一般社団法人ラドテック研究会

紫外線（UV）・電子線（EB）で世界を変える

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ラドテック研究会 講演会 一覧

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100～199回　講演会

講演者講演タイトル講演アブスト
194
2026.4		ビックケミー・ジャパン株式会社
本馬 克憲		UV/EB硬化型コーティング向け添加剤の種類と選択UV/EB硬化型コーティングにおける塗膜物性向上、塗膜状態改善、機能性粒子活用、意匠付与、水系化などの切り口から添加剤によるソリューションを紹介する。
194
2026.4		大阪産業技術研究所
川野 真太郎		光二量化架橋反応を利用したソフトマテリアルの高機能化我々は紫外光照射で光二量化するクマリン分子を修飾した高分子ゲルや塗膜の材料開発を行ってきた。本講演では、光二量化架橋による材料の粘弾性制御や硬質化、蛍光発光特性に関する最近の研究成果について紹介する。
194
2026.4		近畿大学
須藤 篤		米糠由来myo-イノシトールを原料とするモノマーの開発myo-イノシトールは、米糠等から得られる環状ヘキサオールである。本講演では、myo-イノシトールがもつヒドロキシ基の選択的な利用に基づく各種の多官能エポキシド類やメタクリラート類の開発について紹介する。
194
2026.4		三菱ケミカル株式会社
神田 幸宗		紫外線硬化型ウレタンアクリレート　紫光™の紹介紫外線をあてると瞬時に固まる性質をもつウレタンアクリレート。高硬度タイプから弾性タイプまでの幅広い特性で、様々な分野での利用が拡大している。弊社製品「紫光™」を通してそれら特性を紹介する。
193
2026.1		信州大学
高坂泰弘		分子内エステル交換を利用した分解が可能なUV硬化型接着剤の開発ラジカル開環重合を利用すると，ビニルポリマーの主鎖にエステル結合を導入できる．本研究では，隣接単位がもつアルコール側基を起点に主鎖エステル結合を切断する手法を開発し，UV硬化型解体性接着剤に応用した
193
2026.1		お茶の水女子大学
矢島知子		光ペルフルオロアルキル化反応の開発光反応は、近年盛んに研究が行われている。我々も紫外光・可視光を用いた含フッ素化化合物の合成法の開発に関する研究を行ってきた。本講演では、これらの合成法を紹介し、それぞれの特徴などについて議論する。
193
2026.1		株式会社日本触媒
橘敦		アクリル系環化重合性モノマーの開発とUV硬化分野での応用展開1,6-ジエンのラジカル環化重合により得られるポリマーは、その主鎖骨格に由来する高耐熱性や強靭性等の特性からUV硬化物への機能付与に有用である。本講演では環化重合性モノマーの合成例と応用展開を紹介する。
193
2026.1		ＫＪケミカルズ株式会社
清貞 俊次		アミド構造を有する3Dプリンタ向けオリゴマーおよびモノマーの開発物流革命の一翼を担う技術として3Dプリンタが注目されている。本講演では、当社の技術を生かしたアミド基含有のウレタンオリゴマー、アクリルモノマーに加えて、安全性の高い光開始剤について紹介する。
192
2025.10		芝浦工業大学
苅谷義治		硬化中の緩和過程を考慮した紫外線硬化接着剤の硬化応力シミュレーションUV接着剤の硬化中の緩和過程を実験により調査し，この結果を基に独自に開発した硬化収縮応力計算プログラムを実装した汎用FEMコードを用いて，硬化応力計算を検討した結果について述べる．
192
2025.10		大阪産業技術研究所
舘　秀樹		UV光を用いる易解体性材料の開発近年、使用後に解体が可能となる易解体性材料に注目が集まっている。我々がこれまでに開発してきた光を用いた易解体性材料に加えて、電気刺激などの特徴的な外部刺激を用いた易解体性材料について紹介する。
192
2025.10		Biomatter lab
伊藤嵩人		Biomatter: 生物と材料を光重合パターニングで繋ぐ生物は不均一な物性によって多彩な機能形態を生む。この仕組みに学び、2Dフィルムの変形から任意の3D表面を作る技術を開発した。生物学・幾何学・材料科学を融合した新しいものづくりを紹介する。
192
2025.10		JSR株式会社
八代隆郎		液晶ディスプレイ向け感光性絶縁膜の開発液晶ディスプレイは、私たちの生活全般に幅広く活用されております。本講演では、液晶ディスプレイの大型化、高精細化、高輝度化に欠かせない感光性絶縁膜技術を紹介する。
191
2025.8		大阪公立大学大学院
北山雄己哉		界面光反応に基づく構造的特徴をもつ機能性高分子微粒子材料の開発中空粒子や高分子カプセル等の高分子微粒子材料は、化粧品、香料、肥料などの多くの分野で用いられる。本発表では、我々が独自に開発を進めてきた微粒子界面における光反応を利用した構造的機能をもつ高分子微粒子材料の最近の開発事例について紹介する。
191
2025.8		量子科学技術研究開発機構
山本洋揮		半導体リソグラフィの動向と反応機構に基づいたEUVレジスト材料開発コンピューターの性能の更なる向上が要求されている半導体分野において、EUVリソグラ
フィが実用化された。 本講演では、EUVレジスト材料の反応機構および反応機構に基づい
た高性能化について解説し、我々の最近の研究例を紹介する。
191
2025.8		ユシロ化学工業株式会社
大崎基史		ホストゲスト相互作用を用いたスマートマテリアルにおける紫外光の応用展開5G・IoT等の技術革新や資源循環志向にあって、高分子材料に強靭さ等の飛躍的向上や自己修復性等の機能付与が求められている。UVを用いた応用例を含め、分子間相互作用による機能性材料への最新の取り組みを紹介する。
191
2025.8		株式会社スリーボンド
大槻直也		光硬化型接着剤の硬化光源変更が及ぼす性能変化現在、接着剤の硬化光源は「水銀に関する水俣条約」の規制対象外であるが、昨今の地球環境保全への外部環境の変化を鑑み、水銀灯にて設計した光硬化型接着剤のLED光源における性能変化と性能維持への工夫を紹介する。
190
2025.6		東京理科大学
安藤格士		UV ナノインプリントリソグラフィ充填プロセスの分子動力学シミュレーションUVナノインプリントリソグラフィーにおけるレジスト充填過程の分子レベルの挙動を分子動力学シミュレーションで解析した研究例を発表します。実験を専門としている方々にも有益な内容となるよう分子シミュレーションの基礎的な内容から話す予定です。
190
2025.6		株式会社デンソー
岡本真一		車載向けUV硬化型粘着シール技術開発粘着材の車載製品への適用を目的に、水素結合の発現を狙ったポリチオール化合物を導入。
非共有電子対を有する高活性の硫黄が被着体の官能基と水素結合を形成し、車載環境にも適用可能な粘着耐久特性を実現。
190
2025.6		株式会社レゾナック
原　真尚		多官能エステル型２級チオール　カレンズＭＴの紹介(株)レゾナック製品のカレンズMTシリーズは、2級チオールであるため組成物の安定性と硬化性のバランスが優れるという特徴を⽰す。
本発表では特にUV硬化系で⽤いた際の性質について紹介する。
190
2025.6		日本接着学会会長　東京科学大学
扇澤敏明		日本接着学会の紹介（+「イオンビーム照射による小口径人工血管用材料の表面改質」）　日本接着学会の研究技術領域や活動の紹介を行う。加えて、ラドテック研究会に関連すると思われる自身の接着関連研究についても紹介する。
189
2025.4		University of Haute Alsace
Prof. Xavier Allonas		Breaking the boundaries using non-conventional ways to improve the reactivity of photoinitiators
189
2025.4
株式会社アクロエッジ
中宗憲一		UV硬化樹脂およびプラズマ表面処理状態の高速測定技術半導体産業では、UV硬化樹脂やプラズマ処理の品質管理が不可欠であり、高速かつ高精度な評価技術が求められている。本講演では、歩留まり向上を目的とした、蛍光を用いたUV硬化樹脂の硬化度およびプラズマ処理状態の測定技術について、その原理と最先端工場での応用事例を紹介する。
189
2025.4		松浪硝子工業株式会社
石井一久		UVインプリント技術および表示デバイス等への応用事例UV硬化樹脂を用いて、ガラス基板の上にナノ・マイクロオーダーの樹脂微細構造を、高精度に形成するUVインプリント技術を紹介する。また、本技術を活用した表示デバイス等への応用事例を紹介する。
189
2025.4		大阪公立大学
堀邊英夫		半導体産業の動向と半導体用レジストの材料設計レジスト材料(感光性樹脂) ・プロセスについて解説するとともに、元デバイスメーカーに席を置いた者の視線で、素材メーカーにおけるフォトレジスト評価法や半導体産業の動向についてもご紹介する。
189
2025.4		東京理科大学
有光晃二		塩基発生反応が拓く高機能フォトポリマー光塩基発生反応や連鎖的な熱塩基発生反応を駆使した「影部UV硬化」、「傾斜構造を有する有機－無機ハイブリッド膜の光作製」、および「Semi-IPN構造形成による光パターニング」など、我々の最近の研究例を紹介する。
188
2025.1		東京科学大学
宍戸 厚		動的光重合による分子配向と高効率高分子合成本講演では、われわれが開発した動的光重合法を紹介する。液晶モノマーを動的な光照射により重合することにより、複雑な分子配向を一段階でパターニングできる。さらに、本手法を汎用モノマーに適用することで、高分子量のポリマーを低露光量で合成できる。
188
2025.1		横浜国立大学
生方 俊		有機フォトクロミック化合物の表面レリーフ形成材料への応用空間パターンを有する光に応じて物質が移動することで形成する表面レリーフ。本講演では様々な有機フォトクロミック化合物薄膜に形成される表面レリーフについて紹介する。
188
2025.1		堺化学工業株式会社
山内 豊直		チオール系硬化剤・増感剤の使用方法と市場動向チオール化合物はSH基の高い反応性と特長的な樹脂物性を発現することから、エポキシやアクリレート樹脂の熱・光硬化系に用いられている。今回、チオールの一般的な物性とともに、近年求められる低温硬化 (速硬化)、耐湿熱性、耐衝撃性に優れたチオール化合物について紹介する。
188
2025.1		Ｄ plus F Lab
伊藤 達朗		加飾技術の最新動向と今後の展望製品表面の質感を向上させる目的で、様々な加飾技術が開発・適用されている。また今後は、意匠性プラス「機能との融合」「環境対応」「少量多品種対応」が求められてきている。今回講演では、加飾技術の最新動向を解説し、今後の加飾プラス付加価値付与について展望する。
187
2024.10		名古屋工業大学
水野 稔久		天然樹脂セラックからの細胞培養材料開発、光応答性の付与セラックは、生体安全性高い天然樹脂として広く産業利用されているが、我々は、僅かな化学修飾を施すことで哺乳類細胞に対する接着性を付与できることを発見した。この修飾に光脱離性を持たせることで、光応答性の付与にも成功した。
187
2024.10		東京工業大学
癸生川 陽子		小惑星内部で生じたガンマ線が生命の原材料を供給した可能性小惑星に由来する隕石にはアミノ酸などの有機物を含むものがあり，これらが原始地球に生命の原材料を供給したのかもしれない。小惑星内部の放射性核種による放射線を想定した実験から，アミノ酸や糖などの有機物形成について紹介する。
187
2024.10		東レ株式会社
諏訪 充史		東レのシロキサンコーティング剤と実用化事例スマートフォンやPCの進化には、光学デバイスの性能向上が不可欠である。東レは、その構成材である硬化膜を形成するための各種シロキサンコーティング剤を製品化している。本公演では、それらの実用化事例を紹介する。
187
2024.10		日亜化学工業株式会社
山内 繁晴		紫外線LEDの利用と今後紫外線の光反応は様々な分野で利用されている。これまで紫外線水銀ランプを光源に使用したものが多かったが、近年UV-B, UVC領域の紫外線LEDの進歩によりLEDの利用が始まっている。利用例をLEDの性能ロードマップとともに紹介する。
186
2024.8		静岡大学
河野 芳海		無機材料との複合化による天然色素の安定性向上近年、安全性や環境の観点から、着色材として天然色素が注目されるが、安定性に劣る欠点がある。細孔や層状構造を持つ無機材料に天然色素分子を固定化することで、その安定性を大幅に向上できる。本講演では、色素の性質に合わせた無機ホスト材料の選定と、得られた色素複合体の物性を紹介する。
186
2024.8		東京理科大学
関 淳志		刺激応答性自己組織化材料の創出我々は刺激応答性ソフトマテリアルの創出を目的として研究に取り組んでいる。本講演では、電場に応答して極性構造を形成し特異な光起電力効果を示す強誘電性π共役液晶や様々な化学刺激に対して応答を示す発光性超分子ゲルについて、ご紹介したい。
186
2024.8		YAMAKIN株式会社/高知大学
坂本 猛		歯科接着の技術的特性と現状歯科で使用する接着系材料は有機化学や高分子化学を基礎として開発されているが、独自の進化をしている。本講演では、技術的な独自性の事例が挙げながら、歯科接着の発展と現状について解説する。
186
2024.8		明治大学
宮城 善一		規格試験を踏まえた粘着特性評価法の高精度化と試験結果の信頼性評価粘着剤・粘着製品の品質評価は主に国内外の規格試験で行われているが、粘着剤・粘着製品の高機能化を踏まえ、粘着特性の評価法の高精度化・高度化の必要性と、評価結果の不確かさの評価と信頼性表記の方法を考える。
185
2024.6		京都工芸繊維大学
松川 公洋		光架橋反応により創成される有機無機ハイブリッド材料の機能性と応用有機無気ハイブリッド材料は、機能性コーティングへの活用が期待されている。本講演では、シルセスキオキサンや無機ナノ粒子を含んだハイブリッド材料において、光架橋による薄膜合成とそれらの応用展開について紹介する。
185
2024.6		大阪公立大学
髙橋 雅英		有機/無機エピタキシャル界面の創出と機能化ゾルーゲル法は溶液経由で無機材料や有機-無機ハイブリッド材料を作成できることから，ナノ構造を制御することとあわせて機能性向上の有力な手段となっている。本講演では、ゾルーゲル法を用いて、有機/無機界面制御による金属有機構造体のエピタキシャル成長や配向ナノ多孔構造を利用した機能付与について解説する。
185
2024.6		産業技術総合研究所
中島 智彦		パルス紫外光を用いるセラミックス薄膜の光結晶成長と界面制御技術フレキシブルデバイスやMIDなどの低耐熱性樹脂・金属基材へセラミックス機能を付与するためパルス紫外光利用は一つの優良解となる。講演では光結晶成長を用いたセラミックス薄膜の高速オンデマンド形成技術及び異種材料接合技術について紹介する。
185
2024.6		TRONLY株式会社
張 学龍		光硬化用の新材料の開発と応用光硬化は硬化速度が速く、硬化温度が低く、成膜性能が良く、安全で環境に優しいという特徴があり、ますます幅広い分野に応用されている。光硬化技術の開発では、高感度、高解像度、長波長活用、低黄変、低臭気、低移動性、低毒性などのニーズが光硬化材料の継続的な発展を推進してきた。強力新材(株)【Tronly(株)】は、新しい開始剤、増感剤、モノマー、樹脂その他の光硬化材料の持続的な開発を通じて、フリーラジカル硬化、カチオン硬化、およびハイブリッド硬化技術の一連のソリューションを提案している。
184
2024.4		物質・材料研究機構　高分子・バイオ材料研究センター
内藤　昌信		サーキュラーエコノミー時代の再生可能接着剤リサイクルとタフ化の両立は接着剤に求められる未踏課題である。特に水中で強固に接着させる材料は、製造・インフラ補修から、身近な日常生活にまで応用が期待される。本発表では、生物由来の新規接着モチーフとして、カフェ酸に注目し、必要な時に何度でも再利用でき、かつ、不要になったら初期状態に回収することができるタフ化接着剤の開発について紹介する。
184
2024.4		立命館大学　生命科学部　応用化学科
小林　洋一		半導体ナノ結晶を用いた難分解性化学物質の温和な光分解常温常圧下で半導体ナノ結晶にLEDの可視光線を照射するだけで、パーフルオロアルキル化合物（炭素原子の中で最も強いC－F結合で覆われた難分解性化合物）をフッ化物イオンにまで分解できることに見出したので紹介する。
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2024.4		株式会社オーク製作所
宮坂　勝也		紫外放射照度計のJCSS校正と”UV-LED用照度計”による高精度な測定環境の提供UVの放射照度[単位W/m2]の測定は様々なアプリケーションで重要であり、当社では初めて紫外放射照度計のJCSS(ISO/IEC 17025)校正サービスの提供を開始した。UV-LEDの測定をランプ用UV照度計で行うと発生する誤差を軽減した専用UV照度計を紹介する。
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2024.4		Cubicure GmbH
コルマンツ・セバスチャン		「Hot Lithography」技術のご紹介ホットリソグラフィ技術に基づいた光造形装置により、高粘度フォトポリマー樹脂の積層加工が可能となった。 高粘度の樹脂も加工できるため、高性能のフォトポリマー材も開発出来る。
184
2024.4		３Ｄ　Architech .Inc 　
工藤　朗		光造形３Ｄプリンティングによるカーボンマイクロ構造の作製と応用３Ｄプリンティング手法の中でも、光造形方式は解像度・造形スピード・造形できるサイズのバランスに優れ、趣味から研究開発まで広く普及している。造形用の樹脂をカスタマイズして熱処理を加えることで、各種ハードマテリアルのマイクロ構造を開発でき、構造材料やエネルギー材料への応用が期待されている。今回は中でもカーボンを中心に、ホットリソグラフィ法とのシナジーに触れて発表する。
183
2024.1		大阪大学大学院
谷 洋介		光融解する新しい分子材料とそのメカニズム光照射によって融解する、新しい有機分子材料を見出した。この材料は光融解するだけでなく、融解に先駆けて発光色などが変化した。講演では、この発光挙動から解明した光融解のメカニズムを含めて紹介する。
183
2024.1		慶應義塾大学SFC研究所
藤井 雅彦		インクジェットの技術動向と進化形態
～インクジェットは何処に向かおうとしているのか～		この20年、インクジェット技術進化が市場拡大(変化)を牽引した側面と、市場変化に技術が対応した両側面がある。これにより技術進化形態にも異なる2つの状況が並立するようになった。最新の技術トピック紹介も交え、今後インクジェットが向かう方向を考えたい。
183
2024.1		株式会社ダイセル
竹中 洋登		脂環式エポキシ樹脂の開発動向と応用例についてカチオン硬化系であるエポキシ樹脂の概要、当社が製造・販売を行っている脂環式エポキシ樹脂の製品紹介を中心に行う。また、脂環式エポキシ樹脂の開発例、応用例についても紹介する。
183
2024.1		サンアプロ株式会社
白石 篤志		近赤外光を光源とする開始剤の検討とフォトポリマーへの応用我々は長波長である近赤外光に着目しこれを用いる光硬化系の検討を行っている。本講演では、ヨードニウム塩／増感色素を併用した近赤外光を光源とする開始剤系の基礎的な検討について報告し、フォトポリマーへの応用可能性について触れる。
182
2023.10		　　　　　　　　　　　　　　産業技術総合研究所
敷中　一洋		植物・鉱物由来高分子による機能素材開発本講演では植物由来芳香族系高分子リグニンや鉱物由来無機高分子粘土鉱物を用いた機能素材開発について紹介する。第一に環境負荷の低いリグニン抽出法「同時酵素糖化粉砕」と「白色化技術」を通じたリグニン機能素材化について述べる。第二にリグニンと粘土鉱物から成る紫外線吸収性機能膜について述べる。
182
2023.10		三井化学株式会社
髙橋　一生		歯科材料における有機過酸化物フリーラジカル重合開始剤の開発歯科材料においても、アクリレートのラジカル重合を用いた製品がある。光重合のみならず、化学重合も用いられる。有機過酸化物を含むことが一般的であるが、保管安定性の観点から懸念があり、新規重合開始剤を創出した。
