2025年1月23日（木）13：00～16：40

第188回ラドテック研究会講演会
期　日：2025年1月23日（木）13：00～16：40
会　場：早稲田大学 121号館コマツ100周年記念ホール
　　会場案内はこちらをご参照ください。
主　催：一般社団法人ラドテック研究会
協　賛：一般社団法人近畿化学協会・一般社団法人色材協会・合成樹脂工業協会・一般社団法人日本接着学会・
一般社団法人有機エレクトロニクス材料研究会・フォトポリマー懇話会（予定・順不同）

＜プログラム＞　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　(敬称略）
１） 13：00～13：50
「動的光重合による分子配向と高効率高分子合成」
　東京科学大学　宍戸 厚
　本講演では、われわれが開発した動的光重合法を紹介する。液晶モノマーを動的な光照射により重合することにより、複雑な分子配向を一段階でパターニングできる。さらに、本手法を汎用モノマーに適用することで、高分子量のポリマーを低露光量で合成できる。

２） 13：50～14：40
「有機フォトクロミック化合物の表面レリーフ形成材料への応用」
　横浜国立大学　生方 俊
　空間パターンを有する光に応じて物質が移動することで形成する表面レリーフ。本講演では様々な有機フォトクロミック化合物薄膜に形成される表面レリーフについて紹介する。

＜14：40～15：00 　休憩＞

３） 15：00～15：50
「チオール系硬化剤・増感剤の使用方法と市場動向」
　堺化学工業株式会社　山内 豊直
　チオール化合物はSH基の高い反応性と特長的な樹脂物性を発現することから、エポキシやアクリレート樹脂の熱・光硬化系に用いられている。今回、チオールの一般的な物性とともに、近年求められる低温硬化 (速硬化)、耐湿熱性、耐衝撃性に優れたチオール化合物について紹介する。

４） 15：50～16：40
「加飾技術の最新動向と今後の展望」
　D plus F Lab　伊藤 達朗
　製品表面の質感を向上させる目的で、様々な加飾技術が開発・適用されている。また今後は、意匠性プラス「機能との融合」「環境対応」「少量多品種対応」が求められてきている。今回講演では、加飾技術の最新動向を解説し、今後の加飾プラス付加価値付与について展望する。

17：00～18：30　賀詞交歓会
※プログラムは変更になる場合がございます。
＜申込締切＞　2025年1月17日（金）

＜参加要領＞
１）参加費用：個人会員、法人会員（2名様まで）　無料
　　　　　　　法人会員3名様以降　￥10,000.-（不課税）
　　　　　　　非会員　￥20,000.-（不課税）
　　　　　　　非会員（協賛団体所属の方）　￥10,000.-（不課税）

２）申込方法：下方の申込フォームへご入力ください。
　　　　　　　※法人会員様につきましては、代表者（窓口ご担当者様）の方にて
　　　　　　　　参加者のお取りまとめをいただき、ご入力をお願いいたします。

３）振込先：
　　三菱UFJ銀行　麹町支店　普通口座　0200322
　　※振込締切　2025年1月20日（月）
　　※振込手数料は振込人にてご負担ください。
　　※一度ご入金された参加費は返金いたしかねます。あらかじめご了承ください。

４）講演資料（要旨集）
　会場の受付にて、ご参加いただきました皆さまに1部お渡しいたします。
　開催終了後、会員の皆様へ送付させていただきます。

　「参加申込フォーム」
　 ※必要事項を入力し参加登録をお願いいたします。