広

近年、半導体産業ではムーアの法則の鈍化を背景に、複数のチップレットを高密度に集積・接続するヘテロジニアスインテグレーションが注目されている。本講演では、高密度実装への適用を目指した当社のファインピッチ再配線材料について紹介する。

   14:50~15:05 休憩

③15:05~16:00(質疑応答含む)

「光重合開始剤の概要と選定方法について」

株式会社ADEKA 有吉 智幸 

光重合開始剤は、光硬化材料やフォトレジストにおいて、欠かせない材料である。当社オキシムエステル型光ラジカル開始剤や関連添加剤などを中心に、光重合開始剤の概要と特徴や選定方法を紹介する。

    16:00~17:00 定時社員総会 
  17:30~19:00 懇親会

   

※プログラムは変更になる場合がございます。

申込締切:6月17日(水)

1)参加費用:個人会員、法人会員(2名様まで) 無料
 法人会員3名様以降  ¥10,000-
 非会員 ¥20,000-
 非会員(協賛団体所属の方)¥10,000-

2)お支払いは、下記ボタンよりカード支払い OR 銀行振り込み。

 Visa、​​MasterCard、​​American Express、​​JCB、​​Diners Club、​​Discover

(カード決済業者Squareへ移動します。当研究会でカード情報など個人情報は保持しておりません。)

振込先:
三菱UFJ銀行 麹町支店 普通口座 0200322
口座名:シヤ)ラドテツクケンキユウカイ

※振込締切 2026年6月15日(月)
※振込手数料は振込人にてご負担ください。
※一度ご入金された参加費は返金いたしかねます。あらかじめご了承ください。
※請求書支払いをご希望の方は、参加申し込み時「その他」にご記入ください。

講演資料は、ホームページからのダウンロード形式です。(要旨集の印刷はございません)
 参加申込をいただいた方には、講演会の約1週間前頃に、メールにてダウンロード用のパスワードをご案内させていただきます。

皆様のご参加を心よりお待ちしております。


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