182
2023.10		IGMジャパン合同会社
阿部　浩之		光重合開始剤のEU規制動向ならびに代替品開発状況既存の光重合開始剤について、欧州化学品庁（ECHA）による有害性区分の変更やSVHCへの収載が進んでいる。本稿ではEUにおける最新の規制動向及び代替可能なIGM社の新製品を紹介する。
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2023.10		ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン株式会社
高野　雅嘉		レオロジーの基礎とレオメーターを用いた光硬化型樹脂のアプリケーション事例レオロジーとは物質の変形および流動に関する学問分野であり、低粘度液体から高弾性固体まで、あらゆる材料の力学的な応答を評価の対象とする。本講ではレオロジーの基礎から光硬化型樹脂の測定事例まで紹介する。
181
2023.8		千葉大学
青木　大輔		廃棄プラスチックから肥料を作る –カーボネート結合を活用した高分子循環システム–本発表では、使用後のプラスチックを肥料として活用する新しいリサイクルシステムとその将来展望について紹介する。1
181
2023.8		千葉大学
青木　大輔		廃棄プラスチックから肥料を作る –カーボネート結合を活用した高分子循環システム–本発表では、使用後のプラスチックを肥料として活用する新しいリサイクルシステムとその将来展望について紹介する。2
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2023.8		早稲田大学
小柳津　研一		エネルギーを貯める有機材料：全固体空気電池と水素キャリア高分子レドックス活性基を繰り返し単位あたりに置換した有機ポリマーは，充放電を担う電極活物質としての性質を示す。全固体空気二次電池や水素キャリア高分子など，エネルギー貯蔵を担う機能性高分子の最近の展開について紹介する。
181
2023.8		富士フイルム株式会社　有機合成化学研究所
土村　智孝		光酸発生剤と先端フォトポリマー材料への応用光酸発生剤（PAG）は、フォトポリマー材料の特性を大きく左右するキー素材の一つである。本講演では、多様な露光光源や、CTPイメージング、EUVリソグラフィーなど新アプリケーションに対応した高度な機能を有するPAGについて紹介する。
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2023.8		SCIVAX株式会社
粟屋 信義		ナノインプリント技術の基礎と光学デバイスへの応用本講演ではナノインプリント技術の基礎となる化学と物理について解説し、現在の製品開発製造に用いられているナノインプリント装置、プロセス、材料技術について紹介する。さらにAR/VRなど近年注目されているナノフォトニクスデバイスへの応用の実例を紹介する。
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2023.6		山形大学
増原 陽人		機能性ナノ粒子の表面改質による新規発光材料と電解質膜への展開当研究グループでは、機能化したナノ結晶・粒子を基盤として、デバイス材料を創製してきた。本研究会では、近年精力的に取り組んでいるペロブスカイトナノ結晶と固体高分子形燃料電池の電解質膜に関して紹介する。
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2023.7		東京大学 生産技術研究所
池内 与志穂		オルガノイドを用いた神経回路組織の構築脳内の巨視的な神経回路模倣するためにオルガノイドとよばれる幹細胞由来組織を繋ぎ合わせると、従来のオルガノイドに比べてより強く複雑な振動活動を生じる。神経組織構築や制御における光の活用について紹介し、さらなる発展について議論したい。
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2023.8		イーストマンケミカルジャパン株式会社
上田 剛史		イーストマンケミカルのUV硬化樹脂向け特殊添加剤のご紹介昨今の環境対応の高まりを受け、溶剤系→無溶剤 UV硬化樹脂へシフトしている状況下UV硬化樹脂の課題「硬化収縮に伴う基材密着及び、上塗り密着不良」を改善しうる特殊添加剤をご紹介、皆様の開発の一助になればと考えている。
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2023.9		シーシーエス株式会社
國枝 利之		機能性ナノ粒子の表面改質による新規発光材料と電解質膜への展開当研究グループでは、機能化したナノ結晶・粒子を基盤として、デバイス材料を創製してきた。本研究会では、近年精力的に取り組んでいるペロブスカイトナノ結晶と固体高分子形燃料電池の電解質膜に関して紹介する。
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2023.4		北陸先端科学技術大学院大学
桶葭 興資		自然環境に在るエネルギー変換系と高分子ゾル-ゲル設計水の蒸発界面はDRYでWETな非平衡環境であり、ミクロにもマクロにも高分子が組織化してくる。本研究では、水の相転移や水の分解に関わるエネルギー変換に着目し、特に界面分割現象を紹介する。
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2023.4		北陸先端科学技術大学院大学
桶葭 興資		自然環境に在るエネルギー変換系と高分子ゾル-ゲル設計水の蒸発界面はDRYでWETな非平衡環境であり、ミクロにもマクロにも高分子が組織化してくる。本研究では、水の相転移や水の分解に関わるエネルギー変換に着目し、特に界面分割現象を紹介する。
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2023.4		近畿大学
納谷 真一		光反応とヘテロエピタキシャル接合で構築される特異なナノ構造を持つプラズモニック光触媒半導体ナノ粒子による光触媒反応を利用することで、原子レベルで整合したヘテロエピタキシャル接合により特異なナノ構造体が構築され、極めて活性の高いプラズモニック光触媒が合成されることを紹介する。
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2023.4		東洋インキ株式会社
大野 隆基		パッケージの高付加価値化に寄与するEBトップコート軟包業界で求められる短納期対応やプラスチック問題に対し、軟包装用に開発したEBトップコート「Elex-one® Gloss Varnish」が秘めたポテンシャルを紹介する。
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2023.4		岩崎電気株式会社
坂寄 忠之 		パッケージの高付加価値化に寄与するＥＢ硬化システム軟包業界の課題である短納期対応やプラスチック問題などの解決が求めらていれる。その課題解決に向けて無溶剤、非加熱であるＥＢコーティングラインの詳細及びＥＢ硬化装置の原理と構造を紹介する。
179
2023.4		株式会社パルメソ
松原 亨		改質・劣化による材料表面の強度変化を精密に分析材料表面をナノレベルでの強さ分布を可視化・数値化するMSE試験を開発した。これまで材料自体の強さ比較や、多層構造の膜の強さ分布、表面劣化や改質などの強さ変化の様相などを対象に実績を積み重ねている。本講演では原理及び具体的試験事例、加えて光関係の表面改質や劣化についても紹介する。
178
2023.1		九州大学
川口 大輔		機能設計に向けた界面高分子の構造・物性の理解高分子をベースにしたさまざまな複合材料・デバイスの機能特性はバルクのみならず異種固体界面で発現する。本講演では、様々な界面選択的分光法に基づき評価した界面における高分子の構造・物性が材料の機能発現に及ぼす効果について紹介する。
178
2023.1		東京大学
寺尾 潤		光と酸の協働刺激による光安定材料の光加工法の開発光分解性材料は、自然光の下で長時間利用できない問題点がある。そこで、光に対する安定性と分解性を両立させた新材料開発に取り組んだ結果、光に安定でありながらも酸存在下で光分解するゲル材料の開発に成功した。
178
2023.1		日本特殊コーティング株式会社
篠原 宣康		光ファイバ用ＵＶ硬化型コーティング材料の開発商用サービスがスタートし身近に浸透しつつあるモバイル通信規格“5G”、 社会に変革をもたらすIoTやビッグデータ活用は、光ファイバの高速デジタル通信により実現されている。光ファイバ用途で活躍する日本特殊コーティングのUV硬化型コーティング材料“デソライト®” の開発について報告する。
178
2023.1		東亞合成株式会社
大房　一樹		2022年　日本のUV／EB硬化樹脂市場概説日本におけるUV／EB硬化樹脂の各種用途（インキ、塗料、電子材料、ディスプレイ関連材料）における市場動向、トレンドを説明する。また、後半ではラドテック研究会で発表された新技術も紹介する。
177
2022.10		東京農工大学
兼橋 真二		紫外線を用いた光硬化性バイオベースポリマーの創出カーボンニュートラル社会の実現に向け、大きな期待が寄せられている再生可能なバイオマスを原料とする新しいバイオベース材料の創出について紹介する。
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2022.10		理化学研究所
平山 秀樹		コロナ社会に期待される深紫外LEDの進展と展望人の活動空間におけるウイルス不活化応用のために現在開発している、人体無害波長（230nm）Far-UVC LEDの高効率・高出力化の進展、並びに、社会実装を目指した高出力LEDパネルの実現とコロナウイルスへの実用試験に関してご紹介する。
177
2022.10		積水化学工業株式会社
七里 徳重		エポキシ系UV遅延硬化接着剤の反応解析と応用エポキシ樹脂は、カチオン重合型UV硬化樹脂として高信頼性の接着剤等に利用されている。当社ではUV硬化に時間制御を施した光遅延硬化接着剤を開発しており、本講演ではこの反応解析と電子材料への応用例を紹介する。
177
2022.10		凸版印刷株式会社
稲葉 喜己		UV硬化型エマルジョンの形質変換を利用した自発的パターニング法UV 硬化型エマルジョン液膜に部分露光を施し、続く乾燥プロセスで自発的なパターンを形成する。 露光部に生じた粒子凝集体の間隙に、乾燥で合一した未露光部の液滴成分が毛管作用で吸収されて凹凸パターンを得る。 現像不要でR2Rプロセスへの適用が可能。
176
2022.7		宇都宮大学
杉原 興浩		自己形成光導波路による光通信部品自動接続への期待光硬化性樹脂を用いた自己形成光導波路は、光通信部品自動接続への応用が期待されている。そこで、自己形成光導波路の研究開発の進展と、近赤外光硬化性樹脂を用いた光通信部品接続についての研究開発事例について紹介する。
176
2022.7		横浜国立大学
丸尾 昭二		マイクロ光造形法の最新動向：造形技術の進展と多様な材料開発近年、最も高精細な3Dプリント技術であるマイクロ光造形法は、医療、歯科、フォトニクス、マイクロマシンなど幅広い分野に応用されている。本講演では，光造形技術の最新動向と、樹脂、セラミックス、ゲルなど多様な材料開発の事例について紹介する。
176
2022.7		岩崎電気株式会社
小野 健一郎		紫外線等を用いた促進耐候（光）性試験機の動向ＳＤＧｓなどの影響から建材・自動車をはじめ、様々な分野で長期耐候(光)性の要求が高まっている。今回、主に紫外線等を用いた各種促進耐候(光)性試験機の特長などを説明し、各種分野の利用事例など最近の開発動向について紹介する。
176
2022.7		リンテック株式会社
田中 佑耶		UV硬化技術を用いた半導体製造後工程用テープ半導体の製造後工程ではUV硬化によって任意のタイミングで意図的に粘着力を低下し、半導体素子を剥離するテープが使用される。 近年テープに要求される性能や課題に加え、開発品であるUV型保護膜について紹介する。
175
2022.4		大阪公立大学
小畠 誠也		フォトクロミック分子を用いた分子センサーとフォトアクチュエーター本講演では、光に応答して分子構造変化を示すフォトクロミック化合物の中で、可逆反応の繰り返し耐久性に優れたジアリールエテンを用いた紫外線センサー、温度センサー、フォトアクチュエーターについて紹介する。
175
2022.4		岩手大学
大石 好行		高周波用プリント基板に向けた低誘電特性を有するフッ素系およびトリアジン系樹脂の開発次世代の高周波対応プリント基板用の低誘電材料の開発に向けて、耐熱性と誘電特性に優れるパーフルオロアルカンと1,3,5−トリアジン環に着目し、低誘電率および/または低誘電正接を有するフッ素系およびトリアジン系樹脂について紹介する。
175
2022.4		量子科学技術研究開発機構
河地 有木		RIイメージング技術の開発と多様な応用研究放射性同位元素（RI）を製造し、これをRIトレーサとして用いて計測することで生体内の元素動態を可視化する技術を「RIイメージング技術」と定義できる。これを基盤とした医療、農業、環境を対象とした応用研究を紹介する。
175
2022.4		ウシオ電機株式会社
大橋 広行		波長222nm紫外線の安全性と新型コロナウイルス等への効果について222 nm の紫外線は、従来の紫外線のように病原体に対して高い不活化効果を示すが、生体に対する安全性が極めて高いことが複数の医療機関や大学で確認されている。222nmの新型コロナウイルス等への効果等を発表する。
174
2022.1		東京工業大学名誉教授
上田　充		重縮合系高分子合成の最近の進歩重縮合系高分子の1次構造を精密に制御する最近の研究を中心に紹介する。すなわち、分子量、分子量分布、配列、分岐度制御、更には簡便な共役系高分子合成、非等モル下での高分子量ポリマーの合成も興味ある合成方法として取り上げる。
174
2022.1		昭和電工マテリアルズ株式会社
竹澤　由高		メソゲンエポキシ樹脂の接着界面における高次構造と熱伝導性近年、機器の放熱性を極限まで向上させるために、接着界面のナノ～ミクロ的な高次構造制御が必要となってきている。本講演では、高熱伝導性を発現するメソゲンエポキシ樹脂の接着界面における高次構造解析結果を中心に、新しい熱放射材料に関しても紹介する。
174
2022.1		産業技術総合研究所
則包　恭央		光異性化反応を活用した光固液相転移と動的挙動の発現光異性化反応を利用することで、光で固体と液体の間の可逆的な相変化が可能な物質や材料が実現可能である。講演では、このような物質の原理や利用、およびその研究の中で発見した、光で動的な挙動を発現する材料について紹介する。
174
2022.1		岩崎電気株式会社
武井 太郎		ＥＢ利用の印刷・塗装分野での利用ＥＢ（電子線）の産業利用はエネルギーコスト、ＶOＣ、ＣＯ２削減の点から注目されている。ＥＢ装置の概説を行い、利用事例として印刷分野での現況や、塗装分野への応用、最近の開発動向について紹介する。
173
2021.11		九州大学
藤ヶ谷剛彦　		ポリベンズイミダゾールの炭素表面への吸着を利用した材料開発炭素材料にさらなる高機能化をもたらすポリベンズイミダゾールによる表面改質法について紹介する。また、本手法の基礎となる高分子の炭素材料への吸着現象についても触れることで、一般化の一助となることを目指す。
173
2021.11		徳島大学
高島祐介		高屈折率ナノ構造による深紫外～可視域での発光およびセンシングデバイス周囲と大きな屈折率差を持つナノ構造は、波長以下の単層構造でユニークな性質が実現できる。本講演では、高屈折率ナノ構造の深紫外～可視域での発光およびセンシングデバイスへの展開・応用について述べる。
173
2021.11		セメダイン株式会社
秋本　雅人		異種材接着と新規硬化システムへの展開近年、関心が高まっている異種材料の接着として、弊社で検討している変成シリコーン樹脂を応用した接着系について簡単に紹介する。応用技術として、紫外線をトリガーとしたオンデマンド接着について簡単に紹介する。
173
2021.11		阪本薬品工業株式会社
宮路　由紀子		ポリグリセリン系モノマーの機能紹介ポリグリセリン系モノマーは、ネットワーク形成においてソフトセグメントとして機能する多官能モノマーである。本講演では、ポリグリセリン系アクリレートを中心に、ポリグリセリン系モノマーの特性を紹介する。
172
2021.8		東北大学
中川　勝		レーザー加工孔版印刷を組込んだ光ナノインプリントリソグラフィ有型成形した光硬化樹脂パターンをレジストマスクに用いて下地基板を加工するには、所定領域での成形、パターン密度の粗密対応、残膜厚の均一化と薄膜化、異方的な残膜除去が重要となります。本講演では、上記を可能にする、筆者らか開発を進めているレーザー加工孔版印刷を組込んだ光ナノインプリントリソグラフィ法の材料とプロセスの現状を紹介します。
172
2021.8		徳島大学
江本　顕雄		フォトポリマーの重合時交差拡散を利用したオンデマンドのマイクロ流路デバイス作製技術現在、種々の分析や検査において、微量の検体を系統的に処理できるマイクロ流路デバイスは必須のツールとなっている。通常は流路の反転構造を有する型(モールド)やマスクが必要となる。また更にウェットプロセスを必要とする場合もある。従って、試作品であってもオンデマンドの製造は難しい。本研究では、フォトポリマーを部分露光した際に生じる交差拡散を利用したオンデマンドのマイクロ流路デバイス作製技術を提案する。
172
2021.8		兵庫県立大学
渡邊　健夫		ニュースバルにおけるEUVリソグラフィー技術とその最新動向兵庫県立大学ニュースバル放射光施設は1996年よりEUVリソグラフィー(EUVL)の基盤技術開発に取り組んで来た。EUVLは半導体量産技術に2019に適用開始、2020年からは本格適用が開始された。未だ、多くの課題が残っており、現在これらの課題解決に向けた研究に取り組んでいる。また、EUVLの今後の動向について紹介し、次世代のBeyond EUVLについても言及する。
172
2021.8		東洋インキSCホールディングス株式会社
末永　隼也		UVインキの基礎技術とLED化への対応について前半はＵＶ硬化型インキの市場動向、インキの一般組成、材料特長、用途について述べる。後半は環境面から需要が高まっているＬＥＤ―ＵＶシステムの市場、対応するインキの開発動向、課題について述べる。
171
2021.6		富山高等専門学校
森　康貴		高分子／銀ナノ粒子複合材料の抗菌・抗ウイルス活性銀ナノ粒子は多くの細菌・ウイルスの機能を抑制する活性を持つことが知られているが、単独での適用は困難である。本講演では、銀ナノ粒子を高分子材料に固定化した際に生じうる抗菌・抗ウイルス活性への影響について紹介する。
171
2021.6		大日本印刷株式会社
横地　英一郎		電子線硬化技術を利用した抗菌・抗ウイルス製品の開発建材用の印刷シートとして、電子線硬化型樹脂を塗工、架橋し、耐候性、耐傷性、耐汚染性等の高い化粧シートを製品化してきた 。衛生・安心・安全のニーズが高まる中、抗菌・抗ウイルス機能を有するデスクトップシートを開発した。
171
2021.6		株式会社JEOL RESONANCE
中井　由実		電子スピン共鳴装置（ESR）によるラジカル測定
― 照射・加熱により生成するラジカル ―		高分子は加工プロセスでの照射、加熱によりラジカルを生じる。ESRは物質中のラジカルを選択的かつ高感度に検出し、同定および定量を行う装置である。その測定原理および照射・加熱により生じたラジカルの評価例を示す。
171
2021.6		三菱ケミカル株式会社
佐藤　嘉秀		UVコーティング材における自発的凹凸構造の形成手法UVコーティングの加工プロセス中に生じる局所的な重合速度差や対流現象を利用したUVコーティング材の開発について紹介する。この手法では、数秒の光重合中に種々なコントロールした形状を塗膜表面に与えることができる。
170
2021.4		山形大学
