企画趣旨
研究講演会、勉強会などの活動に加え、新規事業として、企業会員の若手研究者やアカデミアからの学生が集まり研究発表・討論することで、ラドテック研究会が広くカバーするUV/EB硬化技術領域の最先端の研究について、若手研究者相互の技術交流を通じて、縦・横の繋がりを再構築する機会とする。また、学生の発表の場を設けることで、当該分野の若手研究者の育成、奨励を目的とする。
なお、優秀な発表に対し、ポスター賞数件を授与する。
(2025/10/06更新)
日 時 | 2025年11月4日 (火)13:00〜18:00 |
場 所 | 東京理科大学 森戸記念館 Access 東京都新宿区神楽坂4-2-2 JR「飯田橋」西口 / 東京メトロ「飯田橋」B3出口下車 徒歩6分 都営大江戸線「牛込神楽坂」A3出口下車 徒歩3分 |
主 催 | 一般社団法人ラドテック研究会 |
協 賛 | 一般社団法人日本接着学会 |
ポスター発表件数予定 | 48件 |
スケジュール | 12:00~12:45 開場・ポスター貼付作業などを終了 13:00~13:50 ショートプレゼンテーション(1分 x 48件) 14:00~15:00 ポスター発表 前半 15:00~16:00 ポスター発表 後半 16:00~16:30 集計15分・表彰10分 16:30~18:00 懇親会 |
参加費 | 発表者・参加者ともに2000円 |
支払い方法 (下記ご参照) | 銀行振込 クレジットカード (Visa、MasterCard、American Express、JCB、Diners Club、Discover) |
対象者(発表・参加者ともに) | *ラドテック研究会の会員かどうかは問いません (発表者は学生と企業若手研究員を対象とさせていただきます。 *他の学会等で発表した内容でも可です) |
発表申込締切 | 2025年7月31日(多数の発表申込みありがとうございました) |
参加申込締切 | 2025年10月末日 |
アブスト送付締切 | 2025年 9月末日 office@radtechjapan.org 宛にお送りください (アブストのフォーマットはこちらよりダウンロードください) 2ページまで ※要旨集印刷(カラー) ※ホームページより閲覧(発表・参加申込の方へ、後日パスワードをお知らせいたします) |
ポスター | A0、書式・フォーマット自由 当日にご持参ください |
ショートプレゼンテーション | PowerPoint 1ページ(10/31までに事務局宛にお送りください) プロジェクタ投影あり |
ラドテック研究会第1回若手ポスター発表会 プログラム
①UV硬化 | |
P-01 | 側鎖での脱アセチル化を利用した反応現像画像形成法による酢酸セルロースの微細パターン形成 ○秀平汐理・前川紘之・大山俊幸(横浜国大院理工) |
P-02 | 連続的な求核アシル置換反応を現像反応として利用したポリイミドの微細パターン形成 ○松田瑞穂1・前川紘之1・大山俊幸1(横浜国立大学1) |
P-03 | 光硬化組成物に使われる光重合開始剤、及び添加剤 ○大洞圭次郎(株式会社ADEKA 環境材料開発研究所) |
P-04 | 精密UV硬化による傾斜構造の形成と反射防止コーティングへの適用 ○武井千夏1・麓 穂花1・小柳津 研一1・須賀 健雄1(早稲田大学1) |
P-05 | 接続基の異なるビスアントラセンによる光誘起表面レリーフ形成 ○百本理絵・三次佑弥・青木脩・丸本康太・園田泰史・生方俊(横国大院理工) |
P-06 | クマル酸型光塩基発生剤のLED波長依存性とエポキシ/チオール系のアニオンUV硬化への応用 ○井上奈々美1・村瀬健一2・小川土記世2・青木大亮1・有光晃二1(東理大創域理工1, DOWAエレクトロニクス2) |
P-07 | デジタルデバイスを支える光学フィルム用UVハードコート材料「ルクシディア」の特徴と開発事例 ○佐藤広賢・西田卓哉・奥村彰朗(DIC株式会社) |