酒井　真理		最新インクジェット技術　～多様な応用の追求～一つのインクジェットデバイスに1000を超えるノズルを備え、高い生産性で自在にパターンを形成できるインクジェット技術の現状と今後の展開を説明する。産業用印刷やフレキシブルエレクトロニクスへの適用の期待と課題について述べ、出口戦略としてのオープンイノベーションの必要性を説く。
170
2021.4		大阪府立大学
松本　章一		共連続ネットワークポリマーCNPの開発と応用エポキシモノリスの細孔に熱硬化性樹脂を充填して、高強度・高靭性の共連続架橋体CNPを合成した。モノリスとCNPの作製法や物性、X線CTイメージングによる内部構造解析、異種材料接合への応用などを紹介する。
170
2021.4		東亞合成株式会社
佐内　康之		タイプII光開始剤とモノアクリレートを用いたネットワークポリマーの合成と評価タイプII光開始剤を用いたモノアクリレートの重合では、架橋剤を用いなくてもネットワークポリマーを得ることができる。得られたコーティングはタイプI光開始剤を用いて得られたモノアクリレートポリマーよりも優れた塗膜物性を示した。
170
2021.4		富山高等専門学校
森　康貴		高分子／銀ナノ粒子複合材料の抗菌・抗ウイルス活性銀ナノ粒子は多くの細菌・ウイルスの機能を抑制する活性を持つことが知られているが、単独での適用は困難である。本講演では、銀ナノ粒子を高分子材料に固定化した際に生じうる抗菌・抗ウイルス活性への影響について紹介する。
169
2021.1		九州大学
安達　千波矢		有機・無機ハイブリッドペロブスカイト材料のLED・レーザー素子への展開有機・無機ハイブリッドペロブスカイト材料は、有機配位子と無機ハロゲン化金属からなる複合体であり、それぞれの材料構成を変化させることで、太陽電池、FET、LED、レーザー素子等の多様なデバイス展開が可能である。本講演では、有機配位子と無機層とのエネルギー移動過程に焦点を当て、LEDとレーザーへの最近の展開についてご紹介する。
169
2021.1		横浜国立大学
福田　淳二		培養基板の微細加工と毛髪の再生医療フォトリソグラフィや機械的な微細加工を用いて培養基板表面を加工し、細胞培養を行う技術について紹介する。特に、毛包組織を作製するために開発した培養基板について、異分野であることを意識して分かりやすく説明する。
169
2021.1		BASFジャパン株式会社
管野　弘康、前田　心		ビニルエーテルモノマー概要と特徴 及び 新規ビニルモノマーの応用の可能性について既存のビニルエーテルモノマーについては、応用実績を挙げながら特徴を説明します。また、ビニルエーテルの新規化合物の特徴とその特徴を活かした応用用途の可能性について紹介します。
168
2020.10		東京工業大学
佐藤　浩太郎		異種活性種を操る新しい精密重合本講演では、種々の活性種を組み合わせた新しい精密重合系の開発について述べる。とくに、従来のリビング重合で副反応の制御に用いられてきたドーマント種を異種活性種の媒介とし、光などで操る手法を紹介する。
168
2020.10		神戸大学大学院
持田　智行		イオン液体の光反応によって配位高分子を創る私達は最近、様々な機能性イオン液体を開発してきた。ここでは、UV光照射によって配位高分子に転換するイオン液体について紹介する。この原理を用いると、光・熱応答性を持つ柔軟な固体やゲルを可逆構築することができる。
168
2020.10		千葉大学大学院
尾松　孝茂		光渦が拓くキラル物質工学　－光による螺旋ファイバーの創生－偏光に依存しない角運動量を持つ光波を総称して光渦と呼ぶ。本講演では、光渦の基礎からその物質科学への応用事例、例えば光重合反応を介して光渦が作る螺旋ファイバーなど、について最近の研究成果を紹介する。
167
2020.7		（国研）量子科学技術研究開発機構
前川　康成		量子ビームによる機能性高分子膜の創製研究：グラフト重合、構造解析、インフォマティクスの活用燃料電池、2次電池や食塩電解・製造に利用される高分子電解質膜について、量子ビームを利用したグラフト重合、構造・機能解析やインフォマティクスによる機能予測など量研高崎研における最近の成果を紹介する。
167
2020.7		広島大学
灰野　岳晴		化学修飾ナノグラフェンのエッジ構造と光機能制御酸化分解により得られるナノグラフェンを化学修飾することで20nm程度の大きさの均一な化学修飾ナノグラフェンを調製することに成功した。得られたナノグラフェンは有機溶媒に可溶であり，白色や近赤外に発光する新しい炭素材料であった。
167
2020.7		株式会社アイ・エレクトロンビーム
木下　忍		UV/EBによる微生物の不活化についてコロナ禍の中、紫外線（UV）による不活化効果が話題となっている。そこで、黴菌とウイルスのUVおよび電子線（EB）による不活化について、メカニズムを含む基礎技術から応用について解説する。
166
2020.4		コロナのため中止
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2020.4		コロナのため中止
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2020.4		コロナのため中止
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2020.4		コロナのため中止
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2020.1		東北大学多元物質科学研究所・光科学イノベーションセンター
高田　昌樹		モノの見え方を変える次世代放射光－ ” To see element ” から ” To see Chemistry ” へ －次世代放射光施設の建設（2023年完成予定）が東北大学キャンパス内で進められている。最新の加速器技術で、軟X線までのエネルギー領域（30keV~50eV）と、SPring-8の100倍の高輝度で“モノの見え方を変える”と期待されている。計画の現状と将来展望について講演する。
165
2020.1		大阪市立大学大学院
佐藤　絵理子		高分子反応制御を利用する易解体性接着材料の高機能化外部刺激に応答して進行する高分子反応によって接着強度が速やかに低下する接着材料は、易解体性接着材料として注目を集めている。反応性高分子の分子設計や高分子反応制御による易解体性接着材料の高機能化について紹介する。
165
2020.1		キリンホールディングス株式会社　基盤技術研究所
辻　俊一		新規イミダゾリウム系カチオン性アゾ重合開始剤を用いた機能性ポリマーの開発4級アンモニウム構造を持った新規カチオン性アゾ重合開始剤を用いて、細胞内温度を計測できる無毒性のナノゲル型ポリマーを創出した。本開始剤の他ポリマーへの展開例を示し、明らかになったカチオン性末端のポリマー機能についてご紹介したい。
165
2020.1		東亞合成株式会社
大房　一樹		エステル交換法による多官能アクリレートの開発従来、多官能アクリレートは脱水エステル法が主な製造法であったが、マイケル付加反応による高分子量化や、強酸触媒の残存による経時変化などの問題があった。当社は、エステル交換法による新しい多官能アクリレートの製造法を確立し、従来よりも低粘度、高純度な多官能アクリレートを開発した。さらに、植物由来原料の活用や、高親水性な多官能アクリレート化合物の開発を進めており、これらについても説明する。
164
2019.10		早稲田大学
斎藤　恭一		放射線グラフト重合法による高分子吸着材の開発市販の高分子材料に放射線を照射し、高分子鎖を接ぎ木する。そのグラフト鎖に、用途に合うように官能基を導入した。福島第一原発汚染水からの放射性Csの除去、富士山湧水からのVの採取、茶葉抽出液からのカテキンの除去など、グラフト型吸着材の適用事例を紹介する。
164
2019.10		東京大学
本多　　智		高分子形状初期化法に基づく高分子物質の光粘弾性制御SF映画には姿かたちを自在に変化させるキャラクターが登場する。最近、物質の粘弾性を局所制御する技術が急速に進展し、これら空想世界の出来事は現実化し始めている。本講演では、我々が最近開発した網目状物質の分子鎖切断と再生に基づく無溶媒下・等温的な物質の粘弾性制御法を紹介する。
164
2019.10		金沢大学
瀧　健太郎		UV硬化過程の反応解析・ネットワーク構造の推定・物性予測までの一貫したシミュレーション技術の構築を目指した研究の最新動向―瀧研究室の事例より―UV硬化した樹脂は，硬化速度が速く強固な硬化膜を形成するため様々な製造業で使われている一方で，その特性がゆえに硬化過程や架橋ネットワーク構造の解析は困難である。我々の研究室では，約10年間にわたり，UV硬化樹脂のこれらの解析法について，測定装置の（再）開発・シミュレーション・理論解析を一貫して行ってきた。本講演では，最新の研究成果について皆さんと共有したい。
164
2019.10		川崎化成工業株式会社
檜森　俊一		光ラジカル増感剤「アントラキュアーⓇ」の概要とその応用について光ラジカル重合において、長波長紫外を利用できる増感剤を用いることにより、迅速硬化、深部硬化、顔料系への適用、酸素阻害の軽減等の様々な効果が期待できる。弊社の増感剤アントラキュアーⓇの応用例を通してその効果を紹介する。
163
2019.8		東京工業大学　物質理工学院　材料系
早川　晃鏡		分子構造設計に基づくブロック共重合体薄膜の構造制御と微細加工高分子薄膜の微細加工研究の一環として、ブロック共重合体薄膜におけるナノドメインの配向・形態制御、また選択的分解について発表する。分子構造設計の指針から精密合成、薄膜における特異な自己組織化挙動を踏まえながら紹介する。
163
2019.8		福井大学　学術研究院工学系部門
廣垣　和正		繊維・高分子材料の電子線グラフト重合による改質・機能加工繊維・高分子材料の電子線照射技術による改質・機能加工として、主にグラフト重合の原理を解説し、その開発事例として、染色性や接着性の向上、濡れ性への環境応答性付与、塗膜硬度の向上などを紹介する。
163
2019.8		　　　　　　　　　　　　　量子科学技術研究開発機構　産業技術総合研究所
秋山　陽久		可逆光反応性基をもつ液体-固体可変物質の合成と接着剤への応用可逆的な光反応性基であるアントラセンおよびアゾベンゼン複数個をもつ分子性および高分子系材料を合成した。これらは、繰り返し液体と固体の変化を示すが本材料を接着剤として用いることで、接着、脱着、再接着の繰り返しが可能となった。
163
2019.8		　　　　　　　　　　　　　量子科学技術研究開発機構
大山　智子		量子ビームで創る、細胞を操る機能性バイオマテリアル量子ビーム技術によって薬剤を用いずにコラーゲンをゲル化・微細加工し、細胞を操る機能性培養基材を創出した。量子ビーム技術と基材の特徴を、既存のディッシュ上では見ることができない、多彩な細胞の姿とともに紹介する。
162
2019.6		神戸大学　大学院工学研究科
南　秀人		高分子微粒子の構造制御および粒子構造体高分子微粒子は，医薬，農薬から情報，化粧品に至るまで幅広い分野で機能性材料として応用されております。本講では，それら機能を左右する高分子微粒子の構造制御，さらにそれら微粒子からなる粒子構造体について紹介します。
162
2019.6		富山県立大学　工学部　医薬品工学科
竹井　敏		植物由来ガス透過性ポーラスモールドを用いたマイクロ・ナノインプリント技術植物由来ガス透過性ポーラスモールドを用いたナノ・マイクロインプリント技術の研究進捗を発表する。現在の主流である非ポーラスモールドに比べ、植物由来ガス透過性ポーラスモールドは①成形不良改善、②成形時間短縮、③複雑な成形可能、④被転写材設計容易、⑤流動解析精度向上、及び⑥離型抵抗低減の優位性を示した。
162
2019.6		大阪大学接合科学研究所
桐原　聡秀		紫外線レーザ照射による金属ならびにセラミクス構造体の多次元造形金属やセラミック粒子を液体樹脂へ分散し、高エネルギーの紫外線レーザを照射すると、有機成分を分解しつつ無機粒子を焼結できる。連続施工を経た表面処理や立体造形による、多次元機能性構造の創製について述べる。
162
2019.6		大阪有機化学工業（株）　
赤石　良一		異種材料にも使える、高機能接着性モノマー近年、自動車材料の軽量化や実装材料のフレキシブル化などが進み、異種材料の接合に関する重要性が増している。ドーパミンなど密着性の官能基を有するUV硬化性モノマーについて、異種接着における特性を紹介する。
161
2019.4		北海道大学大学院工学研究院
長谷川　靖哉		希土類を用いた強発光性の分子材料開発現在社会はディスプレイ、スマートフォン、照明材料などの様々な光技術によって支えられている。講演者は希土類イオンを用いた次世代の発光分子材料を行ってきた。ここでは新しい発光分子材料を用いた未来の可能性について紹介したい。
161
2019.4		兵庫県立大学大学院
川月　喜弘		液晶高分子の光分子配向光配向は液晶の初期配向膜のみならず、複屈折を駆使する光学フィルムや回折素子として応用される。本発表では、我々がこれまで研究開発してきたシンナメート系類を中心とした高分子液晶における偏光光反応と熱的に配向が増幅される光分子配向について述べる。
161
2019.4		日本ガイシ株式会社
近藤　良夫		選択波長赤外線による乾燥プロセスの効率化各種乾燥プロセスの効率化は近年重要なファクターとなっているが、現在主流である熱風方式はその限界に直面している。本講演では、塗布膜吸収特性に適合する選択波長赤外線を用いた乾燥プロセス効率化について最近の取組みを紹介する。
161
2019.4		東亞合成株式会社
木全　良典		赤外・ラマン分光法によるアクリレート硬化物の重合挙動解析顕微ラマンや赤外分光法は各種モノマーのバルクまたは局所重合挙動を解析する手段として用途が広い分析法である。本講演では、電子線照射により表面改質を行った多官能アクリレート系紫外線硬化樹脂の表面硬化状態のデプスプロファイル解析など、分析事例を紹介する。
160
2019.1		京都大学大学院
杉村　博之		真空紫外光化学と材料表面処理波長100〜200 nmの紫外光は、真空紫外光（Vacuum Ultra-Violet, VUV光）と呼ばれる。光子エネルギーの大きなVUV光は、通常のUV光では起こしえない光化学反応を誘起し、その材料表面処理源への応用が期待されている。本講演では、VUV表面処理に関する私たちの研究成果のいくつかを紹介する。
160
2019.1		量子科学技術研究開発機構
瀬古　典明		電子線グラフト重合による材料創製研究汎用の素材を機能化する手法として量子ビームを用いた高分子の加工技術がある。本講演では、特に電子線を活用するグラフト重合により開発した機能性材料に関して、その研究例と産業応用として適応した事例を紹介する。
160
2019.1		株式会社電子技研
小泉　剛		減圧官能基プラズマ処理による微粒子表面への親和性機能付与技術微粒子フィラーを樹脂などの素材へ均一に分散，混入させるためには一般的に分散剤，界面活性剤が使用されるが、分散剤等が粒子表面を覆うことで本来粒子を混錬することで得ようとした性能（導電，熱伝導，高誘電，高摺動，など）を充分発揮できない。電子技研では、減圧プラズマを応用し、粒子表面を官能基修飾することで分散剤などに頼らずに、粒子の分散，充填率ＵＰ，接合，コーテイングなどができる改質技術を紹介する。
160
2019.1		株式会社リコー
有田　学		2.5D立体複製画用UVインクジェットインクUV硬化性インクをインクジェットにより積層させることで、インクが立体的に積層した2.5D（2.5次元）画像を得ることができる。近年、油絵などの立体感のある絵画の複製などに活用されているが、色だけでなく、立体形状や光沢感までの再現が求められる。本講演では、高精細な立体形状を得るためのインク設計や、光沢をコントロールするインク設計やインクジェット作像プロセスについて紹介する。
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2018.11		早稲田大学理工学術院
鷲尾　方一		「EBプロセスの基礎と応用」EB プロセスでは、当事者以外には知らされない、種々のノウハウや、技術的な難しさがついて回っている。そこで本講演では、まずEBプロセスを支える架橋技術や重合技術にかかわるノウハウについて簡単に説明し、その後、現在進められている種々の EBプロセス技術について概観する。
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2018.11		早稲田大学　理工学術院
下嶋　敦		「有機シランの自己組織化による光応答性ハイブリッドの創製」有機シロキサン系材料は、ナノ構造制御によって多様な機能発現が期待できる。本講演では、アゾベンゼン修飾型アルコキシシランの自己組織化による各種メソ構造体の合成と光応答性について紹介する。
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2018.11		日本化薬株式会社
寺田　究		「アミンとラジカルを同時発生する光塩基発生剤の開発とそのアプリケーション」光照射によりアミンを発生する光塩基発生剤は硬化時の酸素阻害、硬化収縮、さらに金属腐食が無い利点があるため近年注目されている。今回の開発品ではこれまで課題であった吸収波長を拡大し、高効率かつラジカルも同時発生させることができる。本講演では様々な樹脂と混ぜた際の使い方から物性について説明する。
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2018.11		ヘレウス株式会社
河村　紀代子		「UVLED硬化プロセスの高効率化」UVLEDが次世代産業用途のUV照射光源として注目されているが、UVLEDの発光波長特性から硬化材料の吸収とのマッチングを得ることが難しく、十分な硬化性を得られないことが課題となっている。講演では、硬化性を向上させるため、新規のUVLED硬化プロセスについて紹介する。
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2018.9		国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
山本　洋揮		「量子ビームによる超微細加工技術の最前線」次世代リソグラフィとして極端紫外光(EUV)や電子線（EB)のような量子ビームが露 光源として期待されている。本講演では、量子ビームを使った微細加工技術の最新の研究成果について紹介する。
158
2018.9		東京理科大学
有光　晃二		「新規な光開始システムと影部分のUV硬化」可視光を吸収する新規な光ラジカル重合開始剤や第三級アミンを発生する非イオン型の光塩基発生剤など、当グループの最近の研究成果について述べる。さらに、影部分のUV硬化を目的とした当グループのUV硬化システムについても紹介したい。
158
2018.9		宇治電化学工業株式会社
岡添　智宏		「球状多孔質構造体『MARIMO』の大量合成と実用化への研究開発」数nmの金属酸化物粒子が多数集合した直径200～500nmの球状多孔質構造体です。中実または中空構造をもち、新規材料としての応用が期待できます。粒径が揃っているため物質表面に単層配列できます。複合金属酸化物でも合成可能です。
158
2018.9		日油株式会社
林　昌樹		「パーオキサイド系光重合開始剤の開発」光に対して優れた感度を有するパーオキサイド系光重合開始剤について紹介する。パーオキサイドの熱分解特性を活用することで、光および熱によるデュアルキュアや熱フロンタル重合に利用することができる。
157
2018.6		東亞合成株式会社
佐々木　裕		「超分子ネットワークからのその場架橋により形成するエラストマー」その場重合（架橋）により固体へと変化できる材料は、塗料、接着等の様々な場で利用されている。近年、しなやかな強さを有するエラストマーに対する関心が高まっているが、基材へのアプリケーションの容易さと欠陥の少ないネットワーク形成による優れた物性の発現との両立は困難な場合が多い。我々は、超分子ネットワーク状態をプレカーサーとすることで、ハンドリング性と形成するエラストマー特性との両立が可能ではないかと考え検討を進めている。著者の最近のアプローチについて報告を行う。
157
2018.6		株式会社アクロエッジ
中宗　憲一		「蛍光を用いたUV硬化樹脂の硬化判定技術」UV 硬化樹脂は電子デバイス分野を初め、フィルム・自動車と多岐にわたって使用拡大が続いている。その中で生産工程における品質管理の必要性は大きく、UV硬化樹脂の機能を最大限発揮させるには、硬化状態の確認手法が必須である。今回は非接触にて検査可能な手法について紹介する。
157
2018.6		関西大学
工藤　宏人		「次世代機能性材料（ＵＶ硬化性樹脂、ＥＵＶレジスト材料、熱硬化性樹脂、屈折率変換材料、高屈折率材料、低屈折率材料）を志向した新規高分子材料の合成戦略」ブロックポリマー、スターポリマー、グラフトポリマー、ラダーポリマー、環状ポリマー、ハイパーブランチポリマーなどの物理的特性は、一般的な直鎖状ポリマーとは異なる。本講演では、講演者が、特殊構造体の物理的特性を活用し、様々な機能性材料へ展開してきた例と、次世代機能性材料の分子設計指針について検討した結果を紹介する。
157
2018.6		大阪工業大学
藤井　秀司		「リキッドマーブルが実現する光刺激による物質運搬システム」固体粒子が気液界面に吸着することで安定化された液滴であるリキッドマーブルに近赤外光を照射することで、マランゴニ対流に基づく遠隔運動制御、および外部刺激による内部液の放出を行った。
156
2018.4		横浜国立大学
大山　俊幸		「反応現像を鍵とするエンプラ等の汎用的画像形成法の開発」現像時におけるポリマーと現像液との反応を鍵とする微細パターン形成法である反応現像画像形成法（RDP）について紹介する。RDP の利用により、市販エンプラを含む広範なポリマーについてフォトリソグラフィープロセスによるポジ型およびネガ型微細パターン形成が実現される。
156
2018.4		神戸大学大学院
北山　雄己哉		「光反応を利用した機能性高分子合成」本講演では、我々が最近見出した光反応性高分子微粒子に対する界面選択的光架橋現象および本現象を応用した様々な構造・機能を有する高分子微粒子創出について発表する。
156
2018.4		東京応化工業株式会社
平野　智之		「半導体用フォトレジスト開発の現状と今後」半導体製造に用いられるフォトレジスト材料は露光光源の短波長化に伴って大きく変遷してきた。本講ではフォトレジストに求められる特性と材料設計を中心に解説するとともに、最先端のフォトレジスト用材料に関しても紹介する。
156
2018.4		積水化学工業株式会社
畠井　宗宏		「自己剥離テープ「セルファ」の開発」半導体工程用材料として、非常にユニークな自己剥離技術を使った「セルファ」を開発した。テープにUVを照射するとガスを発生することにより、自ら剥離する応力を発生し、剥離が困難とされる剛体同士の剥離を可能にした。
155
2018.1		東京都健康長寿医療センター
野田　義博		「安全で衛生的な床面の管理〜UVフロアコートの有用性と効果の検証」UV フロアコートは表面を長期間平滑に保ち、滑りにくい性質を有する。そして、日々の歩行や清掃作業での摩耗、消毒液等の薬品による変質から床材を保護することができる理想的な床面を実現する。我々はその効果を検証した。
155
2018.1		東京都健康長寿医療センター
野田　義博		「安全で衛生的な床面の管理〜UVフロアコートの有用性と効果の検証」UV フロアコートは表面を長期間平滑に保ち、滑りにくい性質を有する。そして、日々の歩行や清掃作業での摩耗、消毒液等の薬品による変質から床材を保護することができる理想的な床面を実現する。我々はその効果を検証した。
155
2018.1		熊本大学
國武　雅司		「分子の気持ちで考える自己組織化　高分子材料における構造と特性相関」“分子の気持ちで考える“をキーワードに、高分子材料化学における自己組織化を紹介する。超分子などボトムアップ志向のナノテクだけでなく、リソグラフィに代表されるトップダウン型のナノテクにおいても、「意図せず生じる構造」、「見えていない構造」を生む駆動力として自己組織化は重要である。
155
2018.1		スリーエムジャパン株式会社
杉山　直大		「高充填ナノ粒子コーティング」SiO2ナノ粒子をコーティング層に充填すると耐擦傷性が向上するものの、70wt% 以上で白化し耐擦傷性が低下する課題があった。本発表では70-85wt%のSiO2を含有し高透明性を実現した高充填ナノ粒子コーティングの耐擦傷性および光学特性について報告する。
155
2018.1		東亞合成株式会社
大房　一樹		「UV-LEDに対応した光硬化材料」UV硬化時の光源として、コンパクトで低ランニングコストなUV-LEDが注目されているが、硬化性が従来の高圧水銀ランプ等よりも劣る問題がある。UV-LEDに対応するため、従来品よりも硬化性に優れた光硬化材料を新たに開発したので紹介する。
154
2017.10		東京大学
田畑　米穂		「私と放射線化学：ラドテック研究会の創設」「ラドテック研究会の前身であるUV/EB表面加工研究会発足当時の放射線化学分野の国際間交流の状況を紹介するとともに、後にラドテック研究会と改称し、アメリカ、ヨーロッパ3極に共通の組織が実現した背景について述べる。」
154
2017.10		創案ラボ
市村　國宏		「下学上達－産官学共同研究でのキーワード」「官学の立場で実施した企業との数多く共同研究の中で、企業が設定した製品開発で知恵を絞ることが新たな学術研究の原点となることを体験してきた。その具体例を示すことにより、下学上達と表現される産官学共同研究のあり方を述べる。」
154
2017.10		大阪府立大学
角岡　正弘		「ラドテック国際会議：出会と期待」「これまでのラドテック国際会議（ヨーロッパ、アメリカ、アジア）で出会った人々と研究成果が私の仕事に与えた影響、2016年ラドテックアジアで感じた現在の動向と企業で期待されていることなど、過去、現在および今後について話題を紹介する。」
154
2017.10		一般社団法人　ラドテック研究会
折笠　輝雄		「30周年記念講演に際して」「少子超高齢化社会の到来に際し、人口も100年後には1/3の4,200万人台に減少すると公的機関から発表されている。一般に一人当たりの所得を上げるにはイノベーションが必要と言われているが、UV/EB技術と当会の可能性について考察する。」
153
2017.8		京都工芸繊維大学
松川　公洋		「光チオールエン反応による自己修復性有機無機ハイブリッド材料の開発」柔軟な特性を示す光チオールエン架橋体を組み込んだ有機無機ハイブリッドは、フレキシブル機能材料として注目されている。本講では、フレキシブルハードコートや自己修復性ハイブリッド膜への応用展開について紹介する。
153
2017.8		大阪府立大学大学院
岡村　晴之		「深紫外LEDを用いた光硬化樹脂の作製」深紫外 LED を用いたアクリルおよびエポキシ光硬化系を検討した。光開始剤の構造、照射波長、膜厚の影響を検討した。深紫外LED照射は100 μm以下の膜厚のフィルムを作製するのに有効であった。
153
2017.8		凸版印刷株式会社
磯貝　拓也		「平板状銀／セルロースナノファイバー複合体の開発と応用」木材繊維のナノ分散体であるセルロースナノファイバー（CNF）を反応足場として利用することにより、平板状銀ナノ粒子／CNFの複合体の開発に成功した。本複合体は、可視～近赤外光を選択的に吸収・散乱可能な新規光学材料として応用展開が期待される。
153
2017.8		日揮触媒化成株式会社
村口　　良		「機能性ナノ微粒子を用いたUV硬化型高硬度ハードコート膜の設計」UV硬化型のハードコート膜の更なる高硬度化への対応でSiO2等のナノ粒子を適用した有機無機ハイブリッド型のハードコート材料設計について報告する。鉛筆硬度９Ｈを有する高硬度ハードコート膜の設計も可能。
152
2017.6		久留米高等専門学校
津田　祐輔		「ポリイミド膜表面の露光部選択的修飾」側鎖に各種の光反応性基を導入したポリイミドを新規に合成した。得られたポリイミド薄膜に紫外線照射を行うと露光部が撥水性から親水性に選択的に変化することが判明し、プリンテッドエレクトロニクスへの応用が期待される。また、フォトクロミック化合物の導入で可逆的濡れ性変化が可能となることが判明した。
152
2017.6		兵庫県立大学大学院
近藤　瑞穂		「磨砕応答色素を用いたコンポジット薄膜の作製と機能発現」磨砕応答色素は延伸やすりつぶすといった機械的刺激により等温的に発光色が変化する。本発表では色素を高分子に分散し、加工性を向上させるとともに薄膜化による新たな機能の発現について報告する。
152
2017.6		日本合成化学工業株式会社
青木　康浩		「新規光重合開始剤の開発」磨砕応答色素は延伸やすりつぶすといった機械的刺激により等温的に発光色が変化する。本発表では色素を高分子に分散し、加工性を向上させるとともに薄膜化による新たな機能の発現について報告する。
152
2017.6		阪本薬品工業株式会社
名田　智美		「ポリグリセリン骨格を有する多官能アクリレートモノマーの特性」磨砕応答色素は延伸やすりつぶすといった機械的刺激により等温的に発光色が変化する。本発表では色素を高分子に分散し、加工性を向上させるとともに薄膜化による新たな機能の発現について報告する。
151
2017.4		神戸大学大学院
西野　　孝		「樹脂界面の接着と残留応力」樹脂を硬化させると収縮し，そこに接着が介在すると被着体との界面に応力が残留する。コーティング，ラミネート，接着，素子封止などにおいて残留応力は製品信頼性を妨げる大きな要因となっている。本講演では，残留応力の非破壊検出と低減化の事例を具体的に紹介する。
151
2017.4		京都工芸繊維大学
宮田　貴章		「光重合を用いた多成分系ポリマーブレンドの相分離制御：現状と展望」重合を含む反応性のポリマーブレンドは材料科学の様々な分野において広く利用されている。特定の条件下で実験を行う場合、反応性ポリマーブレンドは相反する相互作用の競合効果を示す典型的系であり、様々なモルフォロジーが発現する。ここで、この競合過程における二成分や三成分系ポリマーブレンドの相分離で形成された特異的なモルフォロジーとその利用について紹介する。
151
2017.4		サンアプロ株式会社
白石　篤志		「NIR（近赤外光）に感光する開始剤とこれを用いたフォトポリマーへの応用」近年フォトポリマーに用いられる材料の多様化に伴い、要求される波長も極端紫外光領域から可視光領域へと多様化してきている。我々は、さらに長い近赤外光領域（NIR）に着目した。今回このNIR（近赤外光）に感光する開始剤とフォトポリマーへの応用について紹介する。
151
2017.4		ＪＳＲ株式会社小宮　　全「日本のUV/EB技術と市場の概観」ラドテック研究会では2016年10月に開催されたRadtech Asia 2016を機会に、ラドテック研究会メンバーに対してアンケートを募り、日本のUV/EB技術と市場動向について調査を行いました。その結果をご紹介します。
150
2017.1		関西大学
宮田　隆志		「光反応を利用した刺激応答性ポリマーの設計」外部刺激に応答して構造変化する刺激応答性ポリマーは医療や環境，エネルギー分野への応用が期待されている。われわれは動的架橋構造を導入することにより様々な刺激応答性ポリマーを設計し，幅広い分野への応用を目指してきた。本講演では，光重合や光架橋を用いた新規な刺激応答性ポリマーの設計とその多岐にわたる応用例を紹介する。
150
2017.1		セン特殊光源株式会社
菊池　清		「UV硬化に次いで市場で広がっている新規UV表面処理技術」2016年のラドテック･アジアの主題は、“新規UV/EB技術によるイノベーションへの挑
戦”であった。そのUV技術の主役は硬化技術である。しかしUVが持つポテンシャルは高
く、新規分野は広い。現在、UV表面処理技術が液晶TVやHDDなどの分野において、硬化
以外の作用で成果を挙げている。その現状と今後の展望を紹介する。
150
2017.1		東洋インキ株式会社沖野　雄一「省エネUVシステムの変遷と印刷物」Drupa2008で発表されたLED硬化システムを皮切りに、商業印刷を中心に“油性からUV”へと移り変わっている。特化した印刷物を見ながら、それまでパッケージ主体であったUVシステム変遷をインキを中心に紹介する。
150
2017.1		京都大学大学院
齊藤　尚平		「ライトメルト接着材料の開発　〜光剥離と耐熱接着の両立〜」部材の仮固定に頻用されるホットメルト接着材料は、高温では接着力を失ってしまうため使用に制約がある。今回、「光で剥がれる機能」と「高温でも接着力を維持する機能」を両立する液晶材料を開発し、「ライトメルト接着材料」と名付けた。
149
2016.11		国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
大山　智子		「量子ビーム技術による高分子材料の微細加工研究～半導体リソグラフィからバイオデバイスまで～」量子ビームは高分解能で材料の形状と化学的・物理的性質の両方を加工できる最先端のツールである。次世代半導体製造技術や、再生医療実現に向けたバイオデバイス開発など、量子ビームの最先端応用を紹介する。
149
2016.11		早稲田大学
須賀　健雄		「精密重合の切り口で見たUV硬化の新展開: 傾斜ナノ構造の同時形成」迅速な汎用 UV 硬化反応に敢えて「光駆動型」の精密ラジカル重合機構を組み込み、時間軸を制御することで、硬化と同時に類例のない傾斜ナノ構造の形成を見出した。光重合の精密制御が拓く新素材の創出について紹介する。
149
2016.11		三洋化成工業株式会社
酒井　　優		「遮蔽部硬化性に優れたＵＶ硬化樹脂」当社独自の開始剤システムを利用し、ラジカル重合型紫外線硬化樹脂原料でありながら、紫外線があたらない箇所まで硬化することを可能にした新規紫外線硬化樹脂原料について紹介する。本樹脂原料は種々のラジカル重合型モノマー、オリゴマーと併用可能であり、さまざまなニーズに対応することができるものである。
149
2016.11		大成ファインケミカル株式会社
朝田　泰広		「ハードコート用UV硬化樹脂の特長と応用展開」本講演では、アクリル当量及び分子量をふったＵＶ硬化アクリル樹脂の塗膜性能について光学フィルム向け及び加飾フィルム向けを中心に検討した例を紹介する。ＵＶ硬化アクリル樹脂は、硬化収縮が極めて低く薄膜基材において低カール化が実現できアクリル当量が高い設定では高伸度が確認できた。
148
2016.9		日本原子力研究開発機構　
平出　哲也		「陽電子消滅測定手法を用いた高分子材料研究」
148
2016.9		地方独立行政法人大阪市立工業研究所
渡瀬　星児		「高分子材料と金属錯体とのハイブリッド化による発光機能の制御」
148
2016.9		第一工業製薬（株）
大西　敏之		「機能性材料付与UV硬化材料の紹介」
148
2016.9		山本貴金属地金株式会社
加藤　喬大		「可視光硬化型歯科材料」
147
2016.6		大阪府立大学大学院工学研究科
髙橋　雅英		「熱や光などの環境変化に応答して形態や表面特性が変化する微細構造材料　～材料はどこまでかしこくなれるのか？～」
147
2016.6		㈱ＮＨＶコーポレーション
奥村　康之		「電子線応用技術の紹介」
147
2016.6		㈱ダイセル
平林　智貴		「ＵＶ硬化型ハードコート材料とその３Ｄ曲面ハードコーティングへの展開」
147
2016.6		名古屋工業大学
大谷　肇		「熱分解分析法および質量分析法による高分子の架橋構造解析」
146
2016.4		公益財団法人塩事業センター 海水総合研究所
吉川　直人		「電子線グラフト重合法による製塩用イオン交換膜の研究開発」
146
2016.4		モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社
島川　雅成		「紫外線硬化シリコーンゴムの紹介」
146
2016.4		国立研究開発法人　産業技術総合研究所
垣内田　洋		「光重合による液晶/高分子の相分離および配向秩序形成の制御」
146
2016.4		東京工業大学 資源化学研究所
宍戸　厚		「光応答液晶の分子配向を利用した光機能材料の創成と解析」
145
2016.1		東京工業大学
佐藤　千明		「紫外線硬化接着剤の硬化収縮と残留応力」
145
2016.1		株式会社ADEKA
滋野　浩一		「高感度光重合開始剤の開発」
145
2016.1		光硬化工法協会
大河原　隆		「UV硬化を利用した下水管更生技術」
145
2016.1		へレウス株式会社
河村　紀代子		「IR＋UVハイブリッド照射システム」
144
2015		山形大学　ライフ3Dプリンタ創成センター
古川　英光		「光重合による高強度ゲルの付加製造を可能にする３Ｄゲルプリンターとその社会実装」
144
2015		大阪大学大学院
高島　義徳		「光応答性アクチュエーター」
144
2015		豊橋技術科学大学大学院
吉田　絵里		「光リビング重合系の構築」
144
2015		大日本印刷株式会社
宮崎　祐一		「微細加工とその応用」
143
2016		名古屋大学大学院
関　隆広		「液晶薄膜材料の光配向の新展開」
143
2016		グンゼ株式会社
野田　和裕		「ウエラブル・デバイスの開発」
143
2016		中京油脂株式会社
近澤　正照		「UV硬化型有機導電膜の現状と将来（仮題）」
143
2016		大阪大学産業科学研究所
菅沼　克昭		「プリンテッド・エレクトロニクスの現状と将来(仮題)」
142
2016		大阪市立大学大学院
堀邊　英夫		「水素ラジカルと高分子化合物との反応性」
142
2016		国立研究開発法人　日本原子力研究開発機構
田口　光正		「人と環境にやさしい放射線治療用三次元ポリマーゲル線量計の開発」
142
2016		東北大学金属材料研究所
小泉　雄一郎		「電子ビーム３Ｄプリンタが拓く新たなものづくり技術」
142
2016		京都大学大学院
関　　修平		「一つの原子で材料を創る～究極に細いビームによる自由な造形～」
141
2015		東京工業大学
長井　圭治		「有機半導体を用いた全可視光応答光触媒」
141
2015		カガワケミカル株式会社
香川　映二		「プラスチック上へのUV保護塗装」
141
2015		株式会社アントンパールジャパン
宮本　圭介		「UV硬化過程のレオロジー解析（仮題）」
141
2015		ケイ・エス・ティ・ワールド株式会社
山本　弘行		「放射線を利用したゲル改質和紙」
141
2015		ケイ・エス・ティ・ワールド株式会社
山本　弘行		「放射線を利用したゲル改質和紙」
140
2015		関西大学
原田　美由紀		「エポキシ樹脂の構造制御による高強靭・高熱伝導材料の開発」
140
2015		ペルノックス株式会社
岩村　栄治		「放熱塗料について（仮題）」
140
2015		JSR株式会社
杉山　直樹		「エネルギーを効率的に使用するための潜熱蓄熱材料」
140
2015		大阪市立工業研究所
上利　泰幸		「高放熱性高分子材料の開発の現状と熱制御への展開」
139
2014		メルク株式会社
一ノ瀬　秀男		「光反応性液晶材料とその応用」
139
2014		日揮触媒化成株式会社
平井　俊晴		「光学フィルム用材料」
139
2014		三井化学株式会社
田中　　守		「メガネレンズ用材料の開発」
139
2014		北陸先端科学技術大学院大学
金子　達雄		「桂皮酸誘導体を用いた革新的バイオフォトプラスチックの開発」
139
2014		青山学院大学
阿部　二朗		「高速フォトクロミック材料の基礎と応用」
138山形大学
栗原　正人		「プリンテッドエレクトロニクスを指向する第二世代銀ナノ微粒子の革新的製造技術の提供とその産業化に向けた取り組み（仮題）」
138BASF ジャパン株式会社
上原　佳子		「Laser　Direct　Structuringによる3D 回路形成（仮題）」
138LPKF　Laser & Electronics株式会社
上舘　寛之		「ＬＰＫＦ-ＬＰＳ®工法による３Ｄ回路（ＭＩＤ）形成」
138岡山大学大学院
高口　　豊		「カーボンナノチューブハイブリッド材料の合成と光機能」
138へレウス㈱
折笠　輝雄		「RadTech North America　報告　＆　Overview（仮題）」
137アトミクス株式会社　
佐熊　範和		「機能性無機-有機ハイブリッド型ハードコート材の設計」