P-08 | 空間光強度分布を有する光共重合による架橋高分子フィルムの局所硬さ制御と変形挙動解析 ○佐藤優之1・于佳芸1・岸本勇勝1・久野恭平1・宍戸厚1(科学大化生研1) |
②高分子合成・重合 | |
P-09 | 光塩基発生剤と塩基増殖剤を用いたポリウレタンフォームの光生成とその高効率化 ○岡村我信1・青木大亮1・有光晃二1(東理大創域理工1) |
③新規モノマー | |
P-10 | ポリマー主鎖にTHF環を導入する環化重合性モノマーの開発 ○齊藤杏実1・上原貴大1・山口拓馬1・宇治田理紗1・橘敦1(株式会社日本触媒1) |
P-11 | 感光性ポリグリセリン系メタクリレートによる感度・密着性・ 解像度の向上 ○樽井 章太1・松下 周平1・森 清1(阪本薬品工業株式会社1) |
P-12 | 二次元シロキサン材料開発を目指した両親媒性多官能シロキサンモノマーの合成 ○瀬和 直哉・入江 優樹・朱 慧娥・柏﨑 亜樹・三ツ石 方也(東北大院工) |
P-13 | 室温でSmA相を示すビオロゲン液晶の合成と光誘起複屈折変化 ○伊藤航平1・中裕美子2(東理大院理1,東理大理2) |
④接着 | |
P-14 | 層間絶縁材料の銅めっき密着性に対する真空紫外光および大気圧プラズマ表面処理の効果 ○阿部晟也1・米田朋加1・中村謙介1・平岡尊宏1・島本章弘1(ウシオ電機株式会社1) |
P-15 | 半導体素子固定用接着テープにおけるUV樹脂の影響 ○丸山真矢(リンテック株式会社) |
P-16 | ポリウレタン接着剤の光硬化に向けた光塩基発生剤の探索 ○井上陽依1・青木大亮1・有光晃二1(東理大創域理工1) |
P-17 | 光塩基発生剤を用いた多官能ラクトンモノマーの解体性UV接着の検討 ○山室祐大1・青木大亮1・有光晃二1(東理大創域理工1) |
P-18 | 透明熱硬化膜 ○森廣 茜衣1・小山 楓賀1・樋口 倫也1・丸澤 尚1 (互応化学工業株式会社1) |
P-19 | ボロン酸含有高分子ドーマントを用いた精密 UV接着とナノ構造制御 ○内田 直希1・小柳津 研一1・須賀 健雄1(早稲田大学1) |
P-20 | 光誘起レドックス開始ラジカル重合によるアクリル樹脂系の遅延UV接着 ○町田直哉・青木大亮・有光晃二(東理大創域理工) |
P-21 | ポリシラン系⼀液型UV接着剤の設計とポリプロピレン基板に対する接着性能の評価 ○太⽥航平1・⻘⽊⼤亮1・有光晃⼆1(東理⼤創域理⼯1) |
P-22 | UV接着層への2-メルカプトピリジル基の導入および効果 ○音羽矢可,千京律斗,古谷昌大 (福井高専) |
P-23 | 長鎖アルキル基を有するアゾベンゼンを添加したポリエステルの光可塑化現象 ○池上大輔1,2・信川省吾1・猪股克弘1(名古屋工業大学1・リンテック2) |
⑤電子材料・半導体 | |
P-24 | 感光性ポリシロキサン系による光パターン形成と熱硬化 ○伊藤由快1, 杉田建有2, 石川信広2, 中村優志3, 青木大亮1, 有光晃二1 (東京理科大学1, 太陽ホールディングス株式会社2, 大阪産業技術研究所3) |
P-25 | エポキシ樹脂を含むポリイミドまたはポリフェニレンエーテル膜のSemi-IPN 形成による光パターニング ○古川拓1・青木大亮1・有光晃二1(東理大創域理工1) |
P-26 | 光塩基発生剤を用いた水系フォトポリマーの特性 ○深山千遥1・小泉和也2・青木大亮1・有光晃二1(東理大創域理工1・ムラカミ2) |
P-27 | 液晶ディスプレイ向け感光性絶縁膜の開発 ○叶依風1・浅岡高英1・漆原英一郎1・八代隆郎1(JSR株式会社 ディスプレイソリューション開発センター プロセスソリューション材料開発室1) |
P-28 | 微細配線層向け感光性絶縁材料の開発 ○柴崎香帆1・井上豪1・奥田綾乃1・杉田健有1・関口翔也1・石川信広1 (太陽ホールディングス1) |