137大阪有機化学工業株式会社
石原　秀篤		「ハイパーブランチポリマーアクリレートの特性(高硬度と低収縮)」
137荒川化学工業株式会社
小谷野　浩壽		「自己修復性コーティング」
137ダイキン工業株式会社　
英　翔		「フッ素系表面処理による防汚技術の最新動向」
137大阪市立工業研究所
松川　公洋		「屈折率制御可能な有機無機ハイブリッドコーティング」
136富山大学
北野　博巳		「医療/ライフサイエンスにおけるUV/IB技術の活用」
136独立行政法人　日本原子力研究開発機構
小林　泰彦		「細胞へのイオン照射効果とバイスタンダー効果」
136大阪府立大学
平井　義彦		「UVナノインプリントを用いたバイオチップの作製」
136㈱松風
田中　久生		「歯科材料及びネイル材料に用いられる可視光硬化性化合物」　
136独）農研機構　食品総合研究所
等々力　節子		「食品の殺菌・殺虫を目的とした放射線照射」　
135株式会社日本触媒
金子　知正		「テトラヒドロフラン環を主鎖に形成する環化重合性モノマーの開発」
135千葉大学
高原　　茂		「光開始剤からPXGへ：光両性物質発生剤の開発」
135独立行政法人理化学研究所
石田　康博		「光により望みの場所を何度でも加工できるヒドロゲル」
135アドバンスト・ソフトマテリアルズ㈱
野田　結実樹		「実用化が進む環動高分子材料の特徴と応用例」　
134
2013		㈱スリーディー・システムズ・ジャパン
小林　広美		「3Dプリンター　現状と今後の可能性」
134
2013		電気化学工業㈱
大島　和宏		「電子材料向け次世代仮固定用接着剤の開発」
134
2013		東京工業大学
腰原　伸也		「有機分子結晶の超高速構造変化と高効率光機能」
134
2013		福井大学
堀　　照夫		「電子線照射技術を用いる繊維・高分子材料の機能化－高効率金属吸着不織布の開発を中心に－」
134
2013		テクノヒル㈱
林　譲　		「中国　危険化学品規制の最新動向」　
133産業技術総合研究所
長谷川　達生		「固体表面の『ぬれ』とプリンテッドエレクトロニクス」
133㈱ミマキエンジニアリング
大西　　勝		「インクジェットプリンタによる製品や立体物等への2次加飾技術」
133コニカミノルタIJ㈱
西　　眞一		「インクジェット印刷技術を用いたプリンテッドエレクトロニクス」
133岡山大学
金原　正幸		「室温乾燥で導通する金属ナノインク」
133ヘレウス・ノーブルライト・フュージョン・ユーブイ㈱
折笠　輝雄		「RadTech Asia 2013」報告
132
2013.6		大阪市立大学大学院
佐藤　絵理子		　「光酸発生剤を利用する易解体性接着材料設計－解体性と安定性の両立－」
132
2013.6		地方独立行政法人大阪府立産業技術総合研究所
舘　秀樹		　「新規な刺激応答性易剥離粘着剤の開発」
132
2013.6		株式会社スリーボンド
桐野　学		「光塩基発生剤の接着剤への応用」
132
2013.6		BASFジャパン株式会社
森　敦		　「UV硬化ホットメルト粘着剤」
132
2013.6		積水化学工業株式会社
中壽賀　章		「光反応型粘・接着剤の応用例について」　
131
2013.4		関西大学　
工藤　宏人		「極端紫外線用分子レジスト材料の開発」
131
2013.4		㈱イー・エル・テクノ
平賀　靖英		「有機EL技術の実用化動向」
131
2013.4		大阪府立大学
池田　　浩		「熱ルミネッセンスにヒントを得た有機ラジカルELの開発」
131
2013.4		九州大学
安達　千波矢		「新しい有機発光材料の登場と有機ELへの展開」
130
2013		兵庫県立大学高度産業科学技術研究所
松井　真二		「ナノインプリントの最新動向」
130
2013		三洋化成工業株式会社
吉田　和徳		「離型性に優れた成型用ＵＶ硬化樹脂」
130
2013		株式会社東芝
鎌田　芳幸		「ナノインプリントと自己組織化を用いたビットパターンドメディアの作製」
130
2013		SCIVAX 株式会社
奥田 徳路		「ナノインプリントの細胞培養技術への応用と現状」
130
2013		綜研化学株式会社
三澤　毅秀		「ナノインプリント用フィルムモールドの開発とその応用」
129
2012.11		東北大学多元物質科学研究所
宮下　徳治		「プリンタブルエレクトロニクスに向けた透明性ハイブリッドナノフィルムの開発」
129
2012.11		アルテック株式会社
井上　博行		「キセノンランプを使用した低温光焼結」
129
2012.11		DIC株式会社
矢木　直人		「UV硬化型ポリシロキサン－アクリルハイブリッド樹脂」
129
2012.11		日本製紙株式会社
藤野　謙一		「UV硬化塗料添加剤用PP-アクリルブロック共重合体の検討」
128フュージョンUVシステムズ・ジャパン株式会社
折笠　輝雄		「Overview of Radiation Curing Market and Technologies in Japan」
128日本合成化学工業株式会社
小川　照彦		「ＵＶ硬化型機能性コーティング材料」
128九州大学　先導物質科学研究所
大塚　英幸		「組み換え可能な共有結合を利用した架橋高分子の構造再編成と自己修復」
128東京大学大学院
伊藤　耕三		「環動高分子を用いた自己修復性コーティングの基礎と実用化（仮題）」
127京都大学大学院
瀧　健太郎		「紫外線硬化樹脂による相分離制御を利用した耐熱性フレキシブル低誘電率膜の開発」
127三菱レイヨン（株）
竹内　浩史		「光ゾル－ゲル反応による無機系コーティング膜形成技術」
127（株）センテック　
中宗　憲一		「樹脂硬化収縮率、硬化収縮応力の新しい測定装置について」
127積水化学工業（株）　
湯浅　基和		「大気圧プラズマによる表面改質応用技術」
126共栄社化学株式会社
池田　順一		「ナノゲルフォトポリマー、高密度ホログラム記録を目指して」
126協立化学産業株式会社
片上　英治		「モバイルディスプレイ接着用ＵＶ硬化性樹脂」
126東京理科大学
有光　晃二		「光塩基発生剤の開発とアニオンＵＶ硬化への応用」
126株式会社ディーメック
栗原　文夫		「ゴム型で熱可塑性樹脂を成形する成形技術」
126東京大学大学院
高橋　哲		「光励起型三次元ナノマイクロ加工法の新展開」
125新田ゼラチン株式会社
上野　精記		「紫外線硬化性発泡ホットメルトガスケット（UVFG）の研究」
125株式会社ダイセル　
高瀬　一郎		「ジビニルエーテルモノマー合成技術並びにＵＶ硬化特性」
125兵庫県立大学
川月　喜弘		「偏光軸選択光反応を基盤とする透明な光配向材料」
125東洋インキＳＣホールディングス株式会社
田中　治夫		「LED用インキ（仮題）」
124東芝機械㈱
萩原 明彦		「ロールツウロール式のＵＶナノインプリント技術」
124大阪大学産業科学研究所
大島　明博		「EBナノインプリント法による微細構造体の作製」
124NTTアドバンステクノロジ㈱
高橋　千春		「ナノインプリントモールドとその応用」
124新中村化学工業㈱
伊豫　昌己		「UVナノインプリントにおけるカリックスアレーン誘導体の特性」
123
2011.9		財団法人　神奈川科学技術アカデミー
村上　武利		「光触媒の現状と今後の展開」
123
2011.9		東亞合成㈱
岡崎　栄一		「新しい機能を有するUV接着剤」
123
2011.9		㈱レイテック
池田　重利		「放射線架橋によるPTFEの成形加工性の改良
123
2011.9		㈱レイテック
池田　重利		－新規なプライマーレスPTFEコーティングのプロセス開発－」
123
2011.9		日本特殊コーティング㈱
宇加地　孝志		「Overview of Radiation Curing Market and Technology in Japan（RadTech Asia 2011）」
122
2011.4		東京応化工業㈱
内海　義之		「フォトレジスト開発の現状と今後」
122
2011.4		大阪大学　産業科学研究所
古澤　孝弘		「レジスト反応機構と11nmノードに向けた将来展望」
122
2011.4		三菱化学㈱
山岡　弘明		「フレキシブル有機薄膜太陽電池の開発と今後の展開」
122
2011.4		独立行政法人産業技術総合研究所
増田　　淳		「太陽電池のフレキシブル化技術、モジュール化技術と周辺材料」
121
2011.2		産業総合技術研究所
福田　隆史		「リターダグラフィ（Retardagraphy)－ユニークな位相情報記録技術（仮題）」
121
2011.2		綜研化学㈱
三澤　毅秀		「ナノインプリント用樹脂製モールドの開発」
121
2011.2		東京理科大学
松本　睦良		「LB膜中での光反応とパターン形成」
121
2011.2		共同技研化学㈱
濱野　尚吉		「分子勾配膜を用いた粘着テープの開発」
121
2011.2		大阪市立工業研究所
松川　公洋		「RadTech North America　2010　見聞録（仮題）」
120
2010.11		東京理科大学
佐々木 健夫		「光解重合性ポリオレフィンスルフォン」
120
2010.11		株式会社スリーボンド
有田 奈央		「UV-CIPG(紫外線硬化型現場成形ガスケット)」
120
2010.11		東京工業大学
堀田 栄喜		「EUV領域の放電光源開発」
120
2010.11		リソテックジャパン株式会社
関口 淳		「フォトレジスト材料の評価」
リソテックジャパン株式会社
関口 淳		「フォトレジスト材料の評価」
119
2010.9		大阪府立大学
岡村　晴之		「EUVリソグラフィー用非化学増幅レジスト」
119
2010.9		慶應義塾大学
石榑　崇明		「オンボード光インターコネクションへ向けた屈折率分布型ポリマー光導波路」
119
2010.9		ＤＩＣ株式会社
小坂典生		「ＵＶ硬化型樹脂について（仮)」
119
2010.9		ＪＳＲ株式会社
齋藤　則彦		「Japan Overview of Radiation Curing Market and Technology (RadTech North America2010)」
118
2010.6		京都大学
伊藤　紳三郎		「有機薄膜太陽電池の光化学（仮題）」
118
2010.6		ダイセル化学工業株式会社
三宅　弘人		「ＵＶインプリント用エポキシ樹脂材料」
118
2010.6		住友スリーエム株式会社
畑中　秀之		「ＵＶ硬化樹脂の分析（仮題）」
118
2010.6		株式会社三菱化学科学技術研究センター
上野　信彦		「高屈折率光硬化コンポジット材料（仮題）」
118
2010.6		パナソニック電工株式会社
福田　敦男		「LED-UV技術の印刷への応用」
117
2010.4		名古屋大学
関　　隆広		「光を用いたメソおよびミクロレベル構造の配向制御」
117
2010.4		香川大学
鈴木　孝明		「アセンブリフリー回転傾斜露光法とそのバイオ応用」
117
2010.4		三菱レイヨン㈱
安部　善紀		「熱成形性と耐擦傷性に優れたアクリルフィルム｢アクリプレン3D-MR」の開発」
117
2010.4		東洋インキ製造㈱
鈴木　恵一		「紫外線硬化型耐指紋HCの開発」
116
2010.2		京都大学大学院
大北　英生		「有機薄膜太陽電池の最新動向」
116
2010.2		チッソ石油化学㈱
山廣　幹夫		「高耐久性ハードコートフィルムの開発」
116
2010.2		日本ビー・ケミカル㈱
長谷　高和		「プラスチック素材へのフィルム加飾技術」
116
2010.2		DICグラフィックス㈱
山本　誓		「UV LED硬化型インキ」
115
2009.11		東京工業大学院理工学研究科
上田　充		「低分子アモルファスレジスト」
115
2009.11		兵庫県立大学大学院
川月　喜弘		「高分子液晶光配向膜とその応用」
115
2009.11		日本原子力研究開発機構
長澤　尚胤		「量子ビームによるバイオプラスチックの改質(仮題)」
115
2009.11		王子製紙㈱
神野　文夫		「UV光でパターン発泡可能な超微細気泡発泡体」
115
2009.11		保土ヶ谷化学工業㈱
樽本　直浩		「ビスイミダゾールを用いた高感度な光開始系の開発」
114九州大学大学院
藤ヶ谷　剛彦		「カーボンナノチューブ・UV硬化性樹脂融合素材の展開」
114東京工業大学大学院
早川　晃鏡		「ブロック共重合体リソグラフィによる微細加工と16nm技術ノードに向けた材料開発」
114東レ㈱
富川　真佐夫		「感光性耐熱性ポリマー」
114神奈川大学
西久保　忠臣		「感光性樹脂の合成と分子設計の思想（過去・現在・未来）：発展編」
113東邦大学　理学部
青木　健一		「デンドリマーを活用するUV硬化材料」
113㈱日本触媒
松田　安弘		「超多官能アクリルペンダントポリマーの特性と応用」
113DIC㈱　
長谷部　浩史		「UVキュアラブル液晶を用いた位相差フィルム」
113㈱センテック
中宗　憲一		「紫外線硬化樹脂の新しい硬化度推定方法」
113積水化学工業㈱　
杉田　大平		「自己剥離粘着テープの開発」
112名古屋大学
梅村　知也		「放射線を利用した有機ポリマーモノリスの構造制御と分離機能材料の開発」
112㈱ブリヂストン
大森　直之		「耐熱性、水蒸気バリア性に優れた紫外線硬化型エラストマー」
112㈱D-MEC
寺本　俊夫		「3次元マイクロ光造形技術の現状」
112旭化成イーマテリアルズ㈱
高山　陽介		「マイクロファブリケーション用ドライフィルムレジストの最新動向」
111東京理科大学 理工学部
有光　晃二		「光塩基発生剤および塩基増殖剤の開発と光反応性材料への応用」
111地方独立行政法人 大阪市立工業研究所
松川　公洋		「光架橋性有機無機ハイブリッドの作製と光学材料への応用」
111ダイセル化学工業㈱
三宅　弘人		「UV-NIL（ナノインプリントリソグラフィー）の紹介」
111ダイセル化学工業㈱
三宅　弘人		「UV-NIL（ナノインプリントリソグラフィー）の紹介」
111三菱レイヨン㈱
魚津吉弘		「モスアイ型無反射フィルムのご紹介」
111日立化成工業㈱
宮坂　昌宏		「レーザ直描セミアディティブ対応感光性フィルムRDシリーズの開発」
110東京理科大学　理工学部
山下　　俊		「ポリイミドをベースにした光学材料に関する研究」
110芝浦工業大学　工学部
西川　宏之		「集束イオンビームを用いた3次元微細造型」
110岩崎電気㈱
武井　太郎		「低エネルギーEBの印刷への応用」
110サンメディカル㈱
本田　成道		「歯科材料用途の光硬化樹脂について」
110共栄社化学㈱
竹中　直巳		「アクリレート樹脂の構造と耐熱設計」
109兵庫県立大学
松井　真二		「ナノインプリント技術の現状と今後の応用展開」
109（独）産業技術総合研究所
原　浩二郎		「色素増感太陽電池～実用化へ向けた研究開発動向～」
109三菱レイヨン㈱
齋藤　隆司		「CNTを用いた導電性薄膜の形成」
109㈱ADEKA
斎藤　誠一		「高耐熱性かつ高透明性を持つフォトポリマー「アデカナノハイブリッドシリコーン」～フラットパネルディスプレイや光導波路への応用について」
108千葉大学　大学院
小関　健一		「UV硬化型ジェットインク材料」
108積水化学工業㈱
福井　弘司		「後硬化・後剥離技術による粘着剤の接合力制御」
108大日本印刷㈱
角野　友信		「高性能カラーフィルターの技術動向と樹脂材料」
108ダイソー㈱
植田　秀昭		「可視光硬化型ホログラム記録材料」
108電気化学工業㈱
渡辺　　淳		「光学、電子部品用含イオウUV硬化接着剤」
107東京工業大学
池田　富樹		『High-performance Rewritable Bragg Holograms Using Azobenzene polymers』
107JSR㈱
宇加地　孝志		『PROGRESS OF RADIATION CURING TECHNOLOGY AND ITS INDUSTRIAL APPLICATIONS IN JAPAN』
107名古屋工業大学
大谷　肇		『特異な分解反応を利用するアクリル系紫外線硬化樹脂の構造キャラクタリゼーション』
107横浜国立大学
大山　俊幸		『エンプラを感光性ポリマーに変換する技術（仮題）』
107ギガフォトン㈱
遠藤　彰		『レーザープラズマによるEUVリソグラフィー光源の現状と展望』
106東京工業大学
山本　隆一		『有機金属重縮合法によるパイ共役ポリマーの合成と分子集積・機能』
106日立化成工業㈱
高橋　敦之		『感光性オプティカルウェブガイド・フィルム（仮題）』
106デュポン㈱
佐藤　敦彦		『紫外線硬化性粘着材（DuPont TMT)のフラットパネルディスプレイ電極形成への応用（仮題）』
106コニカミノルタIJ㈱
西　　眞一		『UVインクジェット』
106フュージョンUVシステムズ・ジャパン㈱
河村　紀代子		『直流電源UVランプの特長と硬化膜への影響』
105東邦大学
市村　國宏		『水中ナノ分散結晶の光物理化学とフォトポリマーへの応用』
105ＮＨＫ放送技術研究所
藤掛 英夫		『フレキシブルフィルム液晶ディスプレイの作製技術』
105ＪＳＲ㈱
木村　雅之		『光ラビング：光配向法実用化のための新プロセスの開発＜仮題＞』
105東海大学
西　　義武		『低エネルギーＥＢによる無機材料および複合材料の強度アップ』
105東京工業大学
上田　　充		『ラドテックアジア2007　参加報告』
104
2007.9		神奈川大学
西久保　忠臣		「オキセタンの化学反応を基盤とした新しい光硬化材料の合成と特性」
104
2007.9		㈱クラレ
平田　　恵		「UV硬化性液状ゴム」
104
2007.9		三菱レイヨン㈱
百瀬　　陽		「臨界吸着クロマトグラフィーを用いた半導体レジスト用ポリマーのキャラクタリゼーション」
104
2007.9		日亜化学㈱
川野　憲二		「LEDのUV光源の開発」
103
2007.6		大阪府立大学大学院
忠永　清治		「ゾル−ゲル無機−有機ハイブリッド膜のマイクロパターニング」
103
2007.6		独）産業技術総合研究所
清水　洋		「ディスコティック液晶の赤外線レーザーによる配向と光導電性（仮題）」
103
2007.6		大阪ガス㈱
川崎　真一		「光学樹脂としてのフルオレン化合物」
103
2007.6		丸善石油化学㈱
佐藤　智彦		「ビニルエーテル化合物の光反応性（仮題）」
103
2007.6		㈱コムラテック
西山　聡		「感光性樹脂凸版を用いたエレクトロニクス分野への応用」
102
2007.4		東京女子医科大学
大和　雅之		「EB照射を用いて作製した温度応答性培養表面を活用する再生医療本格化のための細胞シート工学」
102
2007.4		大阪府立大学大学院
平井　義彦		「光ナノインプリント技術の概要」
102
2007.4		大阪大学産業科学研究所
関　　修平		「イオンビーム照射による機能性ナノ構造体の作製（仮題）」
102
2007.4		㈱SEN
杉谷　道朗		「45nmノード以降の先端LSIトランジスタ形成におけるイオン注入の課題」
101三井化学㈱
水田　康司		「UVカチオン重合における速硬化性の追求」
101ダイセル化学工業㈱
高井　英行		「脂環式エポキシ化合物のUVカチオン硬化物性」
101（独）理化学研究所
和田　達夫		「ソフト・オプトエレクトロニクス材料：波長多重通信に向けたポリマー広帯域波長セレクター」
101（独）産業技術総合研究所
斉藤和裕　		「高効率有機薄膜太陽電池」
101フュージョンUVシステムズジャパン㈱
足利一男		「ラドテックN．A．ジャパンセッション報告」
100チッソ石油化学㈱
春藤　龍士		「UV硬化液晶材料とその応用」
100京都大学工学研究科
田畑　　修		「ﾏｲｸﾛｼｽﾃﾑを構築するための三次元微細加工技術」
100リンテック㈱
前田　　淳		「ＩＣチップの製造および実装工程への粘接着テープの応用」
100オムロン㈱エレクトロニクスコンポーネンツビジネスカンパニー
北村　恭司		「2P法によるマイクロレンズの作製及びそれに用いる紫外線硬化樹」
100ハリマ化成㈱
松葉　頼重		「微細配線への金属ナノ粒子利用技術：IJ&UV」

1～99回　講演会

講演者講演タイトル
99
2006.9		三井化学(株)　
水田 康司		UVカチオン重合における速硬化性の追求
99
2006.9		ダイセル化学工業(株)　
高井 英行		脂環式エポキシのUVカチオン硬化物性
99
2006.9		(独)理化学研究所　
和田 達夫		ソフト・オプトエレクトロニクス材料：波長多重通信に向けたポリマー広帯域波長セレクター
99
2006.9		(独)産業技術総合研究所　
斉藤 和裕		高効率有機薄膜太陽電池
99
2006.9		フュージョンUVシステムズ・ジャパン(株)　
足利 一男		ラドテックN.A. ジャパンセッション報告
98
2006.6		チッソ石油化学(株)　
春藤 龍士		UV硬化液晶材料とその応用
98
2006.6		京都大学 大学院 工学研究科　
田畑 修		マイクロシステムを構築するための3次元微細加工技術
98
2006.6		リンテック(株)　
前田 淳		ICチップの製造および実装工程への粘・接着テープの応用
98
2006.6		オムロン(株)　
北村 恭司		2P法によるマイクロレンズの作製及びそれらに用いる紫外線硬化樹脂
98
2006.6		ハリマ化成(株)　
松葉 頼重		微細配線への金属ナノ粒子利用技術：IJ＆UV
97
2006.4		東京理科大学
山下　　俊		「光反応プローブを用いた高分子の自由体積の異方性」
97
2006.4		東京大学
立間　　徹		「光触媒リソグラフィー法による浸水／撥水パターニング
97
2006.4		昭和電工㈱
室伏　克己		「新規イソシアネートモノマーの構造と硬化物特性」
97
2006.4		㈱康井精機
康井　義成		「最新の薄膜コーティング技術とコーティングラインについて」
96
2006.2		防衛大学校
大越　昌幸		「真空紫外レーザー照射によるシリコーン樹脂からの光導波路直接形成加工」
96
2006.2		松下電工㈱
磯崎　雅史		「高出力LED方式UV硬化装置」
96
2006.2		㈱カネカ
中川　佳樹		「（メタ」アクリロイル末端テレケリックポリアクリレート
96
2006.2		林テレンプ㈱
酒井　丈也		「光配合技術とその応用」
96
2006.2		綜研化学㈱
小林　晃司		「UV照射を使った高性能両面テープ」
95
2005.11		大阪府立大学大学院
平井　義彦		「ナノインプリントの基礎と応用」
95
2005.11		富士写真フイルム㈱
渡部　　淳		「UV硬化技術のLCD用光学フィルムへの応用－視野角拡大フィルム『WVフィルム』の開発－」
95
2005.11		㈱ブリジストン　研究開発本部
田沼　逸夫		電子粉流体Ⓡを用いたフレキシブルディスプレイ【QR-LPD電子Ⓡ】
95
2005.11		千葉大学　工学部
斎藤　恭一		「放射線グラフト重合法によるバイオの開発（仮題）」
94
2005.9		千葉大学
小関　健一		「紫外線硬化型インクジェットの基礎とトピックス」
94
2005.9		チバ・スペシャルティ・ケミカルズ㈱
平川　　静		「アメリカ、ヨーロッパ、中国及び日本における新規化学物質届出制度の初歩」
94
2005.9		積水化学工業㈱
東　　賢一		「感光性絶縁膜」
94
2005.9		JSR㈱
宇加地　孝志		「RadTech Asia 2005　上海」に見る中国のラドテックの動向
93
2005.6		大阪市立大学大学院
小畠　誠也		「光機能性フォトクロミック有機結晶材料の開発」
93
2005.6		京都工芸繊維大学
宮田 貴章		「光反応性高分子に誘起された弾性ひずみと生成モルフォロジー」
93
2005.6		㈱ＫＲＩ
花畑　誠		「光パターンニング用材料の設計」
93
2005.6		中国塗料㈱
河添　正雄		「木工用UV塗料の最近の動向（仮題）」
93
2005.6		堺化学工業㈱
川崎　徳明		「エンチオール系光硬化システム」
92
2005.4		神奈川大学工学部
亀山　　敦		「高屈折率材料としての含硫黄高分子の精密合成」
92
2005.4		東京工業大学
上田　　充		 「感光性ポリベンズオキサゾール（PBO)の新展開（仮題）」
92
2005.4		関西ペイント㈱
富田　真司		「自動車補修用UV硬化塗料の現状（仮題）」
92
2005.4		JSR㈱
大高　　亨		「ディスプレイ用機能性フィルムの開発（仮題）」
92
2005.4		岩崎電気㈱
木下　忍		光殺菌技術の基礎と動向
91
2005.2		産業技術総合研究所　
玉置 信之		光異性化反応による分子間相互作用の制御と記録材料への応用
91
2005.2		日本原子力研究所 東海研究所　
浅井 志保		環境放射能モニタリングに役立つ放射線グラフト重合法
91
2005.2		日本油脂(株)　
木村 育弘		ウェットコート反射防止フィルム
91
2005.2		日本放送協会 放送技術研究所　
時任 静士		有機EL素子へのUV硬化技術の応用
91
2005.2		ペンタックス インダストリアル インスツルメンツ(株)　
須藤 賢一		h線露光装置（データ・ダイレクト・イメージャー）について
90
2004.11		神奈川大学 工学部　
工藤 宏人		オキセタン化合物を基盤とした機能性多分岐ポリマーの合成と性質および光反応
90
2004.11		日本原子力研究所 高崎研究所　
吉田 勝		放射線を利用した燃料電池用電解質膜
90
2004.11		昭和電工(株)　
森中 克利		カレンズAOI（2-アクリロイルオキシエチルイソシアネート）の特徴について
90
2004.11		東京応化工業(株)　
信太 勝		カラーフィルター用レジンブラックマトリックスの最近の開発動向について
90
2004.11		岩崎電気(株)　
武井 太郎		新型EB装置の開発 EV-V、ビームサット、アイリングビーム
89
2004.9		シーアイ化成(株)　
桝田 義勝		EBキュアリングによる高機能フィルムの製造
89
2004.9		BASFジャパン(株)　
太田 宏史		二酸化炭素雰囲気下の3次元UV硬化システム
89
2004.9		大日本インキ化学工業(株)　
米原 祥友		ビスマレイミド系紫外線硬化型オリゴマーの開発と応用
89
2004.9		関西ペイント(株)　
竹添 浩司		レーザーダイレクトイメージング用レジスト材料の技術動向
88
2004.6		旭化成エレクトロニクス(株)　
池田 章彦		半導体・実装技術の進歩におけるフォトポリマーの貢献
88
2004.6		大阪市立工業研究所　
玉井 聡行		有機・無機ハイブリッドによるポジ型電子線アナログレジストの開発
88
2004.6		兵庫県立大学　
服部 正		SR加工の現状とその展開
88
2004.6		旭電化工業(株)　
近岡 里行		光造形用樹脂の動向
88
2004.6		大阪大学 大学院　
横山 正明		ポリシランの光加工によるデバイス作製
87
2004.4		東京工業大学 大学院 理工学研究科　
芝崎 祐二		耐熱性感光性ポリマーの開発
87
2004.4		旭化成ケミカルズ(株) 機能膜営業部　
小泉 洋介		超超純水への挑戦－イオン吸着膜－
87
2004.4		産業技術総合研究所 光反応制御研究センター　
佐藤 正健		レーザー反応による環状高歪化合物の合成と量子化学計算を利用した赤外振動解析
87
2004.4		三菱レイヨン(株) 商品開発研究所　
千田 敦美		反応性アクリルポリマーのUV/EBへの応用
86
2004.2		大阪府立大学　
角岡 正弘		RadTech Europe ’03に見る欧州におけるラドテックの最近動向
86
2004.2		JSR(株)　
宇加地 孝志		日本における放射線硬化技術の進歩とその工業利用
86
2004.2		チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)　
倉 久稔		カラーフィルター用新規光重合開始剤
86
2004.2		東京工業大学　
中村 一隆		強レーザー光子場による量子放出とその応用
86
2004.2		日本原子力研究所　
植本 洋		金属・C60混合物における組織形成～新しい薄膜自己組織化の観察～
85
2003.11		大日本印刷(株)　
植田 健治		ホログラム記録材料
85
2003.11		ダイプラ・ウィンテス(株)　
西山 逸雄		SAICAS装置による塗膜の物性評価
85
2003.11		岩崎電気(株)　
森 一郎		促進耐候性試験の現状
85
2003.11		ダイセル・ユーシービー(株)　
山本 健一		UVパウダー用ポリエステル樹脂
84
2003.9		東京インキ(株)　
高尾 道生		UV硬化インクジェットインク
84
2003.9		日本ペイント(株)　
津島 宏		ポリシラン系ポリマー導波路材料
84
2003.9		名古屋大学 大学院　
関 隆広		光応答高分子膜を利用した動的な物質制御
84
2003.9		クラリアントジャパン(株)　
木下 義章		微細加工用塗材料の伸展
83
2003.7		大阪市立大学大学院　
松本 章一		トポケミカル重合による高分子構造制御と材料設計
83
2003.7		(株)日本触媒　
万木 啓嗣		異種重合性モノマーの特徴と応用－ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル－
82
2003.4		日亜化学工業(株) 蛍化物半導体研究所　
森田 大介		波長365nm紫外LEDの開発
82
2003.4		東京理科大学 理工学部 工業化学科　
有光 晃二		塩基増殖反応を利用した光反応性材料
82
2003.4		早稲田大学 理工学部 応用化学科　
常田 聡		放射線グラフト重合法で作製した材料の水環境保全への応用
82
2003.4		日本原子力研究所 高崎研究所　
前川 康成		イオン・電子ビームを用いた有機薄膜の微細加工
81
2003.2		東亜合成(株) 高分子材料研究所　
岡崎 栄一		オキセタンあるいはマレイミドを利用した「UV硬化型粘着剤」
81
2003.2		東北大学 多元物質科学研究所　
宮下 徳治		高分子ナノシートを用いた分子系ナノデバイス
81
2003.2		東京理科大学 理工学部　
山下 俊		光反応・電子線反応による高分子の屈折率制御
81
2003.2		凸版印刷(株)　
糸井 健		カラーフィルタ用レジストについて
81
2003.2		住友重機械工業(株) 技術開発センター　
工藤 利雄		ダブルパルス制御方式による全固体レーザアニーリング
80
2002.11		東洋インキ製造(株) 筑波研究所　
上杉 隆彦		スルホニウム塩系光酸発生剤の開発
80
2002.11		神奈川大学 工学部 化学教室　
亀山 敦		高性能カチオン重合性モノマーーポリマー
80
2002.11		チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株) コーティング機能材セグメント　
古演 亮		新規カチオン重合開始剤
80
2002.11		関西ペイント(株) AT研究所　
今井 玄児		化学増幅型新規ポジ型ドライフィルム
79
2002.9		(株)オーク製作所　
布川 洋		TORC–UV固体レーザシリーズと応用
79
2002.9		日本原子力研究所 高崎研究所　
箱田 照幸		300keVの電子ビームの線量計測
79
2002.9		カシュー(株)　
阿久津 幹夫		EB硬化塗料の特徴とEUでの塗装事例
79
2002.9		大日本インキ化学工業(株)　
藤井 耕一		光ディスク用UV材料
78
2002.7		立命館大学　
杉山 進		シンクロトロン放射光リソグラフィを用いたマイクロファブリケーション技術
78
2002.7		関西ペイント(株)　
竹添 浩司		ダイレクトイメージング技術の動向
78
2002.7		荒川化学工業(株)　
大山 洋司		UVカチオン重合の剥離紙用シリコーンへの応用
78
2002.7		大阪有機化学工業(株)　
川上 直彦		低皮膚刺激性アクリルモノマーの動向
77
2002.4		三菱重工業(株) 名古屋研究所　
秋田 靖浩		連鎖反応型UVカチオン硬化システム
77
2002.4		三菱レイヨン(株) 化成品開発研究所　
藤原 匡之		ArFレジスト用モノマー及びポリマーの開発
77
2002.4		理化学研究所 ナノ物質工学研究室　
田島 右副		フラーレンを触媒とするアニールフリー耐熱性感光性樹脂の開発
77
2002.4		住友重機械工業(株) 技術開発センター　
加藤 隆典		放射光誘起反応による微細加工とその応用
76
2002.2		三菱化学(株) 横浜総合研究所　
高崎 龍一郎		明室操作可能な赤外線フォトポリマー
76
2002.2		東亜合成(株) 高分子材料研究所　
岡崎 栄一		マレイミド基含有アクリルポリマーを利用した光開始剤フリー水系UVコーティング剤
76
2002.2		チバ・スペシャルティ・ケミカルズ 研究開発センター　
倉久 稔		エレクトロニクス材料向け新規光重合開始剤
76
2002.2		(株)関西新技術研究所 アドバンスドマテリアル研究部　
山木 繁		スチリルピリジン高分子薄膜の光機能材料への応用
76
2002.2		熊本大学 工学部 物質生命化学科　
栗原 清二		コレステリック液晶ネットワークの光応答挙動
75
2001.11		（社）日本電球工業会　
河本 康太郎		光エネルギー応用の現状と光安全性の評価（国際基準）
75
2001.11		九州大学大学院 農学研究院　
原 敏夫		放射線を利用した納豆樹脂の開発とその応用展開
75
2001.11		福井県工業技術センター 創造研究部　
宮崎 孝司		ポリエステル繊維へのグラフト重合と機能化
75
2001.11		JSR(株) 筑波研究所　
高瀬 英明		アゾベンゼン含有ポリマーの光架橋と光学的応用
75
2001.11		東海大学 工学部 応用化学科　
長瀬 裕		芳香族ポリアミドからなる新しい液晶光配向膜
74
2001.9		東洋インキ製造(株) 技術・研究・開発本部 開発研究所　
尾崎 邦彦		超低加速電子線照射装置とその応用
74
2001.9		日立化成工業(株) 総合研究所　
上野 巧		LSI用レジストの開発動向
74
2001.9		日本原子力研究所 高崎研究所　
廣田 耕一		電子ビームを用いた揮発性有機化合物(VOC)の分解技術の開発
74
2001.9		東京理科大学 総合研究所　
市村 國宏		ラドテックアジア国際会議2001報告
74
2001.9		UCB Chemicals BU-Radcure Asia　
Jean-Pierre Ravijst		Overview of the Radiation Curing Technology in Asia
73
2001.7		京都大学大学院 工学研究科　
伊藤 紳三郎		走査型近接場光学顕微鏡（SNOM）で見るナノスケールの高分子構造
73
2001.7		トキUVインクス研究所　
桐山 義行		UV硬化材料の設計コンセプト
73
2001.7		共栄社化学(株) 情報・電子材料化学品研究部　
内木場 尊信		ウォームメルト型紫外線硬化樹脂
73
2001.7		(株)クラレ つくば研究所 鹿島駐在兼イソプレン研究開発部　
社地 賢治		光硬化性液状ポリイソプレンの特性とその応用
73
2001.7		ナガセケムテックス(株) 研究開発部門　
飯田 隆文		光カチオン重合技術のエレクトロニクス用接着剤への応用
72
2001.4		東京工科大学 工学部　
浅間 邦彦		UV硬化型ポリマ光導波路を用いた光回路素子
72
2001.4		(財)川村理化学研究所　
深澤 憲正		近赤外レーザーを用いた高分子材料加工
72
2001.4		三菱レイヨン(株) 商品開発研究所　
藤本 寿一		光反応性微粒子の開発と今後の展開
72
2001.4		松下電子工業(株) 半導体社 プロセス開発センター　
遠藤 政孝		ポストArFリソグラフィー超微細加工レジストを中心として－
71
2001.2		千葉大学 工学部　
斎藤 恭一		放射線グラフト重合だからできる高機能材料の作成
71
2001.2		東京理科大学 理工学部　
山下 俊		ポリマーの構造制御と光機能
71
2001.2		姫路工業大学 工学部　
川月 喜弘		光反応性材料の選択的な光架橋で作成された複屈折フィルム
71
2001.2		大阪府立大学大学院 工学研究科　
白井 正充		光酸発生剤・光塩基発生剤を用いる表面修飾レジスト
70
2000.9		キヤノン(株)　
後藤 顕		KrFエキシマレーザーによる、BJヘッドのノズル加工
70
2000.9		日本原子力研究所 高崎研究所　
前川 康成		イオン・電子ビームを用いた有機薄膜の微細加工
70
2000.9		セイコーエプソン(株)　井領 毅明 /
三菱レイヨン(株）牧野 伸治		光硬化型素材による眼鏡レンズの製造
70
2000.9		JSR(株)　
山口 佳一		UV硬化型有機／無機ハイブリッドハードコート材料
69
2000.7		理化学研究所　
田島 右副		光酸化誘起重縮合樹脂
69
2000.7		(財)川村理化学研究所　
穴澤 孝典		光重合誘発型相分離の構造形成機構
69
2000.7		宇部興産(株) 化学・樹脂事業本部　
安野 弘		低弾性、低温硬化型ポリイミドインキとその感光化
69
2000.7		大阪市立工業研究所　
松川 公洋		アルコキシシラン誘導体の光硬化
69
2000.7		日本ペイント(株) 研究開発センター　
岩田 顕範		常圧プラズマによる固体表面の改質
68
2000.4		大阪大学 産業科学研究所　
田川 精一		EBおよびX線化学増幅型レジストの反応機構と高感度化 －エキシマ化学増幅型レジストとの比較－
68
2000.4		千葉大学 工学部　
山岡 亜夫		高感度フォトポリマー材料の設計とレーザー走査記録特性
68
2000.4		日本レック(株)　
奥野 敦史		UV硬化樹脂の電子部品、電子機器への応用
68
2000.4		JSR(株) 知的財産部　
鴨志田 洋一		ArFエキシマレーザー用レジスト
67
2000.2		千葉大学 工学部　
中平 隆幸		クレイ層間を利用した高効率光反応系－ポリアニリン光重合を中心に－
67
2000.2		大日本インキ化学工業(株) UV樹脂技術グループ　
一ノ瀬 榮寿		エネルギー線硬化型コーティング材料 最近の技術動向
67
2000.2		岩崎電気(株) 産業開発部　
木下 忍		低エネルギー電子線照射装置の最近の動向について
67
2000.2		チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株) 添加剤事業部　
古濱 亮		光重合開始剤の動向－低昇華性開始剤を中心に－
66
1999.12		岐阜大学 工学部　
長谷川 功		有機・無機ハイブリッド材料
66
1999.12		(株)日立製作所 ディスプレイグループ　
林 伸明		液晶ディスプレイ用レジストのレーザーアブレーションによる直接描画
66
1999.12		ウシオ電気(株) E-106プロジェクト　
山口 真典		超小型・超低エネルギー電子加速器 Min-EB® の現状
66
1999.12		千葉大学 工学部　
杉田 和之		RadTech Europe ’99にみるUV/EB硬化技術の最新動向
66
1999.12		大阪府立大学大学院 工学研究科　
角岡 正弘		ラドテックヨーロッパ’99（ベルリン）にみるUVキュアリングの動向
66
1999.12		大日本インキ化学工業(株) 総合研究所　
米原 祥友		The Status of Radiation Curing Markets and Technology in Japan
65
1999.9		東亜合成(株) 名古屋総合研究所　
児島 史郎		UV硬化型シリコーングラフトポリマーの応用
65
1999.9		ダイソー(株) 研究所　
清水 保美		ジアリルフタレート架橋微粒子とその用途
65
1999.9		三重大学 工学部 分子素材工学科　
富岡 秀雄		ジアゾ化合物の光分解による有機分子磁性体の発生と制御
65
1999.9		チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株) カラー事業部　
小坂 憲司		最新の有機材料の応用
65
1999.9		佐々木 隆RadTech Asia ’99報告