P-29 | クライゼン転位によりアルカリ現像が可能な感光性低誘電高分子材料の光パターニング ○星野叶馬1・中村優志2・青木大亮1・有光晃二1(東理大創域理工1・大阪技術研2) |
P-30 | メタクリル酸含有高分子ドーマントの精密UV硬化への適用 ○菊地 啓太1・小柳津 研一1・須賀 健雄1(早稲田大学1) |
⑥インキ・コーティング | |
P-31 | 真空紫外光照射によるウレタンアクリレートの表面性状変化および制御技術 ○岡田和弥1・竹元史敏1(ウシオ電機株式会社1) |
P-32 | ウレタン系塗膜の密着性不良の解析 ○大倉栄俊1、新居理咲子1, 中村しのぶ1, 山根伸也、生井勝康1( ㈱三井化学分析センター1) |
P-33 | 精密重合を駆使したリサイクル可能なコロイド結晶エラストマー膜の創製 ○三島卓也1・岩田直人1・古海誓一1(東理大院理1) |
P-34 | PDMS/PEGマルチブロック共重合体の設計と両親媒性コーティングへの応用 ○入江 優樹・佐藤 朋貴・朱 慧娥・柏﨑 亜樹・三ツ石 方也(東北大院工) |
P-35 | UV/EBを使用したwetプロセスの酸素ハイバリアコーティング ○佐藤武志1・杉浩紀1(東洋インキ機能材開発研究所1) |
⑦界面・表面 | |
P-36 | リンクル構造により構造色を呈するフィルムの開発 ○佐藤優衣1・入江早紀2・工藤茂樹1(TOPPANホールディングス株式会社1 ・TOPPANデジタル株式会社2) |
P-37 | ビスアントラセン化合物を用いた二層構造による表面レリーフ形成 ○二宮 功太・百本 理絵・三次 佑弥・生方 俊 (横国大院理工) |
P-38 | 光解離性高分子ドーマントを用いた精密UV硬化による階層性相分離構造の形成とその展開 ○麓穂花1・小柳津研一1・須賀健雄1(早大理工1) |
P-39 | 光反応性アミノ酸誘導体の界面光環化付加重合による中空高分子微粒子の作製 ○添川響1・北山雄己哉1・ 2・原田敦史1(阪公大院工1, JST さきがけ2) |
P-40 | マイクロリアクターを志向した界面光架橋反応による酸化還元応答性高分子カプセルの作製 ○宮地雄輝1・北山雄己哉1・ 2・原田敦史1(阪公大院工1・ JSTさきがけ2) |
P-41 | Breath-Figure 法によって形成される表⾯の⼆層構造の形成メカニズムの解明 ○⾨井 昌⼤1・中 裕美⼦2(東理⼤院理1・東理⼤理2) |
P-42 | 色素ドープ液晶の配向挙動に対するポリマーブラシ表面修飾の効果 ○高原弘次・中田優也・横田純輝・相沢美帆・久野恭平・宍戸厚(科学大化生研) |
⑧バイオマテリアル・ヘルスケア | |
P-43 | 放射線架橋タンパク質ゲルを用いた「遅筋」生体モデル細胞の作製 ○濱口裕貴1・大山智子1・大山廣太郎1・眞鍋康子2・藤井宣晴2・田口光正1(QST1・都立大2) |
P-44 | スチリルピリジニウム誘導体を導入した光架橋性と自己修復性を有する環動ヒドロゲルの合成および物性評価 ○大谷 聖矢1・木戸脇匡俊1(芝工大院理工1) |
P-45 | 微細構造および弾性率を制御した基板上の細胞運動とERK活性の相関解析 ○佐藤響1・大西優一朗1・山崎雅史1・大山智子2・大山廣太郎2・田口光正2・ 三好洋美1 (東京都立大学1・量子科学技術研究開発機構2) |
P-46 | がん細胞の運動性に及ぼすゼラチンゲル基板弾性率の影響 ○山本翔太郎1・大山智子2・大山廣太郎2・田口光正2・三好洋美1(東京都立大学 1,量子科学技術研究開発機構2) |
⑨環境適合 | |
P-47 | 機能複合型水系UVハードコート剤の開発 ○松村康平1・上杉奈菜美1・冨樫春久1 (荒川化学工業株式会社 研究開発本部 機能性コーティング開発部 NC3グループ1) |
P-48 | 水性ウレタンアクリレートの開発 ○佐々木佑輔1・酒谷修平1・加藤剛司1(三菱ケミカル株式会社1) |
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