64
1999.7		京都大学 化学研究所　福田 猛リビングラジカル重合の基礎と応用
64
1999.7		大阪ガス(株) 研究開発部　
山田 光昭		フラーレン誘導体の合成とその材料開発における応用展開
64
1999.7		(財)ファインセラミックセンター 試験研究所　
池末 明生		YAGレーザー材料の開発とその応用
64
1999.7		日新ハイボルテージ(株) 加速器技術部　
谷口 周一		最近のEB照射装置
64
1999.7		日新ハイボルテージ(株) EB加工センター　
中井 康二		EB照射における線量測定
64
1999.7		大阪府立大学 先端技術研究所　
古田 雅一		放射線滅菌に関する最近の話題
63
1999.4		静岡大学 工学部　
川田 善正		有機材料を用いた高密度光メモリー
63
1999.4		(株)ヤマトヤ商会　
沼倉 孝		画像階調特性の高効率高精度変換処理技術
63
1999.4		ソニーケミカル(株) 化成品事業部　
小南 啓		光ディスクにおける紫外線硬化技術
63
1999.4		荒川化学工業(株) 研究部　
谷奥 勝三		脱溶剤化を中心とした剥離紙用シリコーンの最新技術動向
63
1999.4		東京工業大学 資源化学研究所　
市村 國宏		【記念講演会】酸増殖反応と応用
63
1999.4		ラドテック研究会 名誉会長　
田畑 米穂		【受賞記念講演】放射線利用技術の新しい展開
62
1999.2		東京理科大学 基礎工学部 材料工学科　
長崎 幸夫		新しい電子線リソグラフィー用材料
62
1999.2		早稲田大学 理工学総合研究センター　
鷲尾 方一		高性能加速器の現状と将来展望
62
1999.2		デュポン(株) 中央技術研究所 電子材料部　
武藤 勉		PDP用感光性厚膜ペースト
62
1999.2		東亜合成(株) 名古屋総合研究所　
岡崎 栄一		イミドアクリレート化合物の紫外線硬化特性
62
1999.2		大蔵省印刷局 印刷研究部　
丸山 誠二		UV・EBを用いた諸証券印刷について
61
1998.12		千葉大学 工学部 情報画像工学科　
小関 健一		光重合硬化膜の力学物性
61
1998.12		早稲田大学 理工学総合研究センター　
浜 義昌		ポリオレフィンのイオン照射効果の解析
61
1998.12		旭化成工業(株) 機能膜技術開発部　
久保田 昇		放射線グラフト重合法による濾過膜の高機能化：超純水中の微量金属除去膜の開発 －放射線グラフト重合法×多孔性濾過膜＝吸着機能膜の創製－
61
1998.12		日立化成工業(株) 茨城研究所　
鍋治 誠		感光性ポリイミドの技術動向
61
1998.12		フェムト秒テクノロジー研究機構　
遠藤 彰		レーザー応用技術の新展開－電子線との複合利用－
60
1998.9		神奈川大学 工学部　
西久保 忠臣		光エネルギー変換・蓄積機能を有する高分子材料の開発
60
1998.9		昭和電工(株) 東長原工場　
三須 直明		カレンズMOI®（2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネート）の性質と応用
60
1998.9		(株)ディーメック　
田上 英二郎		光造形の最近の研究開発
60
1998.9		(株)半導体先端テクノロジーズ　
遠藤 政孝		半導体リソグラフィとレジスト、レジストプロセス
59
1998.7		京都大学大学院 工学研究科　
山本 雅英		無定形高分子における励起三重項エネルギー移動
59
1998.7		大阪大学大学院 理学研究科　
森島 洋太郎		ユニマーミセルを用いた高効率光誘起電子移動
59
1998.7		松下電子工業(株) 半導体事業本部　
松尾 隆弘		表面イメージングレジストの現状と展望
59
1998.7		日本ペイント(株) 光化学研究所　
津島 宏		ポリシランを使った新規LCDカラーフィルターの製造方法の開発
58
1998.4		東京工業大学 資源化学研究所　
堂免 一成		層状金属酸化物による水の光分解
58
1998.4		物質工学工業技術研究所　
松田 宏雄		高速光制御を可能にする非線形光学材料
58
1998.4		(株)日立製作所 基礎研究所　
岩柳 隆夫		フォトリソグラフィLSI・プリント板への応用
58
1998.4		(株)ユアサコーポレーション 研究開発センター　
野田 智彦		EB硬化の固体電解質リチウム電池での応用
57
1998.2		東京工業大学 工学部　
柿本 雅明		デンドリティック高分子の合成と性質
57
1998.2		日東電工(株) 基幹技術センター　
望月 周		最近の感光性ポリイミドの動向
57
1998.2		大日本インキ化学工業(株) 総合研究所　
穴澤 孝典		光重合誘発相分離に関する最近の動向
57
1998.2		東洋製罐グループ総合研究所　
後藤 弘明		缶用塗料の現状とUV硬化技術の適用性
56
1997.11		Korea Institute of Science and Technology（KIST）　
Dr. Kwang-duk Ahn		Photoacid Generating Polymers Based on Sulfonyloxymaleimides and Applications as Single-Component Resists
56
1997.11		Université de Haute Alsace（France）　
Dr. Christian Decker		Recent advances in the UV-Curing of Acrylate Systems
56
1997.11		Fusion UV Systems, Inc.（U.S.A.）　
Dr. Sonny Jonsson		High Powered Microwave Excimer Irradiators
56
1997.11		Energy Sciences Inc.（U.S.A.）　
Dr. John M. Chrusciel		The Changing US Electron Beam Market
55(10周年）
1997.9		東洋インキ製造(株)　
今井 敬義		インキ工業界からのRadTechへの期待
55(10周年）
1997.9		日本ペイント(株)　
高橋 敦		塗料工業からのRadTechへの期待
55(10周年）
1997.9		日本アイビーエム(株)　
塚田 裕		感光性樹脂を使用したビルドアップ・プリント配線板ベアチップ実装
55(10周年）
1997.9		ウシオ電機(株)　
平本 立躬		産業界でのUV光源とプロセッシングの開発状況と将来展望
55(10周年）
1997.9		京都大学　
山岡 仁史		この10年の放射線高分子化学の歩みとプロセッシングへの展望
55(10周年）
1997.9		筑波大学 名誉教授　
徳丸 克己		この10年の光化学の進歩と将来の夢
54
1997.6		京都大学 大学院 経済学研究科　
存間 敬子		LCA、ISO14001ってなに？－環境経済学の立場から－
54
1997.6		京都工芸繊維大学 工芸学部　
久保田 敏弘		ホログラフィー－記録材料と応用動向－
54
1997.6		永大産業(株) 総合研究所　
片山 吉久		建材塗装における環境対策
54
1997.6		(株)関西新技術研究所 表面科学研究センター　
森川 茂		レーザーCVD（MOCVD）法による高機能薄膜の形成
54
1997.6		フュージョンUVシステムズ・ジャパン(株)　
折笠 輝雄		新規UV硬化システムに関して
53
1997.4		東洋インキ製造(株) 筑波研究所　
鳥羽 泰正		ボレート系光重合開始剤
53
1997.4		大阪大学 工学部　
井上 佳久		光でキラルな分子をつくる－新しい不斉光化学の可能性－
53
1997.4		関西ペイント(株) 塗装技術研究所　
菊田 真人		光硬化性樹脂を用いた粒状担体の生産と高度下水処理への適用
53
1997.4		日本原子力研究所 高崎研究所　
須永 博美		低エネルギー電子線の線量測定
53
1997.4		住友重機械工業(株) 量子技術研究所　
鷲尾 方一		パルスEBと連続EBによる硬化反応の動力学的比較
52
1997.2		東京都立大学 工学部　
彌田 智一		分子磁性材料の光制御
52
1997.2		電子技術総合研究所 量子放射部　
小貫 英雄		極超短波長による表面処理
52
1997.2		沖電気工業(株) 半導体技術研究所　
伊東 敏雄		新規感光性湿布ガラスと応用プロセス
52
1997.2		東京大学大学院 工学系研究科　
藤嶋 昭		酸化チタン光触媒を利用した抗菌・防汚・防臭
51
1996.11		千葉大学 工学部　
小関 健一		感光性高分子の記録特性と材料物性
51
1996.11		大阪府立大学 工学部　
高田 十志和		潜在性重合開始剤による重合反応の制御
51
1996.11		デュポンMRCドライフィルム(株) 生産部　
内田 廣幸		レーザー直接描画用ドライフィルムレジストのパターン形成
51
1996.11		大日本インキ化学工業(株) 記録材料事業部　
高津 晴義		UVキュアラブル液晶とその応用
50
1996.9		千葉大学 工学部　
杉田 和之		RadTech North America ’96参加報告
50
1996.9		東亜合成(株) つくば研究所　
佐々木 裕		オキセタニル基を有する光カチオン硬化型樹脂
50
1996.9		Lawrence Livermore National Laboratory　
Dr. Booth R. Meyers		Performance Measurements of Sealed-Tube Electron Beam Windows
50
1996.9		American International Technologies, Inc.　
Dr. Jim I. Davis		Innovation-Beam Technology for Ultra Low Voltage Radiation Curing
50
1996.9		Ciba-Geigy Japan, International Research Laboratories　
Dr. J.-L. Birbaum		Recent Developments in Ciba-Geigy’s Radical Photoinitiators: a Journey through the Light
49
1996.7		大阪大学 理学部　
蒲池 幹治		電子移動反応を利用した新たな高分子合成
49
1996.7		国立循環器病センター研究所 生体工学部　
松田 武久
49
1996.7		大日本塗料(株) 開発本部　
桐山 義行		紫外線硬化厚膜エナメルの開発
49
1996.7		昭和電工(株) 化学品研究所　
松比良 伸也		不飽和基をもつイソシアナト化合物の現状と利用方法
48
1996.4		千葉大学 工学部　
唐津 孝		有機ポリシランの光化学反応
48
1996.4		都立アイソトープ総合研究所　
榎本 一郎		EB硬化型粘着剤
48
1996.4		(株)アイ・エレクトロンビーム　
吉田 安雄		EB大型生産ラインの紹介と応用
48
1996.4		大塚化学(株) 徳島研究所　
赤田 充生		反応性紫外線吸収剤について
47
1996.2		東京大学 工学部　
勝村 庸介		モデル化合物を用いた高分子の耐放射線性向上の検討
47
1996.2		NTT LSI研究所　
中村 二朗		化学増幅型レジストの最新動向
47
1996.2		宇部興産(株) 宇部研究所　
佐藤 光彦		電子線を利用した高耐熱性セラミック繊維の開発
47
1996.2		住友重機械工業(株) 量子機器事業センター　
熊田 幸生		新型低エネルギー電子線プロセス装置の現状
47
1996.2		東京都立アイソトープ研究所　
今井 正彦		RadTech Asia ’95報告
46
1995.11		千葉大学 工学部　
山岡 亜夫		フォトケミカル材料
46
1995.11		物質工学研究所　
矢部 明		エキシマレーザープロセッシングによるフッ素樹脂表面の改質
46
1995.11		三菱レイヨン(株) 商品開発研究所　
古川 琢也		UV硬化型ホットメルト粘着剤について
46
1995.11		大日本インキ化学工業(株) 記録材料事業部　
村上 和夫		光ディスク用UVコート剤
45
1995.9		千葉大学 工学部　
原田 紀枝子		ジアゾニウム塩の新しい画像形成への応用
45
1995.9		京都大学 工学部　
澤本 光男		ビニルエーテルのリビングカチオン重合－開始剤系の設計と精密高分子合成－
45
1995.9		日本化薬(株) 化学品研究所　
横島 実		液状レジスト用材料の最近の動向
45
1995.9		リンテック(株) 研究開発部　
峯浦 芳久		UV硬化型ダイシングテープの開発
44
1995.6		奈良女子大学 理学部　
岩井 薫 		ケイ光プローブを用いた高分子ミクロ環境の評価
44
1995.6		京都大学 工学部　
伊藤 紳三郎 		表面波による光反応解析
44
1995.6		神東塗料(株) 第2製造部　
太田 敏秋 		電着法カラーフィルターの開発と工業化
44
1995.6		住友化学工業(株) 精密化学品研究所　
花畑 誠 		ポジ型i線用フォトレジストの開発と工業化
43
1995.4		千葉大学 工学部　
斎藤 恭一		放射線グラフト重合法による分離機能材料の開発
43
1995.4		信越化学工業(株) シリコーン電子材料技術研究所　
入船 真治		電子線硬化性シリコーンの開発
43
1995.4		千葉大学 工学部　
杉山 和之		光崩壊性ポリマーの情報記録への応用
43
1995.4		東海大学　
村原 正隆		エキシマレーザーを用いたテフロン表面への官能基の置換と接着性向上
43
1995.4		ウシオ電機(株) 技術研究所　
五十嵐 龍志		誘電体バリア放電エキシマランプ
42
1995.2		電気興業(株) 高周波事業部　
藤沢 高志 		高周波電子線照射装置の開発
42
1995.2		(株)サムコインターナショナル研究所　
辻 理 		プラズマ重合による表面処理技術
42
1995.2		日本原子力研究所 高崎研究所　
工藤 久明 		高分子材料の低温及びイオン照射効果
42
1995.2		(株)吉野工業所 松戸工場　
大和田 豊一 		低エネルギーEBによる耐熱性PEチューブ容器の開発
42
1995.2		住友スリーエム(株)　
川手 恒一郎		放射線硬化による形状記憶樹脂
41
1994.11		東京大学 工学部　
山本 俊 		最近の感光性ポリイミドの研究開発動向
41
1994.11		関西ペイント(株) 新規事業本部　
古沢 智		フォトレジストの水溶化について
41
1994.11		新日本製鐵(株) 表面処理研究部　
上野 長治 		EBC法を用いた塗装トンネル金属内装板の開発－印刷製品の開発－
41
1994.11		十條化工(株) 羽生技術センター　
加藤 正廣 		スクリーン印刷におけるUVインキ
41
1994.11		日本合成ゴム(株) 光・電子材料事業部　
大高 亨 		ビニルエーテル／マレイン酸系光硬化技術材料
40
1994.9		神奈川大学 工学部
亀山 敦		新しい多官能性ビニルエーテルモノマーおよびオリゴマーの合成と光硬化反応
40
1994.9		東亜合成化学工業(株) つくば研究所
佐々木 裕		環状エーテルモノマーの光カチオン重合
－四員環エーテルであるオキセタン化合物の反応性－
40
1994.9		東洋インキ製造(株) 筑波研究所
安池 円		可視光重合開始剤
40
1994.9		東芝シリコーン(株) 第三製品技術部
小林 敬司		UV光カチオン硬化型剥離紙シリコーンの開発
39
1994.7		日本曹達（㈱　機能製品研究所
高橋　栄治		新しいカチオン重合開始剤
39
1994.7		日本化薬(株) 化学品研究所
横島 実		水溶性UV・EB硬化型樹脂
39
1994.7		東京大学 工学部
高木 太郎		光造形法によるマイクロマシンの制作－現状と展望－
39
1994.7		日新ハイボルテージ(株) EB技術部
柏木 正之		低エネルギーEB利用分野における装置と利用の現状
39
1994.7		日本原子力研究所 高崎研究所
佐々木 隆		RadTech North America ’94報告－各国の動向と応用－
39
1994.7		日本合成ゴム(株) 光・電子材料事業部
吉田 輝男		RadTech North America ’94報告－材料の最近の動向－
38
1994.5		京都工芸繊維大学 繊維学部
Qui Tran-Cong		光架橋反応を利用した二成分高分子混合系のモルフォロジー制御
38
1994.5		京都大学 工学部
西本 清一		高分子材料のモルホロジーと放射線劣化
38
1994.5		日本化薬(株) 化学品事業本部
磯部 孝治		光重合開始剤
38
1994.5		日本合成ゴム(株)
東京研究所 渡辺 毅		立体成型用樹脂の成形精度向上について
37
1994.2		東京工業大学 資源化学研究所
遠藤 剛		“潜在性触媒”の分子設計と応用
37
1994.2		三重大学 工学部
富岡 秀雄		最近の光開始剤の進歩
37
1994.2		日本ゴム合成(株)
宮下 聡		LSIレジストの現状と将来の動向
37
1994.2		セイコーエプソン(株) 中島 幹人・
三菱レイヨン(株) 福島 洋		光硬化型眼鏡レンズの開発
36
1993.11		Philips Research Laboratories
J. G. H. Kloosterboer		Network formation by chain crosslinking photopolymerization
（主鎖架橋型の光重合による網目構造形成）
36
1993.11		Univ. Southern Mississippi
C. E. Hoyle		Liquid crystalline polymers produced by photoinitiated polymerization
（光重合により生成する液晶性高分子）
36
1993.11		Univ. Montpellier II
M. J. M. Abadie		Recent advances on photosensitive thin film formulations
（感光性薄膜の調整法に関する最近の進歩）
36
1993.11		RPC Industries
A. F. Klein		Electron beam processors and processes
（電子ビーム処理装置と処理過程）
35
1993.9		大日本インキ化学工業(株)
竹内 清文		高分子分散液晶の利用と展望
35
1993.9		物質工学工業技術研究所
長沢 順一		ピリジニウムイリド基を持つ感光性ポリビニルアルコール
35
1993.9		日本コンタクトレンズ(株)
栗秋 政光		高分子材料のプラズマ処理の医療材料への応用
－シリコーンラバーコンタクトレンズ表面の親水化処理－
35
1993.9		(株)アーデル
澤本 健之		光（可視光を含む）硬化型光学接着剤
34
1993.7		京都大学 工学部
伊藤 紳三郎・山本 雅英		励起三重項増感機構
34
1993.7		神崎製紙(株) 研究所
向吉 俊一郎		高品質ビデオプリンター用感熱記録体
34
1993.7		日本チバガイギー(株) 添加剤事業部
古濱 亮		光重合開始剤
34
1993.7		大阪工業試験所
市橋 太一		UV硬化樹脂のホログラムへの応用
34
1993.7		日新ハイボルテージ(株) EB加工技術センター
中井 康二		EB照射における照射条件の影響
33
1993.4		日本合成ゴム(株) 開発センター
宇加地 孝志		最近の光ファイバーコーティング剤の動向
33
1993.4		三菱レイヨン(株) 中央研究所
徳原 千穂		プリント配線板直接描画用ドライフィルムレジスト
33
1993.4		(株)きもと 研究開発課
杉山 靖典		非銀塩リスフィルムの現状
33
1993.4		大蔵省 印刷局 研究所
河村 英司		電子線の印刷への応用
33
1993.4		近畿大学 理工学部
嘉悦 毅		放射線を利用したバイオマテリアルの研究
32
1993.2		東京工業大学 資源化学研究所
池田 富樹		高分子液晶を用いた光記録材料
32
1993.2		新日本製鐵(株) 先端技術研究所
渡部 和弘		フラレレン骨格を有するアクリレート樹脂の物性と応用
32
1993.2		大阪有機化学工業(株) 開発部
上林 泰二		低皮膚刺激性UV・EBモノマー
32
1993.2		静岡大学 理学部 化学教室
橋爪 裕司		光合成膜の構造と機能
32
1993.2		ユニオンカーバイド(株) 塗料樹脂部門
ブライアン・ハンラハン		カチオンキュア高速硬化システム
31
1992.12		静岡大学 農学部
上埜 武夫		紙・板紙の諸特性に及ぼす放射線の影響
31
1992.12		三和化学工業 研究開発課
白石 勝敏		EB硬化型粘着剤用樹脂の開発
31
1992.12		日新ハイボルテージ(株) 技術部
上原 昇平		EB装置の工業利用について
31
1992.12		昭和電工(株) 化学品研究所
細田 喜一		消色性記録材料
30
1992.9		東京大学 原子力研究総合センター
柴田 裕美		イオンビームによる高分子レジスト膜への照射効果
30
1992.9		神奈川大学 工学部
西久保 忠臣		光カチオン重合触媒を用いたビニルエーテルモノマーおよびオリゴマーの架橋、硬化反応
30
1992.9		アイエスピー・ジャパン(株)
福田 勝		ビニルエーテル類のカチオン重合技術とその応用
30
1992.9		凸版印刷(株) 総合研究所
坂川 誠		液晶ディスプレイ用カラーフィルターの現状と課題
29
1992.7		大阪府立大学 工学部
白井 正充		光酸発生剤を利用する高分子表面加工
29
1992.7		富士写真フィルム(株) 研究部
梅原 明		画像形成用フォトポリマーの現状と動向
29
1992.7		日本化薬(株) 化学品事業本部
下宮 敬三		ラドテック・アメリカ参加報告 －１「材料」
29
1992.7		日新ハイボルテージ(株) EB加工技術センター
水沢 健一		ラドテック・アメリカ参加報告 －２「装置」
29
1992.7		東洋インキ製造(株) 開発研究所
飯田 保春		ラドテック・アメリカ参加報告 －３「応用」
28
1992.4		東京大学 生産技術研究所
瓜生 敏之		EB照射による重合および高分子架橋反応
28
1992.4		岩崎電気(株) EB事業部
松本 雅光		EB装置における新技術
28
1992.4		Russian Academy of Sciences
Dr. G. V. Shiryaeva		Application of UV/EB Coating to Different Substrates
（UV/EB硬化塗料のいろいろな材料への応用）
28
1992.4		Russian Academy of Sciences
Dr. V. Ya. Kabanov		Surface Modification by Radiation-induced Graft-polymerization
（放射線グラフト重合による表面改質）
27
1992.2		山形大学 工学部
上田 充		化学増幅型フォトレジスト材料の現状
27
1992.2		(株)スリーボンド 研究所
松山 隆夫		紫外線硬化性接着剤
27
1992.2		大阪有機化学工業(株) 研究部
森 吉弘		紫外線硬化型粘着剤
27
1992.2		大日本インキ化学工業(株) 製罐塗装剤技術G
高橋 誠		UV硬化型金属印刷用インキ
27
1992.2		三菱レイヨン(株) 商品開発研究所
福島 洋		レンズ表面処理のためのUVハードコート技術
26
1991.11		ソルテック筑波研究所　
阿刀田 伸史		放射光によるリソグラフィの現状と将来
26
1991.11		信越化学(株) シリコーン電子材料技術研究所　
大庭 敏夫		EB硬化型シリコーンの開発と剥離紙への応用
26
1991.11		日新製鋼(株) 新材料研究所　
森 浩治		低エネルギー電子線によるフィルムの表面改質
26
1991.11		都立アイソトープ総合研究所　
沢井 健		ラドテック・ヨーロッパ参加報告 －１「全般・装置」
26
1991.11		日立化成(株) 下館研究所　
上原寿茂		ラドテック・ヨーロッパ参加報告 －２「材料」
26
1991.11		凸版印刷(株) 総合研究所基礎研究センター　
岡野滋		ラドテック・ヨーロッパ参加報告 －３「応用」
25
1991.10		静岡大学 教育学部　
板垣 秀幸		蛍光プローブ法による高分子フィルム中の物性評価
25
1991.10		東京工業大学 資源化学研究所　
市村 國宏		液晶配向の光制御と分子界面
25
1991.10		出光石油化学(株) 開発部　
倉橋 明彦		高硬度UVコーティング剤「出光PPZ」
24
1991.7		松下電器産業(株) 半導体研究センター　
遠藤 政孝		クォータミクロン時代の露光技術
24
1991.7		日本油脂(株) 化薬研究所　
須山 修治		ペルオキシ基含有フォトイニシエーターについて
24
1991.7		名古屋市工業研究所 高分子部　
吉田 弘		紫外線硬化型粘着剤の製造と利用技術
24
1991.7		広栄化学工業(株)　
神野 卓彦		帯電防止性UV硬化樹脂
24
1991.7		東洋紡績(株) 総合研究所　
小寺 宣一		EB硬化型ポリエステル系樹脂の展開
23
1991.4		Loctite Corp.　
Dr. S. P. Pappas		紫外線硬化型接着剤
UV‑cure adhesives
23
1991.4		CNRS Laboratoire de Photochimie Generale　
Prof. C. Decker		紫外線硬化塗料による材料の表面処理
Surface treatment of materials by UV‑curable coatings
23
1991.4		Comtech GmbH　
Dr. A. Hussain		表面加工における複合材料の界面解析
Characterization of interface and composite materials in surface finishing
23
1991.4		Energy Sciences, Inc.　
Mr. M. Fletcher		電子線照射による技術革新はさらに進展する；新しい表面バリヤー高分子
The EB Revolution Continues: New Barrier Polymers
22
1991.2		東京工業大学 工学部　
柿本 雅明		光分解（ポジ）型耐熱性縮合系高分子の合成
22
1991.2		千葉大学 工学部　
杉田 和之		微細加工用レジストの最近の研究動向
22
1991.2		三菱レイヨン(株)　
新本 雅樹		光ディスク用紫外線コーティング剤
22
1991.2		太陽インキ製造(株)　
日高 勇		液状フォトソルダーレジストの現状と今後の展開
22
1991.2		住友重機械工業(株)　
田中 裕実		工業用低エネルギー電子加速器ブロードビームRについて
21
1990.11		昭和高分子(株) 開発企画部　
滝山 栄一郎		高分子量ラジカル硬化型樹脂“ビオレックス”について
21
1990.11		大阪府立大学 工学部　
角岡 正弘		UV硬化塗膜の耐候（光）性
21
1990.11		上智大学 理工学部　
杉森 彰		有機金属錯体の光化学
21
1990.11		武田薬品工業(株) 化学品事業部　
久保田 勉		UV硬化型プリントラミネート用水系接着剤
21
1990.11		日本石油化学(株) 研究部　
大美賀 広芳		電着レジスト
20
1990.9		東京都立アイソトープ総合研究所　
今井 正彦		ポリエチレン・ポリプロピレンの放射線照射の影響
20
1990.9		大日本印刷(株) 中央研究所　
滝口 良平		低エネルギー型電子線によるポリマー・モノマー共存系における高分子化反応
20
1990.9		北海道大学 工学部 精密工学科　
楢原 弘之		光造形用樹脂に関する基礎研究
20
1990.9		メルク・ジャパン(株)　
並木 康吉		光開始剤の分子吸光係数から見た塗膜厚と光開始剤添加量の論理的な組み合わせ
20
1990.9		三菱レイヨン(株) 商品開発研究所　
新本 雅樹		光ディスク用紫外線コーティング剤
19
1990.7		東京大学 原子力総合研究センター　
田川 精一		高分子に対する照射線効果の最近の話題
19
1990.7		日本曹達(株) 機能製品研究所　
森川 隆男		光カチオン硬化型エポキシ樹脂の応用
19
1990.7		日新製鋼(株) 新材料研究所　
増原 憲一		鋼板へのEB照射技術
19
1990.7		新中村化学工業(株) 開発技術研究所　
横山 功		RadTech North America ’90の報告（UVC及びEBC材料の現状）
19
1990.7		大日本印刷(株) 建材研究所　
塚田 正樹		RadTech North America ’90の報告（装置と応用分野における最近の話題）
18
1990.4		大阪大学院 プロセス工学専攻　
朴 鐘震		電子移動による光増感反応
18
1990.4		京都大学 原子炉実験所　
山岡 仁史		高分子の放射線照射効果
18
1990.4		凸版印刷(株) 精密電子研究所　
星 久夫		液晶ディスプレイ用カラーフィルター
18
1990.4		東亜合成化学工業(株) 研究所　
実松 徹司		塗料・インキビヒクル用UV・EB硬化樹脂
18
1990.4		(株)生産開発科学研究所　
赤松 清		光成形シートの開発と応用
17
1990.2		日本原子力研究所 高崎研究所　
町 末男		放射線プロセスの動向と将来展望
17
1990.2		（株）東レリサーチセンター　
石谷 炯		高分子材料の表面構造解析
17
1990.2		（株）豊田中央研究所　
日置 辰視		イオン注入による高分子改質
17
1990.2		東洋インキ製造(株)　
沢村 正志		ラドテックヨーロッパ参加報告（応用）
17
1990.2		日本曹達(株)　
津田 秀雄		ラドテックヨーロッパ参加報告（材料・その他）
16
1989.11		CNRS（France）
Dr. C. Decker		Real Time Monitoring of Ultra Fast Curing by UV radiation and Laser Beam
16
1989.11		松下電器産業(株)　
小川 一文		放射線による単分子膜の重合とリソグラフィーへの応用
16
1989.11		日本大学 生産工学部　
大谷 利勝		感光性樹脂模型による金型製作
16
1989.11		岩崎電気(株) 特機開発部　
伊藤 孝志		瞬点形UVメタルハライドランプ
15
1989.9		千葉大学 工学部　
中平 隆幸		高分子における増感とエネルギー移動
15
1989.9		化学技術研究所　
矢部 明		エキシマレーザーと高分子
15
1989.9		新日鉄(株) 表面処理センター　
上野 長治		EBC法による高硬度耐汚染性鋼板
15
1989.9		大日本印刷(株) 建材研究所　
塚田 正樹		UV・EB硬化技術を用いた機能性コーティングフィルム
14
1989.5		神奈川大学 工学部　
西久保 忠臣		光機能性高分子
14
1989.5		（株）東レ　
平本 淑		エレクトロニクス材料としての感光性ポリイミド
14
1989.5		大分大学 工学部　
岡田 紀夫		電子線照射による重合と硬化
14
1989.5		大成建設（株）　鶴田 裕・杉本 賢司
関西ペイント（株）丸山 攻・小川 正男		電子線硬化塗料の大理石塗装への適用
14
1989.5		日新ハイボルテージ（株）　
坂本 勇		EB照射装置の現状と将来動向
13
1989.2		京都工芸繊維大学 繊維学部　
増原 宏		レーザーアブレーションの分子論
13
1989.2		大阪府立大学 工学部　
北尾 悌次郎・中澤 博行		機能性色素の情報記録材料への応用
13
1989.2		アイ・シー・アイ・ジャパン(株)　
道端 孝久		可視光硬化樹脂
13
1989.2		大日本塗料(株)　
桐山 義行		厚膜型紫外線硬化エナメル
12
1988.12		大蔵省印刷局　
草木 里一朗 		凹板インキの放射線硬化
12
1988.12		大阪府立産業技術総合研究所　
丸谷 洋二		3次元造形用UV硬化樹脂の要求特性
12
1988.12		伯東(株) 応用化学事業部　
浦上 憲雄 		DPCによる感光性樹脂の光反応性の評価
12
1988.12		東洋インキ製造(株) 開発研究所　
土子 進 		鋼板用EB転写システム
11
1988.10		RadTech Europe. President,
Dr. Juerg R. Seidel		ヨーロッパにおける紫外線と電子線硬化技術の最近の進歩
“Recent Progress of UV and EB Curing in Europe”
11
1988.10		Res. Inst. for Plast Industry,
Dr. Tibor Czvikovszky 		東欧諸国における電子線硬化の現状
“Present Status of EB Curing in Eastern Countries”
11
1988.10		Univ. of New South wales,
Prof. John L. Garnett		相補う硬化法としての紫外線と電子線硬化の技術
“UV and EB as Complementary Radiation Curing Techniques”
11
1988.10		North Dakota State Univ.
Prof. S.Peter Papas		光重合とその画像形成への応用
“Photoimaging Applications”
11
1988.10		CIBA-GEIGY
Dr. Hermann Angerer		光カチオン重合の化学とフェロセン系光開始剤の応用
“Cationic Curing Chemistry and Applications for Ferrocene Photointitators”
10
1988.7		三菱レイヨン(株)　
中本 英夫		RadTech ’88報告 I：米国におけるEBCの現状
10
1988.7		加商(株)　
大村 貞明		RadTech ’88報告 II：RadTech Internationalにおける最近の話題
10
1988.7		日本ペイント(株)　中研
石原 直		UV硬化塗料の紙加工への応用
10
1988.7		日本油脂㈱ 筑波研
松本 竹男		感光樹脂の歯科分野への応用
9
1988.5		日本原子力研究所 高崎研究所　
細井 文雄		放射線によるカチオン重合硬化
9
1988.5		クラレ(株) メディカル研究開発室　
山内 淳一		歯科用光硬化型修復材料
9
1988.5		東洋インキ製造(株) 開発研究室　
小林 敬		EB照射による印刷抵抗体の硬化
9
1988.5		東京都立アイソトープ総合研究所　
銘谷 和夫		放射線による繊維の難燃化
8
1988.3		京都大学医用高分子研究センター　
筧 義人		UVおよびEBによる表面グラフト処理
8
1988.3		東芝(株) 総合研究所　
早瀬 修二		高解像度フォトレジスト
8
1988.3		住友金属工業(株) 総合技術研究所　
新井 哲三		紫外線硬化技術の鋼管防食への応用について
8
1988.3		大阪大学理学部　
蒲池 幹治		光開始剤－アシルホスフィンオキシドの光分解と生じたラジカルの反応性
8
1988.3		オリンパス光学工業(株)　
管野 敏之		UV・EBの光記録への応用
7
1988.1		千葉大学工学部　
小関 健一		レーザー記録用フォトポリマー
7
1988.1		TDK(株)　
久保田 悠一		EB硬化によるフロッピィディスクの開発
7
1988.1		日本チバガイギー(株)　
増田 彰宏		プリント基盤向けエポキシフォトポリマー
7
1988.1		アイグラフィクス(株)　
神部 彰		UV照射の応用としての超促進性耐候試験材について
6
1987.11		東京大学 工学部　
田畑 米穂 		UV・EBによる表面加工－両プロセスの特徴、比較および将来の展望－
6
1987.11		住友電気工業（株）　
増田 重雄 		光ファイバー用UVコーティング材
6
1987.11		トヨタ中央研究所　
野田 正治 		イオンビームによる表面加工
6
1987.11		大阪大学 工学部　
稲木 良昭		核酸の光化学と超解像度フォトレジスト
6
1987.11		日本チバガイギー（株）　
Dr. G. Schlosser		New Development in Radiation and Cationic Polymerization
5
1987.9		京都大学 工学部　
山本 雅英		高分子固体中における光二重化反応
5
1987.9		東海大学 工学部　
中村 賢市郎		電子線リソグラフィー
5
1987.9		松下電器（株）　
遠藤 政孝		半導体リソグラフィーにおける紫外線感光性樹脂
5
1987.9		ウシオ電機（株）　
大沢 理		紫外線硬化接着用スポット照射装置
5
1987.9		東京大学 工学部　
勝村 肇介		低エネルギー電子線照射装置の最近の進歩
4
1987.7		東亜合成（株）　
富永 幸澄		Radcure Europe ’87報告（1）新製品・新材料のトピックス
4
1987.7		三菱レイヨン（株）
宮川 紘雄		Radcure Europe ’87報告（2）応用面でのトピックス
4
1987.7		千葉大学 工学部　
杉田 和之		Radcure Europe ’87報告（3）各セッションの紹介と特色
4
1987.7		日本チバガイギー（株）　
堀江 邦彦		Radcure Europe ’87報告（4）光重合開始剤の動向
4
1987.7		日本原子力研究所 高崎研究所　
佐々木 隆		電子線の散乱とその化学的効果－低エネルギー電子線の照射技術－
4
1987.7		大日本印刷（株）　
能代 篤三		UV・EBを利用した機能性コーティング製品
3
1987.4		三重大学 工学部　
富岡 秀雄 		UV硬化性樹脂の光重合開始剤について
3
1987.4		日本写真印刷（株）　
辻 良治 		ハードコートの転写箔への展開
3
1987.4		日新製鋼（株）　
増原 憲一		EB硬化塗膜と鋼板との接着性向上へのアプローチ
3
1987.4		大阪府立大学 工学部　
角岡 正弘		光開始によって生成する活性種とその高分子系での利用
2
1987.2		Lambda Physik　
Dr. Reiner Vehrenkamp		Excimer Laser Technology Today and Tomorrow（エキシマレーザー技術の現状と将来）
2
1987.2		関西ペイント（株）　
飯田 高三		光硬化性樹脂による酵素・菌体の固定化
2
1987.2		新日本製鉄（株）　
平 武敏		UV硬化型固体潤滑鋼板の開発
2
1987.2		東京工業大学 資源研　+C87
遠藤 剛 		非収縮性モノマー
2
1987.2		東京工業大学 境界研　
堀江 一之 		発光プローブ法による高分子固相反応の解析
1
1986.10		技術コンサルタント
谷畑 直		「Radcure (UV/EB硬化技術）国際会議の経緯と89年9月ボルチモアでの国際会議のトピックス」
1
1986.10		Cray Valley Products
Dr. Kelvin J.O’Hara		「Prepolymers and Monomers for U.V. Curing 紫外線硬化型プレポリマーとモノマー」
1
1986.10		RPC Industries
Antino M. Rodrigues		「Application of Low Energy EB for Surface Finishing低エネルギー電子線の表而加工への応用」
1
1986.10		Energy Sciences Intern’!
Dr. Jurg R.Seidel		「EB Curing of Adhesive and Release Coatings 粘着層と剥離層の電子線硬化」
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